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      1MeV電子加速器輻照劑量的測(cè)量

      2014-02-10 01:49:36杜紀(jì)富李月生
      關(guān)鍵詞:吸收劑量束流電子束

      杜紀(jì)富,姜 燦,王 升,陳 思,李月生

      (湖北科技學(xué)院非動(dòng)力核技術(shù)湖北省協(xié)同創(chuàng)新中心,湖北咸寧 437100)

      0 引 言

      輻射加工是人類和平利用核能的重大成果,現(xiàn)已廣泛應(yīng)用于材料改性、消毒滅菌、食品保鮮、環(huán)境保護(hù)、航空航天、石油化工等各個(gè)領(lǐng)域.目前,全世界經(jīng)輻射加工的產(chǎn)品產(chǎn)值已達(dá)每年數(shù)千億美元,仍以10%~15%的年增長(zhǎng)速度遞增.我國(guó)2010底電子加速器裝置投入運(yùn)行160臺(tái),以輻射化工為主產(chǎn)品的產(chǎn)值約為670億元,目前的工業(yè)用電子加速器裝置數(shù)量正在快速增長(zhǎng).輻照加工裝置的正常運(yùn)行需要對(duì)加速器的輻照參數(shù)進(jìn)行校準(zhǔn),其中吸收劑量值(D)的測(cè)量和校準(zhǔn)是輻射加工劑量學(xué)中的一項(xiàng)重要內(nèi)容,是電子加速器輻照加工的關(guān)鍵參數(shù)之一,它直接影響到被輻照產(chǎn)品的質(zhì)量.如何有效控制產(chǎn)生電子束的輻射劑量、保證產(chǎn)品質(zhì)量一直是人們比較關(guān)注的技術(shù)難題.目前我國(guó)輻照級(jí)電離輻射計(jì)量體系建設(shè)尚在初始階段,無(wú)法適應(yīng)飛速發(fā)展的中國(guó)輻照加工業(yè).中國(guó)計(jì)量科學(xué)研究院于2010年12月24日宣布建成基于化學(xué)劑量計(jì)的輻照加工級(jí)電離輻射標(biāo)準(zhǔn),設(shè)計(jì)了電子直線加速器輻射劑量測(cè)定的解決方案,建立了相應(yīng)的電離輻射標(biāo)準(zhǔn)[1,2].

      國(guó)際原子能機(jī)構(gòu)發(fā)布的TRS277技術(shù)報(bào)告中規(guī)定,對(duì)于能量低于10 MeV且高于5 Me V的電子束,推薦使用平行板電離室測(cè)量其吸收劑量,在TRS398號(hào)技術(shù)報(bào)告中明確提出了能量低于5 Me V的電子束必須使用平行板電離室[3].電離室測(cè)量吸收劑量是通過(guò)測(cè)量電離輻射在與物質(zhì)相互作用過(guò)程中產(chǎn)生的次級(jí)粒子的電離電荷量計(jì)算出吸收劑量.先測(cè)量由電離輻射產(chǎn)生的電離電荷,然后利用空氣的平均電離能計(jì)算并轉(zhuǎn)換成電離輻射所沉積的能量,即吸收劑量.另外還有化學(xué)劑量計(jì),如重鉻酸銀劑量計(jì)、顯色薄膜劑量計(jì)等.化學(xué)劑量計(jì)有價(jià)格低廉的優(yōu)點(diǎn),但也有測(cè)量精度相對(duì)較低、不可重復(fù)使用、需要離線測(cè)讀設(shè)備等缺陷.然而對(duì)于1 Me V電子加速器加速的低能電子來(lái)說(shuō),其穿透深度只有幾個(gè)毫米,因此無(wú)法利用平行板電離室和化學(xué)劑量計(jì)測(cè)量,目前已有輻射變色化學(xué)劑量片可實(shí)時(shí)測(cè)讀.

      本文介紹采用薄膜顯色劑量片標(biāo)定加速器輻照劑量的方法,并用該方法校準(zhǔn)美國(guó)Wasik公司生產(chǎn)的1 Me V絕緣芯型電子加速器,采用輻射顯示薄膜劑量片進(jìn)行低能加速器標(biāo)定在國(guó)內(nèi)的報(bào)道很少,對(duì)同類產(chǎn)品的輻照劑量的檢測(cè)有一定的指導(dǎo)意義.

