張念椿 劉彬云
(廣東東碩科技有限公司,廣東 廣州 510288)
印制電路板(PCB)是實現(xiàn)電子元件整體功能的重要部件,制備PCB重要的工藝之一是孔金屬化,即在孔內(nèi)非金屬基材(環(huán)氧樹脂)上形成一層金屬導(dǎo)體,一般先采用化學(xué)鍍銅或非金屬導(dǎo)電高分子方法[2]-[4],目前化學(xué)鍍銅為主流。一般需要對樹脂基的孔進行活化處理,即在非金屬表面吸附一層具有催化活性的粒子,誘發(fā)后續(xù)的化學(xué)鍍銅[5][6]。孔金屬化時需要經(jīng)過清洗、預(yù)浸、活化、化學(xué)鍍銅和電鍍銅加厚處理?;罨に囍饕匈F金屬鈀或銀活化,目前金屬活化用的最多且最穩(wěn)定的是鈀活化液。鈀活化液主要有幾種方法:(1)敏化,活化步驟,該法缺點是后續(xù)的化學(xué)鍍銅層與基材的結(jié)合力差[7];(2)離子鈀活化液,也即Pd2+與Cl-形成的絡(luò)合離子[PdCl4]2-,該法會浪費大量的鈀離子,成本高,推廣受限[8];(3)1961年Shipley研制出膠體鈀敏化活化一步法,該法以氯化鈉為穩(wěn)定劑,氯化亞錫為還原劑,加熱到90 ℃制備膠體鈀,也稱之為鹽基膠體鈀[9]。該方法穩(wěn)定性好,得到了廣泛的應(yīng)用。
本研究在本鹽基膠體鈀的基礎(chǔ)上進行了改進,以PVP為分散劑,以環(huán)境友好的抗壞血酸為還原劑,在常溫下還原Pd2+制備納米鈀。后續(xù)的化學(xué)沉銅工藝中用合成該納米鈀不需要加熱,常溫下即可,不需要“加速”流程,減少了化學(xué)沉銅工藝,是一種綠色環(huán)保的工藝,有望將來取代膠體鈀活化液應(yīng)用于化學(xué)鍍銅。
二水合氯化鈀(純度≥99..8%,分析純),氨水(25 %,分析純),抗壞血酸(≥99.0%,分析純),聚乙烯吡咯烷酮(PVP,分析純),濃鹽酸(純度≥99.0%,分析純),無水乙醇(純度≥99.7%,分析純) 。實驗用水為凈化的二次去離子水,電阻率≥18.2 MW.cm-1,25 ℃?;臑榇?、中、小孔的環(huán)氧樹脂板。
恒溫磁力攪拌器(上海司樂儀器廠,T09-1S);電子天平(北京賽多利斯儀器系統(tǒng)有限公司,BS124S);臺式高速離心機(湘儀離心機廠,TG16-WS);超聲波儀器(昆山超聲儀器有限公司,KQ3200E);粒度分析儀(Malvern Instruments UK Zetasizer-3000HS);透射電子顯微鏡(TEM,JEOL-2010);X射線衍射儀(XRD,MSAL-XD2);金相顯微鏡(OLYMPUS BX51);掃描電鏡(SEM,JEOL JSM-6S10L)。
將1.05 g PdCl2·2H2O溶于少量的濃鹽酸中,加入適量的去離子水,使其充分溶解。然后加入適量的PVP,磁力攪拌使其充分溶解,最后100 ml 0.1mol/L的抗壞血酸加入,常溫下反應(yīng)4 h,最后自然冷卻到室溫。將所得到的懸濁液以10000轉(zhuǎn)/min的轉(zhuǎn)速離心分離10 min,分別用無水乙醇和DI水洗滌3次,最后將其分散于一定的去離子水中。
將納米鈀配制成濃度為30×10-6(30 mg/L)的溶液進行化學(xué)鍍銅,其工藝為:樹脂板→除膠→除油→微蝕→活化→化學(xué)鍍銅。
取少量真干燥箱后的納米鈀分散在DI水中,使其分散成納米鈀活化液,經(jīng)超聲分散10 min,用Zetasizer-3000HS粒度分析儀進行粒徑分布分析。將離心分離納米鈀用無水乙醇稀釋,經(jīng)超聲波超聲振蕩30 min,后滴在銅網(wǎng)上,晾干,用JEOL-2010型透射電子顯微鏡(TEM,加速電壓為200 kV)觀察納米鈀粒子形貌。取少量干燥后的納米鈀粉末于全自動X射線衍射儀進行表征(XRD,MSAL-XD2,銅靶,λ= 1.5406 ?,工作電壓 36 kV,工作電流 20 mA,掃描速度5°/min,掃描角度2q范圍從10°~ 90°)。將此活化液用于化學(xué)鍍銅,取化學(xué)鍍銅后的不同孔徑進行微切片,用金相顯微鏡觀察其孔的背光及用掃描電鏡(SEM,JEOL JSM-6S10LV,加速電壓為20 kV)觀察樹脂基材上的化學(xué)鍍層形貌。
