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      跑道型結(jié)構(gòu)光子晶體波導(dǎo)定向耦合器

      2013-08-08 10:33:42崔乃迪寇婕婷梁靜秋王維彪馮俊波
      發(fā)光學(xué)報(bào) 2013年3期
      關(guān)鍵詞:波導(dǎo)電磁波光子

      崔乃迪,寇婕婷,梁靜秋,王維彪,郭 進(jìn)*,馮俊波,滕 婕

      (1.中國(guó)電子科技集團(tuán)公司第三十八研究所,安徽合肥 230088;2.中國(guó)科學(xué)院合肥智能機(jī)械研究所,安徽合肥 230031;3.中國(guó)科學(xué)院長(zhǎng)春光學(xué)精密機(jī)械與物理研究所應(yīng)用光學(xué)國(guó)家重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室,吉林長(zhǎng)春 130033)

      1 引 言

      光子晶體又被稱為光半導(dǎo)體,是由具有不同介電常數(shù)的物質(zhì)在空間周期性排列形成的人工微結(jié)構(gòu)[1-2]。光子晶體具備光子禁帶,具有控制光在其內(nèi)傳播的特性,是實(shí)現(xiàn)未來(lái)大規(guī)模光電集成以及全光網(wǎng)絡(luò)的重要潛在結(jié)構(gòu)。通過(guò)在完整的二維光子晶體中引入缺陷,破壞光子禁帶從而引入缺陷態(tài),可用來(lái)制作二維光子晶體功能器件。在二維光子晶體中引入點(diǎn)缺陷即可得到光子晶體諧振腔[3-5],光子晶體諧振腔具有很高的態(tài)密度和品質(zhì)因子,且比傳統(tǒng)的諧振腔體積更小。若引入線缺陷即去掉數(shù)排介質(zhì)柱,那么相應(yīng)頻率的電磁波就只能在線缺陷內(nèi)傳播,離開(kāi)線缺陷就會(huì)迅速衰減,可以通過(guò)在二維光子晶體中引入線缺陷來(lái)制作光子晶體波導(dǎo)[6-8]。近年來(lái),基于光子晶體材料的光電功能器件得到了廣泛的關(guān)注,利用光子晶體波導(dǎo)和光子晶體諧振腔作為基礎(chǔ)器件單元,光子晶體波分復(fù)用器[9-11]、耦合器[12-13]、濾波器[14-17]等光子晶體光電器件已經(jīng)成為該領(lǐng)域的研究熱點(diǎn)。在光波導(dǎo)光路中,兩個(gè)相鄰的波導(dǎo)間可能產(chǎn)生耦合,并能夠?qū)⒐怦詈系较噜彶▽?dǎo)中。我們將光從一個(gè)波導(dǎo)完全耦合到另一個(gè)波導(dǎo)過(guò)程中經(jīng)過(guò)的耦合長(zhǎng)度稱為耦合周期,不同頻率電磁波的耦合周期不同,這就為利用波導(dǎo)間耦合實(shí)現(xiàn)不同頻率電磁波的分光提供了可能。波導(dǎo)定向耦合器被廣泛應(yīng)用于光開(kāi)關(guān)[18-19]、波分復(fù)用[20-21]和光分束器[22-23]等器件中,在光信號(hào)處理、光通信、集成光路以及光子計(jì)算等領(lǐng)域有著舉足輕重作用[18,24]。而傳統(tǒng)的基于光波導(dǎo)的定向耦合器由于耦合周期比較長(zhǎng),故體積大、集成度低。例如,基于光波導(dǎo)的定向耦合器通常需要數(shù)百微米甚至更長(zhǎng)的長(zhǎng)度[25-26],而基于光子晶體波導(dǎo)的定向耦合器可以將耦合長(zhǎng)度控制在數(shù)十個(gè)微米甚至更短,具有體積小、結(jié)構(gòu)緊湊、易于大規(guī)模光電集成等優(yōu)點(diǎn)。

      本文提出了一種基于二維正方晶格結(jié)構(gòu)的光子晶體波導(dǎo)定向耦合器,由主波導(dǎo)和耦合波導(dǎo)兩部分構(gòu)成。研究發(fā)現(xiàn),主波導(dǎo)和耦合波導(dǎo)間介質(zhì)柱的結(jié)構(gòu)參數(shù)對(duì)定向耦合器的性能有著較大的影響,通過(guò)優(yōu)化介質(zhì)柱的結(jié)構(gòu)參數(shù)可以大幅減小耦合周期,從而進(jìn)一步減小器件體積。相對(duì)于基于光波導(dǎo)的定向耦合器,本文設(shè)計(jì)的基于光子晶體波導(dǎo)的耦合器件具有更小的體積、更緊湊的結(jié)構(gòu)以及更高的傳輸效率。

