王貴元
【摘要】隨著中國(guó)經(jīng)濟(jì)的發(fā)展,PVD等離子涂層業(yè)務(wù)也發(fā)展很快。在PVD等離子涂層中起弧保護(hù)是很重要的刀具保護(hù)措施之一。本文對(duì)針對(duì)巴爾查斯BAI1200PVD涂層設(shè)備的起弧保護(hù)進(jìn)行了研究,詳細(xì)分析了起弧保護(hù)的原理和動(dòng)作過(guò)程。
【關(guān)鍵詞】巴爾查斯;PVD涂層;起??;起弧保護(hù)
近年來(lái),隨著中國(guó)工業(yè)經(jīng)濟(jì)的發(fā)展,PVD涂層業(yè)務(wù)也發(fā)展很快。目前在國(guó)際市場(chǎng)上知名的PVD設(shè)備制造商有瑞士的巴爾查斯、德國(guó)的普拉提,荷蘭的豪澤等。其中巴爾查斯的涂層在國(guó)際上處于領(lǐng)先地位,市場(chǎng)占有率第一。在PVD涂層工藝過(guò)程中,起弧保護(hù)是重要的保護(hù)之一,好的起弧保護(hù)措施可以有效的避免加工零件灼傷,從而最大限度的保護(hù)工件。
一、巴爾查斯PVD涂層機(jī)介紹
巴爾查斯涂層設(shè)備最普遍的型號(hào)是BAI1200,在2006年后逐漸推出了新型號(hào)-INNOVA。無(wú)論是BAI1200和INNOVA設(shè)備涂層原理都是一樣的,都分為抽真空、刻蝕、涂層、冷卻、檢漏五個(gè)階段。其中最關(guān)鍵的階段是刻蝕和涂層:
刻蝕:是巴爾查斯涂層機(jī)特有的工藝。由弧電源在陰極和輔助陽(yáng)極間放電,對(duì)工藝氣體-氬氣進(jìn)行電離,從而形成氬氣的等離子體。等離子體中的帶正電的氬離子在偏壓電源產(chǎn)生的電場(chǎng)中進(jìn)行加速,高速撞擊工件的基體,把附在基體表面的氧化層打掉,從而增加了涂層的結(jié)合力。
涂層:金屬蒸發(fā)源(靶源)作為陰極,在真空的條件下通過(guò)它與陽(yáng)極腔體之間的弧光放電,使靶材蒸發(fā)并離化,形成空間等離子體。等離子體中的金屬正離子在偏壓電場(chǎng)的牽引下,鍍覆到工件基體表面形成涂層。
巴爾查斯涂層機(jī)的基本組成包括真空鍍膜室、陰極弧源、離子室、輔助陽(yáng)極、基片、負(fù)偏壓電源、真空系統(tǒng)、起弧保護(hù)裝置等。
二、“起弧”定義和判斷原理
“起弧”定義:在刻蝕和涂層階段,由涂層電源提供等離子體,在等離子體中包含大量的正離子和電子,如果此時(shí)在基體和腔體之間加上負(fù)向偏壓,則一部分正離子會(huì)被吸附到基體上,同時(shí)電子會(huì)被吸引到腔體,形成偏壓電流。正常情況下,偏壓電流均勻分布到基體和腔體之間。但是特殊情況下,偏壓電流突然上升,并且大部分電流都從工件上某個(gè)特定位置流過(guò),這種情況我們稱之為“起弧”。起弧現(xiàn)象會(huì)引起工件灼傷,嚴(yán)重甚至報(bào)廢。
判斷原理:正常情況下,在刻蝕階段中的偏壓電流為10-20A,而在涂層階段的偏壓電流為30-50A。無(wú)論在刻蝕階段還是涂層階段偏壓電流都比較均勻。但是在“起弧”的時(shí)候,偏壓電流迅速上升,遠(yuǎn)超正常電流值。巴爾查斯設(shè)備就是根據(jù)測(cè)量偏壓電流和電流變化率的實(shí)際值來(lái)判斷是否有“起弧”現(xiàn)象發(fā)生。
