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      一種基于CMOS工藝2.4 GHz功率放大器的設(shè)計

      2015-01-01 03:09:34劉林海
      無線電工程 2015年2期
      關(guān)鍵詞:柵極輸出功率增益

      呂 杰,劉林海,李 哲,曹 純

      (中國電子科技集團公司第五十四研究所,河北石家莊050081)

      0 引言

      隨著無線技術(shù)的快速發(fā)展,單芯片CMOS收發(fā)機已經(jīng)商用化了。在硅CMOS、GaAs、異質(zhì)結(jié)和SiGe等眾多工藝中,雖然CMOS的高頻性能和噪聲性能不是最好,但是由于它的工藝最為成熟、成本最低和功耗最小,并且隨著集成電路工藝水平的提供,其特征尺寸不斷減小,深亞微米CMOS工藝的特征頻率已經(jīng)達(dá)到 50 GHz以上[1]。

      由于摩爾定律,隨著工藝的不斷進步,線寬進一步減小,晶體管能夠工作的截止頻率不斷提高,因此CMOS射頻功率放大器越來越多地采用CMOS工藝實現(xiàn)[2]。深亞微米工藝中低的擊穿電壓是設(shè)計中需要考慮的一個重要因素。低的擊穿電壓限制了柵漏電壓,從而使得晶體管的供電電壓受限,因此限制了功率放大器的輸出功率[3]。提高功率放大器的線性度以及功率附加效率成為功率放大器的關(guān)鍵技術(shù),也是功率放大器研究重點和熱點。

      當(dāng)今世界商用的射頻設(shè)計技術(shù),尤其是CMOS功率放大器核心設(shè)計技術(shù)一直掌控在國外為數(shù)不多的大公司手中,這嚴(yán)重限制了我國信息產(chǎn)業(yè)的發(fā)展。本文基于RF CMOS工藝進行功率放大器的設(shè)計,采用雙反饋結(jié)構(gòu)實現(xiàn)高功率輸出和高的功率附加效率,可以將射頻及基帶芯片單片集成在一顆芯片中,有助于實現(xiàn)射頻基帶芯片的一體化設(shè)計,降低設(shè)計及封裝成本。因此基于CMOS工藝的射頻功率放大器研究對于打破國外技術(shù)壟斷、降低芯片成本具有重要的應(yīng)用價值和現(xiàn)實意義[4]。

      1 結(jié)構(gòu)分析

      功率放大器按照工作狀態(tài)可分為線性和非線性2類,其中線性功率放大器主要有:A、B、AB和C四種類型,它們的主要差別是柵極偏置條件不同,這類放大器有相對不錯的線性度,效率也可以達(dá)到較好的水平[5]。非線性功率放大器主要有D、E和F三類,這類放大器的輸出功率比較高,但是線性度相對較差。B類放大器的效率明顯高于A類放大器,實際中它的典型效率一般為60%。對于 AB類功率放大器,晶體管在大半個周期內(nèi)處于導(dǎo)通狀態(tài),其導(dǎo)通角在180°~360°。當(dāng)驅(qū)動電壓幅度減小時,晶體管導(dǎo)通角增加,使得輸出電流的直流成分、基頻成分都會減小,在負(fù)載阻抗保持不變時,輸出電壓的幅度也會成比例減小,導(dǎo)致輸出功率下降[6]。概括地說,AB類功率放大器的線性度要比A類差,但是比B類要好,而效率比A類好,但比B類差。由于它兼顧了線性度和效率,所以在實踐中得到廣泛應(yīng)用[7]。

      本文是基于SMIC 0.18 μm RF CMOS工藝設(shè)計一款高線性度和高功率的功率放大器,隨著CMOS工藝的發(fā)展,其供電電壓逐漸降低,這就對高功率功率放大器的設(shè)計提出了一定的要求,在SMIC 0.18 μm RF CMOS工藝中,最高供電電壓為3.3 V,在負(fù)載阻抗為50 Ω時其最大輸出功率僅為