      2 光子晶體定向耦合器的設(shè)計(jì)

      在SOI(Silicon on insulator)上以正方晶格硅柱陣列光子晶體結(jié)構(gòu)為基礎(chǔ),設(shè)計(jì)定向耦合器的結(jié)構(gòu)。其中SOI頂硅層厚為220 nm,下方二氧化硅埋層厚為3 μm。硅材料折射率為3.4,刻蝕硅柱高為220 nm以形成二維平板光子晶體結(jié)構(gòu),從而限制光在垂直于器件平面上的泄露損耗。光子晶體結(jié)構(gòu)填充率為f=0.4。這里定義填充率f=D/a,其中D為硅柱直徑,a為晶格周期。利用平面波展開(kāi)法,計(jì)算得其具有歸一化頻率0.29~0.42的TM波禁帶,如圖1所示。

      圖1 TM波光子禁帶Fig.1 The TM photonic band

      定向耦合器的主要原理是相鄰兩波導(dǎo)間的電磁波耦合,而耦合系數(shù)與兩波導(dǎo)間的距離相關(guān)。這里我們?cè)趦刹▽?dǎo)間僅保留一排硅柱結(jié)構(gòu),以提高波導(dǎo)間的耦合系數(shù)。圖2(a)所示為當(dāng)主波導(dǎo)和耦合波導(dǎo)間僅保留一排介質(zhì)柱時(shí)該結(jié)構(gòu)的色散曲線,其中曲線標(biāo)注的區(qū)域?yàn)槟J絽^(qū),電磁波可以在模式區(qū)內(nèi)傳播;空白區(qū)域?yàn)楣庾咏麕?,在光子禁帶中的電磁波被禁止傳播。另外,空氣的色散曲線也在圖中予以標(biāo)出。在空氣色散曲線上部光子導(dǎo)帶的有效折射率小于空氣的有效折射率,不滿足全內(nèi)反射條件,會(huì)造成垂直基片平面的損耗,無(wú)法高效傳播。本文設(shè)計(jì)的光子晶體定向耦合器在光子禁帶內(nèi)部(歸一化頻率0.29~0.42)存在一奇一偶兩個(gè)模式。圖2(b)給出了該結(jié)構(gòu)色散曲線的局部放大圖。本定向耦合器的設(shè)計(jì)目標(biāo)波長(zhǎng)為1 490 nm和1 550 nm。當(dāng)歸一化波數(shù)k=0.3時(shí),該結(jié)構(gòu)光子晶體定向耦合器的兩個(gè)模式對(duì)應(yīng)的歸一化頻率分別為0.387和0.402,此時(shí)若選擇光子晶體晶格周期為600 nm,則其對(duì)應(yīng)的波導(dǎo)模式波長(zhǎng)分別為1 490 nm和1 550 nm,達(dá)到本文實(shí)現(xiàn)對(duì)這兩束電磁波分光的目的。其中圖2(b)插圖為應(yīng)用平面波展開(kāi)法計(jì)算該結(jié)構(gòu)禁帶特性所采用的超元胞范圍。

      圖2 耦合結(jié)構(gòu)的模式特性。Fig.2 The mode characteristics of the coupling structure.

      電磁波可以在定向耦合器的主波導(dǎo)和耦合波導(dǎo)間實(shí)現(xiàn)耦合,不同波長(zhǎng)電磁波在定向耦合器中的耦合周期不同,可以通過(guò)調(diào)節(jié)定向耦合器的長(zhǎng)度,從而實(shí)現(xiàn)不同波長(zhǎng)電磁波從不同波導(dǎo)出射的目的。圖3(a)和(b)所示分別為波長(zhǎng)1 550 nm和1 490 nm的電磁波在該結(jié)構(gòu)定向耦合器中的場(chǎng)分布,可見(jiàn)電磁波的耦合周期與其波長(zhǎng)成反比。在圖中陰影區(qū)位置,兩種波長(zhǎng)的電磁波場(chǎng)分布分別在耦合波導(dǎo)及主波導(dǎo)中有最大值。如果在陰影區(qū)位置通過(guò)改變波導(dǎo)走向?qū)墒姶挪ǚ珠_(kāi),則可以實(shí)現(xiàn)對(duì)兩束電磁波分光的目的。

      圖3 耦合結(jié)構(gòu)中的場(chǎng)分布。Fig.3 The field pattern of the coupling structure.

