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      水浴溫度對化學水浴法制備的CdS薄膜結(jié)構及性能的影響

      2013-09-19 08:53:54杰,劉山,馬成,薛成,胡
      大連工業(yè)大學學報 2013年4期
      關鍵詞:水浴透光率薄膜

      張 正 杰,劉 貴 山,馬 鐵 成,薛 成,胡 志 強

      (大連工業(yè)大學 紡織與材料工程學院,遼寧 大連 116034)

      0 引 言

      Cu(In,Ga)Se2(CIGS)薄膜太陽能電池[1]是近年來光伏領域的研究熱點,作為CIGS薄膜太陽能電池的緩沖層CdS有著重要的作用。CdS薄膜具有高透射率和低電阻率的物理性能,而且CdS是直接帶隙半導體化合物,其禁帶寬度為2.4eV[2]。Cu(In,Ga)Se2的帶隙為1.02eV,而增透層ZnO的帶隙為3.2eV,由于帶隙相差較大,二者直接接觸時構成的異質(zhì)結(jié)時的晶格匹配性較差,會導致異質(zhì)結(jié)界面失調(diào),產(chǎn)生大量缺陷[3]。CdS薄膜作為緩沖層,與CIGS有較好的晶格配比,可以解決晶格匹配失調(diào)的問題[4]。此外,CdS薄膜能夠完整地包覆在CIGS薄膜表面,能有效減少濺射ZnO時對CIGS的損傷;而少量的Cd可以擴散到CIGS表面進行微量摻雜,對改善異質(zhì)結(jié)特性具有重要作用[5]。

      水浴法制備CdS薄膜能夠在液體中一次成型,最小范圍控制有毒物質(zhì)的擴散,因此水浴法是一種制備CdS薄膜的最佳方法[6]。除此之外,水浴法制備的CdS薄膜致密度較高,優(yōu)于磁控濺射等其他方法[7]。因此,研究制備工藝對CdS薄膜的晶格結(jié)構、表面形貌和光學性能的影響規(guī)律,對提高電池的轉(zhuǎn)換率有重要意義[8]。

      作者采用化學水浴法制備CdS薄膜,通過改變水浴溫度來控制CdS薄膜的結(jié)構生長和光電性能。

      1 實 驗

      1.1 樣品的制備

      在鈉鈣玻璃基體上沉積CdS薄膜,制備前先清洗玻璃基體。首先用無水乙醇超聲波振蕩清洗1h,除去玻璃表面的油污,再用去離子水超聲波振蕩清洗1h,烘箱中80℃干燥1h。

      醋酸銨、醋酸鎘為原料,濃度為0.002mol/L,按照1∶1的比例混合,在去離子水中溶解并攪拌均勻。在配置好的溶液中加入一定量的氨水調(diào)整pH,使其達到11.5。將其放置在水浴鍋中并加熱到預定溫度,同時向該溶液中加入一定量0.005mol/L的硫脲,然后攪拌均勻。

      將清洗過的玻璃片置于上述溶液中,按順時針旋轉(zhuǎn),控制轉(zhuǎn)速為120r/min,通過控制水浴溫度在相同時間條件下(30min)制備CdS薄膜。

      1.2 樣品的表征

      采用日本理學D/MAX-3C型X射線衍射儀表征了CdS薄膜的物相結(jié)構;用JM-6460LV型掃描電子顯微鏡對CdS薄膜的表面形貌進行觀察;用PerkiEImer Lambda35型紫外可見光譜測試CdS薄膜的透光率;用TH2683型絕緣電阻測試儀測試CdS薄膜的電阻,正負極間距為2cm。

      2 結(jié)果與討論

      2.1 薄膜結(jié)構分析

      圖1為化學水浴法在不同水浴溫度的條件下沉積的CdS薄膜的XRD圖。CdS薄膜的XRD只在26.74°存在一個特征衍射峰,對應的是立方晶系的(111)晶面或六方晶系的(002)晶面。根據(jù)文獻[9]可知,在60~90℃形成的CdS薄膜為立方晶系和六方晶系混合組分,薄膜在C(111)/H(002)晶面擇優(yōu)取向生長顯著。CdS薄膜的衍射峰強度隨水浴溫度的升高而升高,說明結(jié)晶程度隨水浴溫度升高而得到增強,擇優(yōu)取向生長也更為明顯,且晶體顆粒在高于80℃時得到了充分的生長,這一結(jié)果在圖2中得到了證實。

