王麗玲,王 亮,蔣小華,何 碧,尹強(qiáng),朱和平
(中國(guó)工程物理研究院化工材料研究所,四川 綿陽 621900)
反應(yīng)多層膜是一種新型含能納米材料,通常由2 種或多種可發(fā)生放熱反應(yīng)的材料交替沉積形成A/B/A 結(jié)構(gòu)。反應(yīng)多層膜的一個(gè)特點(diǎn)是其在一定能量刺激下能發(fā)生快速反應(yīng),形成穩(wěn)定化合物并產(chǎn)生大量熱和高的絕熱反應(yīng)溫度。由于反應(yīng)不需要來自周圍環(huán)境的附加原子(如氧氣等),并且反應(yīng)能夠放出熱量、迅速點(diǎn)燃,達(dá)到1400K 以上的溫度,局部加熱溫度達(dá)到109K/s 的自持能源,該能源可以在要求迅速且局部產(chǎn)生熱量的應(yīng)用中(如焊接、點(diǎn)火)有巨大的應(yīng)用前景[1]。
20 世紀(jì)80 年代以來德國(guó)、瑞典等國(guó)利用物理氣相沉積(PVD)和化學(xué)氣相沉積(CVD)技術(shù)研制了多種以金屬?gòu)?fù)合薄膜橋?yàn)榘l(fā)火元件的點(diǎn)火器和雷管。如瑞典Sven-Erik 等人申報(bào)的美國(guó)專利US4335653 和4409898 介紹了電磁輻射和雜電鈍感的金屬?gòu)?fù)合膜橋點(diǎn)火器[2]。20 世紀(jì)90 年代,美國(guó)科學(xué)家們便設(shè)計(jì)了一種基于反應(yīng)多層膜的含能橋電爆裝置[3]。英國(guó)皇家軍械研究院和標(biāo)準(zhǔn)電信試驗(yàn)有限公司聯(lián)合研制了一種雙層金屬薄膜橋雷管,其特點(diǎn)是發(fā)火安全可靠,作用時(shí)間快。
由于含能橋點(diǎn)火能力強(qiáng),藥劑與含能橋之間可以有一定間隙空腔,可以實(shí)現(xiàn)隔離點(diǎn)火,在這個(gè)空腔點(diǎn)火通道中可以實(shí)現(xiàn)基于MEMS 的微安保系統(tǒng)。藥劑與含能橋不直接接觸,就不會(huì)存在傳統(tǒng)橋絲火工品藥劑在長(zhǎng)期貯存條件下可能腐蝕橋絲縮短火工品壽命的可能,在火工品貯存性方面含能橋更有優(yōu)勢(shì)。復(fù)合含能橋電爆裝置具有很好地抗射頻和電磁干擾、雜散電流的能力,這也是橋絲電火工品不能達(dá)到的。另外還可望在復(fù)合含能橋上通過對(duì)橋膜結(jié)構(gòu)的設(shè)計(jì)形成一個(gè)類似二極管的結(jié)構(gòu)達(dá)到釋放靜電的作用,防止靜電引起的意外起爆,大大提高了火工品的安全性[4]。由于復(fù)合含能橋的發(fā)火特點(diǎn),其點(diǎn)火能力較強(qiáng),有望使用感度較低的點(diǎn)火藥、增加火工品的安全性,甚至能減化點(diǎn)火裝置的結(jié)構(gòu),減小現(xiàn)有點(diǎn)火系統(tǒng)的體積。由于復(fù)合含能橋組成的電爆裝置可以利用微電子集成技術(shù),提高了產(chǎn)品的可靠性,批量生產(chǎn)降低了成本。它將對(duì)軍用和民用火工品發(fā)展以及相關(guān)系統(tǒng)的發(fā)展產(chǎn)生巨大影響,并對(duì)火工品應(yīng)用領(lǐng)域的拓寬起到推動(dòng)作用。
本文選用含能橋的2 種材料為硼和金屬鈦?;撞捎貌Aщ姌O塞,先在丙酮、無水乙醇中超聲波清洗15 min,再用去離子水沖洗后烘干。含能橋的制備在沈陽世昂真空生產(chǎn)的SAJS-500 型多靶磁控濺射儀上進(jìn)行,采用氬氣(純度>99.999%)為工作氣體,本底真空抽至1(10-3Pa,工作氣壓為0.9 Pa,靶基距約50 mm。Ti 薄膜采用直流濺射,濺射功率為70 W,B 薄膜制備是陶瓷靶,采用射頻濺射,濺射功率為100 W。真空腔加熱溫度為100℃。
含能橋結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)如圖1 所示,在玻璃電極塞上用掩模方法制備鈦薄膜,作為電阻橋,用于加熱含能橋,控制鈦電阻橋電阻2 ~3 Ω。再沉積B 膜作為絕緣層,絕緣層的作用是控制電阻橋的電阻大小,不會(huì)隨著表面沉積了含能橋而改變。然后制備含能橋,交替沉積Ti 和B 薄膜。點(diǎn)火器設(shè)計(jì)如圖2所示,采用點(diǎn)火藥為BNCP 藥柱。