      圖4為波長(zhǎng)1 550 nm和1 490 nm的電磁波在耦合波導(dǎo)中場(chǎng)強(qiáng)度隨入射長(zhǎng)度的變化曲線,可見(jiàn)兩種波長(zhǎng)的電磁波其耦合周期分別為31a和47a。當(dāng)耦合長(zhǎng)度為47a時(shí),1 550 nm的電磁波剛好完成1.5個(gè)耦合周期,場(chǎng)分布主要集中在耦合波導(dǎo)中,主波導(dǎo)中場(chǎng)分布極小。而對(duì)于1 490 nm的電磁波正好為一個(gè)耦合周期,其場(chǎng)分布集中于主波導(dǎo)中。若此時(shí)通過(guò)改變波導(dǎo)走向的方式中斷二者之間的耦合,則可以實(shí)現(xiàn)對(duì)兩束電磁波的分光。

      圖4 電磁波場(chǎng)強(qiáng)度隨耦合長(zhǎng)度的變化曲線Fig.4 The normalized intensity of the channel a as a function of the propagation distance

      圖5(a)即為所設(shè)計(jì)的二維光子晶體定向耦合器的結(jié)構(gòu)示意圖,其由主波導(dǎo)和耦合波導(dǎo)構(gòu)成。圖5(b)為主波導(dǎo)和耦合波導(dǎo)的局部放大圖,兩波導(dǎo)間僅由一排介質(zhì)柱相隔。圖5(c)給出了光子晶體定向耦合器的二維結(jié)構(gòu)圖,可見(jiàn)該結(jié)構(gòu)光子晶體定向耦合器的耦合長(zhǎng)度為47a。當(dāng)兩波導(dǎo)耦合長(zhǎng)度達(dá)到47a時(shí),耦合波導(dǎo)發(fā)生90°轉(zhuǎn)彎,從而將兩束光分開(kāi)。由于本文主要討論主波導(dǎo)和耦合波導(dǎo)間的光耦合,故光源放置在主波導(dǎo)內(nèi)部,電磁波從光源到器件的耦合問(wèn)題可參照現(xiàn)有解決方案[27]。另外,分別在主波導(dǎo)和耦合波導(dǎo)出射端放置探測(cè)器以探測(cè)出射電磁波場(chǎng)強(qiáng)度。電磁波從光源發(fā)出,其中1 490 nm的電磁波經(jīng)過(guò)耦合,從端口a出射,而1 550 nm的電磁波則從端口 b出射。

      圖5 光子晶體定向耦合器的結(jié)構(gòu)示意圖。Fig.5 The structure schematic of the photonic crystal direc-tional coupler.

      圖6所示為光子晶體定向耦合器通入波長(zhǎng)為1 550 nm及1 490 nm的電磁波時(shí)光子晶體定向耦合器的場(chǎng)分布圖,可見(jiàn)定向耦合器具有濾波作用。波長(zhǎng)1 550 nm的電磁波從端口b出射,而波長(zhǎng)1 490 nm的電磁波從端口a出射。圖6(c)則給出了當(dāng)入射光為1 550 nm以及1 490 nm兩種波長(zhǎng)的電磁波時(shí),端口a和端口b處探測(cè)器得到的出射電磁波強(qiáng)度以及整個(gè)器件的反射損失。端口a出射1 550 nm電磁波的效率為47.55%,端口b出射1 490 nm電磁波的效率為45.5%,反射損失為 6.95%,而該耦合系統(tǒng)的總效率為93.05%。

      圖6 光子晶體定向耦合器的場(chǎng)分布以及傳輸效率。Fig.6 The field pattern and the transmission efficiency of photonic crystal directional coupler.

      相對(duì)于基于光子晶體諧振腔的耦合器件,基于波導(dǎo)間耦合的波長(zhǎng)選擇器件具有設(shè)計(jì)相對(duì)簡(jiǎn)單、容差高、對(duì)工藝要求低等優(yōu)點(diǎn)。但同時(shí)也具有體積較大、結(jié)構(gòu)不夠緊湊的缺點(diǎn)。對(duì)于基于波導(dǎo)間耦合的波長(zhǎng)選擇器件,要想實(shí)現(xiàn)對(duì)λ1和λ2兩波長(zhǎng)電磁波的分光,需要具備的一個(gè)必要條件:

      其中 n,m=0,1,2……,T1和 T2分別為波長(zhǎng) λ1和λ2的耦合周期。電磁波的耦合周期通常和波長(zhǎng)成反比,所以要想盡量控制器件的體積,就需要合理的設(shè)計(jì)T1和T2的值,并盡量減小m和n。顯然,耦合周期越小,實(shí)現(xiàn)波長(zhǎng)分光所需的耦合長(zhǎng)度就越短,器件也就越有可能設(shè)計(jì)的更為緊湊。另外,對(duì)于極具應(yīng)用價(jià)值的波分復(fù)用器件,由于電磁波波長(zhǎng)間隔較小,其耦合周期更為接近,需要更大的m值才能滿足式(1)條件。如果想要盡量控制器件體積,就必須大幅的減小耦合周期。所以減小電磁波的耦合周期可以減小定向耦合器件體積,同時(shí)為應(yīng)用定向耦合器實(shí)現(xiàn)更為密集的電磁波濾波提供了可能。改變兩波異間介質(zhì)柱結(jié)構(gòu)參數(shù)提供了一種縮短電磁波耦合周期的方法,根據(jù)該方法可以設(shè)計(jì)波長(zhǎng)間隔僅為10 nm的定向耦合器件。