      圖1 不同溫度CdS薄膜的XRD譜圖Fig.1 XRD patterns of CdS films at different temperature

      圖2 不同溫度CdS薄膜的SEMFig.2 SEM images of CdS films at different temperature

      SEM觀察到的不同水浴溫度下CdS薄膜表面形貌如圖2所示,晶粒細致且均一,約50nm。60℃時CdS薄膜較松散,隨著溫度的升高,CdS薄膜表面致密度提高,晶粒略有長大。對比80和90℃的結(jié)果,薄膜的致密度和顆粒尺寸變化不大。

      2.2 性能分析

      圖3為不同沉積溫度下CdS薄膜的透光率曲線。在550~800nm的可見光區(qū)域內(nèi),平均透光率均超過78%,隨沉積溫度的升高,CdS薄膜的透光率逐漸降低。這是因為水浴溫度較低時,硫脲分解緩慢,基片上沉積的CdS顆粒較少,成孤島狀,未形成連續(xù)的薄膜。溫度逐漸升高后,硫脲能夠迅速分解,CdS薄膜逐漸成層狀形式生長,薄膜能夠連續(xù)生長,并且薄膜致密度也隨之增大。因此隨溫度的升高,薄膜的透光率下降。

      圖3 不同溫度CdS薄膜的透過率Fig.3 Transmittance spectra of CdS films at different temperature

      利用離子束和磁控濺射法制備的CdS薄膜[10-11]的光 吸 收 邊都在500nm 左右,500nm 以下的光幾乎不透過,而化學水浴法制備的CdS薄膜的透光率在500nm以下仍可以達到40%以上,有利于提高CIGS吸收層薄膜的光吸收系數(shù)。

      圖4為CdS薄膜光子能量hν與(αhν)2的關系圖。隨著水浴溫度的升高,CdS薄膜的禁帶寬度逐漸增大,接近CdS晶體帶隙值2.45eV,說明溫度升高,CdS薄膜的結(jié)晶質(zhì)量提高,缺陷態(tài)減少且接近CdS的化學計量比,可在一定程度上減少光生載流子的復合。

      經(jīng)測量,CdS薄膜的電阻值均較高,達到了108Ω,滿足CIGS薄膜太陽電池的基本要求。

      圖4 (αhν)2 與光子能量hν的關系圖Fig.4 Plot of (αhν)2 vs photo energy hνfor CdS thin films

      3 結(jié) 論

      采用化學水浴法以醋酸銨和醋酸鎘為原料在鈉鈣玻璃基底上制備CdS薄膜,薄膜在(111)/(002)晶面擇優(yōu)取向生長,且隨水浴溫度的增加,取向優(yōu)勢更加明顯,薄膜的結(jié)晶程度和致密度得到提高,晶粒尺寸略有增大,其透光率逐漸降低,但平均透光率均為78%以上。

      溫度的提高,薄膜光學帶隙值接近CdS晶體2.45eV,也進一步證明了CdS薄膜晶體程度的提高,減少光電載流子復合的幾率,有利于提高CIGS薄膜太陽電池的轉(zhuǎn)換效率。

      [1]WADA T,HASHIMOTO Y,NISHIWAKI S,et al.High-efficiency CIGS solar cells with modified CIGS surface[J].Solar Energy Materials and Solar Cells,2001,67:305-310.

      [2]王智平,趙靜,王克振.化學沉積參數(shù)對CdS薄膜前驅(qū)物利用率的影響[J].功能材料與器件學報,2012,18(1):75-81.

      [3]THAMBIURAL M,MURUGAN N,MUTHUKUMARASAMY N,et al.Influence of the Cd/S molar ratio on the optical and structural properties of nanocrystalline CdS thin films[J].Journal of Materials Sciences and Technology,2010,26(3):193-199.

      [4]XUE Yu-ming,SUN Yun,HE Qing,et al.Structural characteristic of CdS thin films and their influences on Cu(In,Ga)Se2(CIGS)thin film solar cells[J].Chinese Journal of Semiconductors,2005,26(2):225-229.

      [5]SASIKALA G,THILAKAN P,SUBRAMANIAN C.Modification in the chemical bath deposition apparatus,growth and characterization of CdS semiconducting thin films for photovoltaic application[J].Solar Energy Materials &Solar Cells,2000,62(2):364-367.

      [6]張輝,楊德仁,馬向陽,等.化學沉積法制備CdS薄膜及性質(zhì)研究[J].太陽能學報,2003,24(1):1-4.

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      [9]李華維,羊億,黃岳文,等.化學沉積中立方相和六方相CdS薄膜的制備及其特性[J].太陽能學報,2007,28(5):508-512.

      [10]范平,梁廣興,張東平,等.離子束濺射制備CdS多晶薄膜及性能研究[J].功能材料,2010,41(2):239-242.

      [11]朱興華,楊定宇,孫輝,等.磁控濺射法制備CdS多晶薄膜工藝研究[J].真空科學與技術學報,2011,31(6):671-676.

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