采用動態(tài)光散射法(DLS)對上述制備的納米鈀活化液進行粒徑分析,圖1是動態(tài)光散射法測出的納米鈀活化液水合粒徑分布圖,可以看出,納米鈀水合粒徑在8 nm ~ 22 nm之間,制備的納米鈀活化液粒徑分布的比較窄,單分散性比較好。
圖1 態(tài)光散射法(DLS)納米鈀水合粒徑分布圖
圖2為制備納米鈀的透射電子顯微鏡(TEM)照片,從圖2(a)TEM我們看出,通過加入分散劑PVP和還原劑抗壞血酸制備的納米鈀粒徑小,大小較為均一,而且呈現(xiàn)出好的分散性,不易團聚。
從圖2(b)放大TEM圖看,納米鈀的其粒徑為10 nm ~ 20 nm左右,呈現(xiàn)出好的單分散性,與DSL分析結(jié)果基本一致(DSL為水合測試粒徑會偏大)。通過加入具有表面包裹劑的聚乙烯吡咯烷酮,得到納米鈀粒子具有好的分散性和均一性,這是因為在聚乙烯吡咯烷酮的長鏈分子伸向四周,將其表面包圍,降低其表面活性,阻止納米鈀粒子間的相互吸附作用,利用空間位阻效應(yīng)限制納米鈀粒子聚集。
圖3是還原法制備的納米鈀X射線衍射圖譜,所制備的納米鈀分別在衍射角(2q)40.1°、46.7°、68.1°、82.1°和86.6°處顯示出強衍射峰,這些衍射峰可分別歸屬于金屬鈀的(FCC)、(111)、(200)、(220)、(311)和(222)的晶面衍射,與鈀的標準圖卡衍射峰一致(JCPDS,F(xiàn)ile No. 050681)[10]。而在圖3中發(fā)現(xiàn)無其它衍射雜峰存在,說明在表面活性劑PVP和還原劑抗壞血酸作用下,得到的納米鈀不易被氧化,用該方法可以制備高純度的納米鈀。
圖3 納米鈀的X射線衍射圖譜
為了驗證制備的納米鈀活化液的穩(wěn)定性,在常溫下放置60天,經(jīng)觀察納米鈀活化液很穩(wěn)定,不易沉降,顏色仍然保持為深黑色。
按照樹脂板→除膠→除油→微蝕→活化→化學(xué)鍍銅,在化學(xué)鍍銅中沉積18 min后,通過分別測試不同孔徑的背光,可以看到,無論是大孔或中孔,甚至小孔,用納米鈀做活化液,其孔壁金屬化可以達到10級,如圖4(a)、(b)和(c)。
圖4 經(jīng)過化學(xué)鍍銅的通孔背光圖分析:(a)小孔,(b)中孔,(c)大孔
我們采用了掃描電鏡(SEM)觀測不同時間化學(xué)鍍銅的形貌圖,如圖6所示。由圖6(a)可見,化學(xué)鍍銅9 min時,銅顆??删鶆虻奈皆诨谋砻妫砻骖w粒較小,繼續(xù)延長鍍銅時間到18 min,其表面顆粒不斷增大,如圖5(b),相比之下,大小比較均一,化學(xué)鍍銅層光滑、平整。
圖5 納米鈀催化化學(xué)鍍層SEM圖:(a)化學(xué)鍍9 min,(b)化學(xué)鍍18 min
通過以上實驗結(jié)果分析,可以得出以下結(jié)論:
(1)以PVP為分散劑、抗壞血酸為還原劑在常溫下成功制得了平均粒水合粒徑分布為8 nm ~ 22 nm的金屬納米鈀粒子,粒徑分布較窄。
(2)TEM測試表明,納米鈀為球形顆粒,單分散性較好,無明顯團聚。考察了納米鈀活化液穩(wěn)定性,將其在常溫下放置60天,無顏色變化及無沉淀產(chǎn)生,說明納米鈀具有的很好穩(wěn)定性。
(3)納米鈀活化液應(yīng)用于孔壁金屬化,從鍍層背光和SEM看:具有較好的背光級數(shù),可達到10級;化學(xué)鍍銅18 min后,其鍍層銅光滑平整。
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