      在基于波導(dǎo)耦合的波分復(fù)用器件中,主波導(dǎo)和耦合波導(dǎo)間光子晶體單元的結(jié)構(gòu)參數(shù)對(duì)耦合器件的耦合特性影響極大。我們這里將主波導(dǎo)和耦合波導(dǎo)間介質(zhì)柱單元沿z方向拉長(zhǎng),這時(shí)其截面為跑道形狀,稱之為跑道型介質(zhì)柱,如圖7(a)所示。其中拉伸長(zhǎng)度為t,介質(zhì)柱直徑仍為D。圖7(b)給出了1 490 nm和1 550 nm波長(zhǎng)電磁波耦合周期隨拉伸長(zhǎng)度t的變化曲線,可見(jiàn)隨著t的增加,耦合周期呈減小趨勢(shì)。當(dāng)t=0.16a時(shí),1 490 nm和1 550 nm波長(zhǎng)電磁波的耦合周期分別僅為16a和15a。耦合周期的減小為縮小器件體積以及實(shí)現(xiàn)信道間隔更小的波分復(fù)用打下了基礎(chǔ)。

      圖7 (a)跑道型介質(zhì)柱結(jié)構(gòu)參數(shù);(b)跑道型介質(zhì)柱拉伸長(zhǎng)度對(duì)耦合周期的影響。Fig.7 (a)The structure parameters of the runway type rods.(b)The coupling period as a function of the stretched length.

      圖8所示為目標(biāo)波長(zhǎng)為1 530 nm和1 540 nm的光子晶體定向耦合器,其中拉伸長(zhǎng)度t=0.3a。在引入跑道型介質(zhì)柱后,該結(jié)構(gòu)定向耦合器對(duì)1 530 nm和1 540 nm電磁波的耦合周期分別為11.5a和11a,那么如果引入115a的耦合長(zhǎng)度,則可以實(shí)現(xiàn)1 530 nm和1 540 nm電磁波的高效分波,并可以將器件尺寸控制在60 μm左右。而若不對(duì)兩波導(dǎo)間介質(zhì)柱進(jìn)行優(yōu)化,則1 530 nm和1 540 nm電磁波的耦合周期分別為38a和36a,想要實(shí)現(xiàn)信道間隔僅為10 nm左右電磁波的高效分光,器件長(zhǎng)度需要達(dá)到200 μm以上。

      圖8 工作波長(zhǎng)為1 530 nm(a)和1 540 nm(b)的光子晶體定向耦合器Fig.8 The photonic crystal directional coupler with the work wavelength of 1 530 nm(a)and 1 540 nm(b)

      3 結(jié) 論

      設(shè)計(jì)了基于SOI材料二維正方晶格介質(zhì)柱陣列結(jié)構(gòu)的光子晶體定向耦合器。當(dāng)介質(zhì)柱填充率為0.2且光子晶體晶格周期為600 nm時(shí),該結(jié)構(gòu)定向耦合器對(duì)1 490 nm和1 550 nm電磁波的耦合周期分別為47a和31a(a為晶格周期)。若選擇定向耦合器的耦合長(zhǎng)度為47a,則可以將兩波長(zhǎng)電磁波分別耦合到耦合波導(dǎo)和主波導(dǎo)中并出射。經(jīng)計(jì)算得到1 490 nm和1 550 nm電磁波的傳輸效率分別為45.5%和47.75%,系統(tǒng)的總效率為93.05%,反射損失為6.95%,此時(shí)器件的長(zhǎng)度可以控制在30 μm左右。另外,主波導(dǎo)和耦合波導(dǎo)間光子晶體單元的結(jié)構(gòu)參數(shù)對(duì)耦合器件的耦合特性影響極大,將其沿著z方向拉伸得到跑道型介質(zhì)柱結(jié)構(gòu),隨著拉伸長(zhǎng)度的增加,電磁波的耦合周期減小。當(dāng)將介質(zhì)柱z方向拉伸0.3a時(shí),1 530 nm和1 540 nm電磁波的耦合周期分別為11.5a和11a,據(jù)此可得到該波長(zhǎng)電磁波定向耦合器的長(zhǎng)度僅為60 μm(耦合長(zhǎng)度為115a)。通過(guò)拉伸介質(zhì)柱的橫向長(zhǎng)度可以大幅減小耦合周期,這對(duì)縮小器件體積以及實(shí)現(xiàn)更為密集的波分復(fù)用有著重要的應(yīng)用意義。

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