圖1 含能橋結(jié)構(gòu)
圖2 含能橋點(diǎn)火元件
對(duì)多層含能薄膜進(jìn)行了XRD 圖譜測(cè)試,如圖3 所示,在2θ 值35.1°、38.2°和52.6°分別對(duì)應(yīng)Ti(100)、(102)晶面的特征吸收峰,在2θ 值25.5°、36.8°、43.2°、57.5°、66.4°、68.3°出現(xiàn)B(012)、(110)、(021)、(211)、(009)和(027)晶面的特征吸收峰,由此可以證明所制備的含能薄膜成分為Ti 和B的單質(zhì)狀態(tài),尚未形成鈦和硼的化合物或只有少量鈦硼化合物。
圖3 多層含能薄膜的XRD 圖譜
圖4 是剝離掉的含能橋的斷面形貌,多層膜的典型顯微結(jié)構(gòu),可以清楚地看到多層連續(xù)結(jié)構(gòu)。從含能橋表面形貌可以看出,形成了致密的島狀結(jié)構(gòu),光滑平整,但顆粒界面清晰。
圖4 含能橋表面及斷面照片
含能橋通2A 直流電流,未發(fā)火,5 A 條件下發(fā)火,并用HS4540MX12 高速運(yùn)動(dòng)記錄系統(tǒng)記錄下來含能橋發(fā)火過程,如圖5 所示,可以看到火花飛濺的現(xiàn)象,火花甚至可以達(dá)到30 mm 左右。這是由于含能橋在熱能刺激下,快速發(fā)生反應(yīng)2B+Ti→TiB2+5.52 J/mg[4],反應(yīng)生成的高溫產(chǎn)物飛濺,形成火花。對(duì)比發(fā)火前后的照片圖6 可以看出,發(fā)火后兩電極之間部分都已經(jīng)反應(yīng)。
圖5 含能橋發(fā)火過程照片
圖6 含能橋發(fā)火前后照片
為了驗(yàn)證含能橋的點(diǎn)火性能,進(jìn)行了含能橋點(diǎn)火試驗(yàn),BNCP 藥柱尺寸為Φ3.4mm ×2mm,質(zhì)量為35 mg,密度約為1.9 g/cm3。5 A 條件下成功實(shí)現(xiàn)了隔離0.1 mm 的空腔點(diǎn)火,作用時(shí)間小于100 μs,點(diǎn)火過程電壓曲線如圖7 所示。
圖7 隔離0.1 mm 點(diǎn)火電壓曲線
另外還將點(diǎn)火藥與含能橋之間用0.02 mm 的聚酯薄膜完全隔離,也成功點(diǎn)火。
采用磁控濺射方法制備硼鈦復(fù)合含能橋。通過含能橋斷面和表面形貌觀察,可以看到Ti 和B 的連續(xù)交互層。用HS4540MX12 高速攝像系統(tǒng)記錄下來含能橋發(fā)火過程,火花濺射距離可達(dá)到30 mm 左右。進(jìn)行了含能橋?qū)NCP 藥柱的點(diǎn)火試驗(yàn),成功實(shí)現(xiàn)0.1 mm 距離隔離點(diǎn)火,并且在含能橋與藥柱之間用厚度0.02 mm 的聚酯薄膜隔離時(shí)也成功點(diǎn)火。試驗(yàn)證明含能橋具有較強(qiáng)的點(diǎn)火能力,安全性更好。
[1]Barbee T W,Jr.,A.E.Gash,Satcher J H,et al.Nanotechnology based Environmentally Robust Primers[C]//34th Annual Institute of Chemical Technology Meeting.[S.l.]:[s.n.],2003.
[2]Thomas A. Baginski,Steven L. Taliaferro,Wm. David Fahey. Novel Electroexplosive device incorporating a reactive laminated metallic bridge[J]. Journal of propulsion and power,2001,17(1):20-25.
[3]Thomas A.Baginski,Todd S.Parker,Wm.David Fahey.Electro-explosive device with laminate bridge[P]. U. S. patent:0081146,2006-05-12.
[4]Shuji Tanaka,Kazuyuki Kondo,Hiroto Habu. Test of BTi Multilayer Reactive Igniters for a Micro Solid Rocket Array Thruster Thruster[J]. Sensors and Actuators: A Physical(2007),2008.