      1 實(shí)驗(yàn)方法

      輻射顯色薄膜劑量片為美國(guó)的FWT-60-00劑量片,大小為10 mm×10 mm,不準(zhǔn)確度為6%(k=2),經(jīng)過(guò)中國(guó)計(jì)量科學(xué)研究院標(biāo)定,溯源到劑量測(cè)量的國(guó)家標(biāo)準(zhǔn).輻照時(shí)3片劑量片為一組,同時(shí)疊放在束下小車的中部,小車運(yùn)動(dòng)的速度分別為6 m/s,8 m/s,10 m/s和12 m/s,輻照能量選550 keV,750 ke V和1 000 ke V,束流在0~50 m A之間選擇幾個(gè)點(diǎn).輻照后采用Cary 4G型紫外可見分光光度計(jì)在510 nm波長(zhǎng)下測(cè)量劑量片的吸光度,3片劑量片的吸光度值取平均值,根據(jù)標(biāo)定的該批次劑量片的劑量標(biāo)準(zhǔn)曲線計(jì)算輻照的劑量,測(cè)定劑量片的不均勻度.電子束輸出能量的校準(zhǔn)采用CTA薄膜疊層法,聚苯乙烯法,束流為40 m A,小車速度v=10 m/min.

      圖1 同電壓和束流下,吸收劑量和小車速度的關(guān)系Fig.1 Dose-velocity relation at the same voltage and beam

      2 結(jié)果與討論

      2.1 吸收劑量與束下裝置運(yùn)行速度的關(guān)系

      根據(jù)輻照加工中輻照產(chǎn)品的種類不同,常常需要不同的輻照參數(shù),包括電子束能量、束流強(qiáng)度、束下裝置運(yùn)行速度.要校準(zhǔn)的設(shè)備束下裝置運(yùn)行速度可調(diào),最大速度12 m/min,小車行進(jìn)方向不均勻度≤3%.圖1為在同一電壓和同一束流下測(cè)量吸收劑量和小車速度之間的關(guān)系,因?yàn)殡娮蛹铀倨鞯碾娮訏呙鑵^(qū)域在小車前進(jìn)方向上的長(zhǎng)度一定,所以相同的小車速度運(yùn)行時(shí)代表相同的輻照時(shí)間.從圖1中發(fā)現(xiàn),小車在速度大于6 m/s時(shí),吸收劑量與小車速度呈現(xiàn)出良好的線性關(guān)系,而在小車速度低于6 m/s時(shí),因?yàn)樗俣嚷≤囘\(yùn)轉(zhuǎn)不平穩(wěn),所以偏離線性關(guān)系,引起吸收劑量測(cè)量的誤差較大.通常,在輻照加工過(guò)程中,為了取得最大的工作效率和經(jīng)濟(jì)效益,應(yīng)當(dāng)選擇較快的小車速率,同時(shí)會(huì)提高輻照的劑量準(zhǔn)確率.

      2.2 吸收劑量與束流和能量之間的關(guān)系

      圖2為電子束能量E=1 000 keV,小車速度V=10 m/min,圖3為E=550 keV,v=6 m/min,圖4為在小車速度V=6 m/min,能量為1 000 ke V和750 ke V條件下,吸收劑量和束流之間的關(guān)系,可以看出,在相同的小車速度即相同的輻照時(shí)間,相同的電子束輻照能量下,吸收劑量隨束流的增加呈線性增長(zhǎng),通過(guò)該曲線可以推算出任意束流輻照時(shí)的吸收劑量.

      圖2 E=1 000 ke V,v=10 m/min時(shí),吸收劑量和束流之間的關(guān)系Fig.2 Dose-velocity relation at 1 000 ke V with the velocity 10 m/min

      圖3 E=550 ke V,V=6 m/min時(shí),吸收劑量和束流之間的關(guān)系Fig.3 Dose-velocity relation at 550 ke V with the velocity 6 m/min

      圖5為小車運(yùn)行速度V=6 m/min時(shí),吸收劑量與能量之間的關(guān)系.從圖5中可以看出,在束流小于20 m A時(shí),吸收劑量與能量之間呈良好的線性關(guān)系,而束流大于30 m A時(shí),550 ke V能量下吸收劑量偏高,這個(gè)主要是由于加速器本身參數(shù)的設(shè)置引起的,在加速器進(jìn)行調(diào)節(jié)束流時(shí),我們發(fā)現(xiàn)在550 keV能量下儀器設(shè)備束流的設(shè)定值與實(shí)際顯示值有較大差別,實(shí)際顯示值為30 m A時(shí),需要設(shè)定加速器束流參數(shù)為50 m A,這也正是在低能端吸收劑量偏離線性關(guān)系的原因.對(duì)于1 MeV的電子加速器,其低能量的電子輸出性能不理想,因此,該1 Me V電子加速器適合在750 ke V~1 000 ke V的能量范圍下正常工作.

