李 赟，魏勝軍，高彥龍，沈博城

（1.石家莊市華通環(huán)保工程有限公司，河北 石家莊050060；2.石家莊清特化工科技有限公司，河北 石家莊050060）

1 引言

抗生素生產(chǎn)廢水是一類成分復(fù)雜、色度高、生物毒性大的難降解高濃度有機廢水，其生產(chǎn)過程中產(chǎn)生的高濃度廢水是目前國內(nèi)外水處理的難點。某藥廠廢水處理后必須滿足以下要求：COD≤300mg／L，BOD5≤150mg／L，NH3－N≤25mg／L，SS≤200mg／L。由于該藥廠廢水處理站出水COD濃度達不到排放要求，為了盡快使其出水達標排放，做了以下小樣試驗。

粉末炭活性污泥法就是利用粉末活性炭比表面積大、吸附能力強的特性，使粉末炭與活性污泥相互吸附包裹生長，在吸附難生物降解、有毒污染物同時不斷進行污泥回流，變相延長了有機物在生化池內(nèi)停留時間，使得難生物降解、有毒污染物被微生物逐漸降解，活性炭得到再生，從而繼續(xù)吸附有機物，另外加上Fenton試劑強氧化作用使得廢水達到最終處理要求。

2 材料與方法

2.1 試驗用材料

（1）試驗用水：取自該制藥廠抗生素生產(chǎn)廢水處理站預(yù)處理段出水，其水質(zhì)見表1。

表1 預(yù)處理完出水水質(zhì) mg／L

（2）試驗菌種：取自該制藥廠廢水處理站生化池內(nèi)泥水混合液，污泥濃度3g／L。

（3）試驗儀器：2L燒杯2個、魚泵2個、79－1磁力加熱攪拌器1臺、S－25p H計1臺，其他玻璃儀器若干。

（4）試驗藥品：30%H2O2，F(xiàn)eSO4·7 H2O 晶體，粉末活性炭，95%～98%濃硫酸，NaOH。

2.2 試驗方法

取該制藥廠廢水處理站生化池內(nèi)泥水混合液4L，均分兩份倒入準備好的燒杯中，根據(jù)粉末炭活性污泥法在廢水處理上多年運行經(jīng)驗，向其中一個燒杯投加3g粉末活性炭，使粉末炭濃度達到1500mg／L，然后用魚泵曝氣一周后，開始向燒杯中進、出水，并向出水中加入Fenton試劑，化驗記錄進、出水COD濃度。

3 結(jié)果與討論

國內(nèi)處理抗生素生產(chǎn)廢水的方法很多，該制藥廠要求原有處理系統(tǒng)要充分利用，選擇了“粉末炭活性污泥法＋Fenton試劑”與“普通活性污泥法”進行對比試驗，投加粉末炭的活性污泥經(jīng)過一段時間培養(yǎng)馴化后，發(fā)現(xiàn)粉末炭與活性污泥相互吸附包裹生長狀態(tài)良好，開始正常進出水，連續(xù)運行10d的化驗數(shù)據(jù)如表2。

表2 進、出水COD濃度化驗記錄

8月1日 7576 783 89.7 162 97.9 8月2日 7846 794 89.9 178 97.7 8月3日 7858 787 90.0 197 97.5 8月4日 6749 759 88.8 195 97.1平均值7004.2 759 89.1 186 97.3

根據(jù)表2中數(shù)據(jù)繪制出水COD濃度對比和出水COD去除效率對比如圖1和圖2。

圖1 出水COD濃度對比

圖2 出水COD去除效率對比

從表2進出、水COD濃度化驗記錄上可以看出“普通活性污泥法”處理抗生素生產(chǎn)廢水后有機污染物COD平均濃度為759mg／L，平均去除率89.1%，而“粉末炭活性污泥法＋Fenton試劑”強化處理抗生素生產(chǎn)廢水后有機污染物COD平均濃度186mg／L，平均去除率為97.3%，比“普通活性污泥法”去除率高出8.2%，另外從圖1和圖2可以明顯看出，“粉末炭活性污泥法＋Fenton試劑”強化處理抗生素生產(chǎn)廢水比“普通活性污泥法”處理效果好很多，完全能夠達到該制藥廠廢水排放要求。

4 結(jié)語

以上對比試驗結(jié)果證明，采用“粉末碳活性污泥法＋Fenton試劑”處理該制藥廠抗生素生產(chǎn)廢水，效果顯著，可以達到排放要求，此方法針對該制藥廠升級改造實際可行。

［1］買文寧，楊 明，曾令斌.抗生素廢水處理工程的設(shè)計與運行［J］.給水排水，2002（4）.

［2］陳勝兵，何少華，婁金生.Fenton試劑的氧化作用機理及其應(yīng)用［J］.環(huán)境科學(xué)與技術(shù)，2004，27（3）：105～107.

［3］蘭淑澄.活性炭水處理技術(shù)［M］.北京：中國環(huán)境科學(xué)出版社，1991：103.

［4］張洪林.難降解有機物的處理技術(shù)進展［J］.水處理技術(shù)，1998，24（5）：24～26.

［5］程麗華，黎 明，倪福祥.高級氧化技術(shù)在水處理中的應(yīng)用［J］.青島建筑工程學(xué)院學(xué)報，2003，24（I）：22～25.