      此時輸出功率約為0.108 9 W(約20 dBm),距離目標(biāo)設(shè)計的23 dBm(約為0.199 mW)的最大輸出功率尚有一定的差距,此時電源電壓已經(jīng)是該工藝提供的最大工作電壓,因此必須進行阻抗變換,變換后的電阻最大值為:

      在實際電路中,由于存在一些不可避免的功耗損失,如晶體管上的電壓降以及互連線上的損耗。因此,在實際設(shè)計中可以根據(jù)仿真情況看該輸出阻抗是否滿足設(shè)計要求。當(dāng)輸出功率小于所希望的值時,那么變換后的電阻還需要更?。?]。若輸出功率超過了應(yīng)滿足的值,那么變換后的電阻可以加大以提高效率。對于CMOS PA的設(shè)計,效率和線性度是2個非常關(guān)鍵的指標(biāo)。根據(jù)以上分析,本文功率放大器采用2級放大,AB類工作:驅(qū)動級采用自偏置的共源共柵結(jié)構(gòu),不僅可以提高增益,增加反向隔離,而且能有效緩解柵氧擊穿和熱載流子效應(yīng)帶來的可靠性問題;功率級利用厚柵器件,從而可以在更高的電壓下工作以提高輸出功率[9]。

      2 電路設(shè)計

      根據(jù)PA的指標(biāo)要求,綜合考慮到效率和線性度,本文提出一種雙負(fù)反饋結(jié)構(gòu)的AB類的PA,如圖1所示。

      圖1 雙負(fù)反饋CMOS功率放大器

      射頻放大器包括2級:驅(qū)動級和功率輸出級,級聯(lián)后增益可以大于23 dB。AB類的結(jié)構(gòu),使得功率附加效率可以在35%以上。工作在2.4 GHz頻段上,分別在PA的輸入、2級之間、PA的輸出設(shè)計匹配網(wǎng)絡(luò),容易實現(xiàn)3 dB帶寬不低于200 MHz,其中輸出匹配網(wǎng)絡(luò)將50 Ω的天線阻抗變換到一個更小的阻抗,便于輸出大的功率;驅(qū)動級和功率輸出級之間的阻抗變換網(wǎng)絡(luò)將功率輸出級的輸入阻抗變換到更大的阻抗,使驅(qū)動級得到一個高的增益;輸入匹配網(wǎng)絡(luò)將驅(qū)動級的輸入阻抗匹配到50 Ω,減小輸入反射系數(shù)。

      其中,M4采用厚柵MOS管設(shè)計,用于輸出大功率;M1~M3采用薄柵MOS管設(shè)計。一條反饋路徑在第1級的輸入和第2級的輸入之間,由一個可變電容CA和電容C1構(gòu)成,這個反饋路徑抑制二次諧波,進而提高PA的線性度;另一條反饋路徑由電容C2和C3構(gòu)成,將共柵極放大管M2和M4的柵極相連。這樣一來,耦合到M4柵極的信號經(jīng)180°相移后反饋到M2的柵極,這個信號和M2管源極和漏極的信號變換在相位上一致,使得M2和M4這2個共柵管的柵源、柵漏電壓的變化減小,進而減小非線性。因此,可以實現(xiàn)輸出1 dB壓縮點不小于23 dBm。M1~M4均采用多個管子并聯(lián)構(gòu)成,通過開關(guān)進行切換。通過SPI總線來控制M1~M4,每個開關(guān)由一個主開關(guān)管和一個輔助管構(gòu)成,確保能有效地打開和關(guān)斷:主開關(guān)管控制柵極偏壓和柵極直接的通斷,輔助管在柵極關(guān)斷時將柵極接到地,以確保完全關(guān)斷。這樣一來,就能實現(xiàn)在SPI接口的3 bit控制下,功率調(diào)整范圍18~23 dBm。

      功率放大器版圖如圖 2所示,采用 SMIC 0.18 μm RF CMOS工藝,占用芯片面積0.9 mm×0.9 mm,其中左半部分為偏置電路,右半部分為功率放大器核心電路,芯片外圍由P襯底和N襯底構(gòu)成的保護環(huán)環(huán)繞,用來減小功率放大器與其他模塊間的干擾。