      圖4 V=6 m/min時(shí),1 000 ke V和750 keV時(shí)劑量隨束流的變化關(guān)系Fig.4 Dose-velocity relation at 1 000 keV and 750 ke V with the velocity 6 m/min

      圖5 V=6 m/min時(shí),吸收劑量和能量之間的關(guān)系Fig.5 Dose-energy relation with the velocity 6 m/min

      2.3 輻照材料中吸收劑量深度分布和電子束能量校正

      電子束在材料中的穿透能力弱,吸收劑量的深度分布梯度很大,因此測(cè)量輻照材料中的吸收劑量深度分布,確定最佳厚度,對(duì)改善輻照工藝,保證產(chǎn)品質(zhì)量具有重要意義.但絕對(duì)測(cè)量電子束的能量是比較復(fù)雜的,實(shí)際應(yīng)用中采用電子在密度均勻的材料中的射程Rp來(lái)確定電子的實(shí)際能量.文獻(xiàn)檢索表明,在輻照加工電子束能量測(cè)量方面以射程法最為普遍.電子的實(shí)際射程Rp定義為:深度劑量分布曲線(如圖6)的直線下降部分的外推線和軔致輻射所產(chǎn)生的本底的外推線的交點(diǎn)處的深度.

      圖6~圖8分別為標(biāo)稱能量為550 ke V,750 ke V,1 000 ke V時(shí)電子束在CTA和聚苯乙烯材料中的吸收劑量深度分布.電子束輸出能量的校準(zhǔn)采用CTA薄膜疊層法,聚苯乙烯法.根據(jù)計(jì)算,電子束的實(shí)際能量E及在該能量下在CTA、聚苯乙烯材料中的最佳輻照厚度Ropt見表1.

      圖6 示值能量為0.5 Me V時(shí)電子束在CTA薄膜中的深度劑量分布曲線Fig.6 Depth-dose distribution curve of 550 ke V electron beam in the CTA film

      圖7 示值能量為0.75 MeV時(shí)電子束在CTA薄膜中的深度劑量分布曲線Fig.7 Depth-dose distribution curve of 750 keV electron beam in the CTA film

      圖8 示值能量為1 MeV時(shí)電子束在聚苯乙烯薄膜中的深度劑量分布曲線Fig.8 Depth-dose distribution curve of 1 000 ke V electron beam in the PS film

      表1 不同能量電子束輻照時(shí)的射程與能量值Tab.1 The range and energy of electron irradiation with different energy

      3 結(jié) 語(yǔ)

      1)輻射加工時(shí)束下小車的速度在6 m/min~12 m/min,可以提高工作效率,同時(shí)會(huì)提高輻照的劑量準(zhǔn)確率.

      2)在相同的小車速度即相同的輻照時(shí)間,相同的電子束輻照能量下,吸收劑量隨束流的增加呈線性增長(zhǎng).

      3)電子的實(shí)際能量與設(shè)定值有差別,美國(guó)Wasik公司生產(chǎn)1 Me V電子加速器的最高能量為1MeV,適合在750 ke V~1 000 ke V的能量范圍工作.

      [1] 郭雄彬,趙敏,陳祖良,等.輻照電子直線加速器輻射劑量測(cè)定的技術(shù)研究[J].核電子學(xué)與探測(cè)技術(shù),2011,31(9):1035-1038.

      Guo Xiongbin,Zhao Min,Chen Zhuliang,et al.A project to determine the radiation dose of irradiation electron linac[J].Nuclear Electronics &Detection Technology,2011,31(9):1035-1038.(in Chinese)

      [2] 中國(guó)同位素與輻射行業(yè)協(xié)會(huì)輻射加工專業(yè)委員會(huì).輻射加工產(chǎn)業(yè)十二五發(fā)展規(guī)劃及建議[J].中國(guó)核工業(yè),2011(1):34-39.

      Committee of radiation processing of China isotope and radiation industry association.Plan and suggestion of radiation processing industry during the twelfth five-year development[J].Zhongguo He Gongye,2011(1):34-39.(in Chinese)

      [3] 張園月,陳曉淵,鄢玲,等.醫(yī)用電子束吸收劑量測(cè)量中的平行板電離室校準(zhǔn)[J].中國(guó)測(cè)試,2009,35(3):24-28.

      Zhang Yuanyue,Chen Xiaoyuan,Yan Ling,et al.Parallel-plane chamber calibration for measuring medical electron beam absorbed dose[J].China Measurement &Test,2009,35(3):24-28.(in Chinese)

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