      圖2 功率放大器版圖

      3 仿真結(jié)果

      功率放大器功率增益隨輸出功率變化曲線如圖3所示,由圖3可以看出,在不同工藝角下,功率放大器的功率增益均大于24 dB,功率增益壓縮點均大于23 dBm。

      圖3 功率放大器功率增益隨輸出功率變化曲線

      功率放大器另一個重要指標(biāo)是對功率附加效率(PAE)的要求,功率放大器PAE后仿真結(jié)果如圖4所示。由圖4可以看出,在不同工藝角下,功率放大器的峰值附加效率均大于40%。在工藝角為ff,環(huán)境溫度為-45°時,功率放大器的峰值附加效率甚至達(dá)45%。

      在輸入功率設(shè)定為0 dBm的條件下,在輸入信號頻率為1.8~3.2 G,不同輸入頻率下功率放大器的功率增益曲線如圖5所示,在后仿真環(huán)境下,由于寄生參數(shù)的影響,放大器的頻帶明顯變窄,其帶寬由前仿真的500 MHz減小到400 MHz,這個主要是由于高頻下寄生電容等參數(shù)等影響,使得其帶寬減小,該指標(biāo)依然滿足系統(tǒng)對帶寬的要求。

      圖4 附加效率(PAE)隨輸入功率變化曲線

      圖5 功率放大器功率增益隨頻率變化曲線

      功率放大器輸入端口設(shè)計為50 Ω輸入阻抗,對功率放大器作S參數(shù)掃描,得到其輸入反射系數(shù)S11,用來衡量其輸入阻抗匹配特性,其結(jié)果如圖6所示。

      圖6 輸入反射系數(shù)隨頻率變化曲線

      其中實線為前仿真結(jié)果,虛線為后仿真結(jié)果,與增益特性曲線相類似,后仿真結(jié)果與前仿真結(jié)果相比帶寬明顯變窄,但是在要求的2.0~3.0 GHz,S11<-15 dB,能夠滿足設(shè)計要求。

      4 結(jié)束語

      基于2.4 GHz無線接入方式的應(yīng)用,采用SMIC 0.18 μm RF CMOS工藝,實現(xiàn)了2級功率放大器從結(jié)構(gòu)選擇、電路、版圖及后仿真等方面的研究和設(shè)計。結(jié)果表明,功率放大器在功率輸出、線性度及附加效率方面都取得了較好的性能,后仿真結(jié)果表明,電路在工作頻率范圍內(nèi),功率增益為24 dB,輸出1 dB壓縮點為23 dBm,峰值功率附加效率為40%。對于基于CMOS工藝的功率放大器設(shè)計具有一定的參考價值。

      [1] LARSON L E.Integrated Circuit Technology Options for RFIC’s-present Status and Future Directions[J].IEEE J Sol Sta Circ,1998,33(3):387-399.

      [2] 張國燕,黃 入,張 興,等.CMOS射頻集成電路的研究進展[J].微電子學(xué),2004,34(4):377-382.

      [3] 龍 強,吳玉廣.射頻CMOS功率放大器的研究與應(yīng)用[D].西安:西安電子科技大學(xué)碩士畢業(yè)論文,2007:9-13.

      [4] 徐 謙,劉太君,葉 焱,等.可重構(gòu)多波段射頻功率放大器設(shè)計[J].無線電通信技術(shù),2014,40(3):61-64.

      [5] KANG J,YU D.Highly Linear 0.18um CMOS Power Amplifier with Deep n-Well Structure[J].IEEE JSSC,2006,41(5):1 073-1 079

      [6] CHRISTIAN F.A ComprehensiveAnalysisofIMD Behavior in RF CMOS Power Amplifiers[J].IEEE JSSC,2004,39(1):24-34.

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      [9] 劉傳洋,藍(lán)永海.L頻段高效功率放大器設(shè)計[J].無線電工程,2014,44(4):47-49,61.

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