“起弧”原因:關(guān)于起弧的原因有很多,在工作中我們發(fā)現(xiàn)除了設(shè)備不正常導(dǎo)致偏壓電流突然上升外,引起起弧的原因主要有兩個(gè)。在刻蝕階段主要是由于前處理(清洗和噴砂)不充分,導(dǎo)致工件過(guò)臟,這些雜質(zhì)在等離子體中會(huì)被二次電離,從而釋放出過(guò)多電子,導(dǎo)致偏壓電流突然上升。在涂層階段,基本上是由于工件在大盤(pán)(即裝載工件的架子,和偏壓電源陰極直接相連)上未進(jìn)行正確裝載,導(dǎo)致接觸電阻不斷變化。因?yàn)槠珘弘妷翰蛔?,所以電壓?huì)集中到電阻最大的地方,導(dǎo)致這個(gè)區(qū)域附近的工藝氣體發(fā)生電離,產(chǎn)生“起弧”。
三、“起弧”現(xiàn)象的處理過(guò)程
“起弧”檢測(cè)是基于偏壓電流的測(cè)量(如圖1),它的核心元件是起弧保護(hù)裝置12。偏壓電流是通過(guò)一個(gè)快速電流傳感器(1)和電流變化閾值比較器(2)來(lái)檢測(cè)的??涛g和涂層階段的電流動(dòng)態(tài)閾值分別通過(guò)兩個(gè)可調(diào)電位計(jì)(3,4)設(shè)定。任何高于閾值的電流變化都被認(rèn)為是一次“起弧”。同時(shí)任何遠(yuǎn)高于正常電流絕對(duì)值也被認(rèn)為是一次“起弧”。為了防止損壞工件,起弧保護(hù)裝置和PLC馬上采取行動(dòng)來(lái)抑制“起弧”,最大限度地保護(hù)工件。下面詳細(xì)介紹這個(gè)保護(hù)的工作過(guò)程:
在檢測(cè)到一個(gè)“起弧”后,起弧保護(hù)裝置內(nèi)部的一個(gè)快速電子開(kāi)關(guān)(6)馬上把偏壓電源(7)從工件上斷開(kāi),并驅(qū)動(dòng)一個(gè)晶閘管把偏壓電源(7)的兩個(gè)輸出端短接起來(lái)。這樣即使快速開(kāi)關(guān)(6)未及時(shí)斷開(kāi),晶閘管(7)也能通過(guò)將偏壓電源輸出端短路引起電源的自我保護(hù),從而抑制偏遠(yuǎn)電源的輸出。然后起弧保護(hù)裝置發(fā)送一個(gè)信號(hào)給PLC,PLC把偏壓電源的使能信號(hào)斷開(kāi)。延時(shí)一段時(shí)間后,PLC將偏壓電源的使能信號(hào)置位,工藝恢復(fù)。
(只有在刻蝕階段):在“起弧”發(fā)生后,弧電源的電流有可能通過(guò)輔助陽(yáng)極(13)→工件(5)→離子室陰極(14)形成另外一個(gè)電流通路。這樣即使把偏壓電源斷開(kāi)后仍不能保證熄弧,工件仍然有被灼傷的危險(xiǎn)。為了避免這種風(fēng)險(xiǎn),起弧保護(hù)裝置還要驅(qū)動(dòng)另外一個(gè)晶閘管(9)并使其動(dòng)作,短接弧電源兩端,使其能量不再輸出。同時(shí)讓PLC把等離子體電源的使能信號(hào)斷開(kāi),弧電源關(guān)閉。延時(shí)一段時(shí)間后,PLC把弧電源和偏壓電源的使能信號(hào)同時(shí)置位,工藝恢復(fù)。
四、主要技術(shù)數(shù)據(jù)
刻蝕電流變化閾值:5A/ms
涂層電流變化閾值:13.5A/ms
偏壓電流最大值:100A(不管電流變化率如何,偏壓電流的絕對(duì)值大于100A,設(shè)備就認(rèn)為有”起弧”現(xiàn)象發(fā)生
短接晶閘管型號(hào):T130N800,額定電流:800A
快速開(kāi)關(guān)型號(hào):BB467828,功率元件IXYS MCO500
起弧抑制時(shí)間:2S
五、“起弧”數(shù)量和頻率的監(jiān)控
綜上所述,為了最大限度地保護(hù)工件,BAI1200設(shè)備為“起弧”現(xiàn)象做了完善的保護(hù)動(dòng)作。這個(gè)保護(hù)動(dòng)作會(huì)持續(xù)2S,也就是說(shuō),在這2S的過(guò)程中,偏壓電源和弧電源處于關(guān)閉狀態(tài)。但設(shè)備總的刻蝕和涂層時(shí)間是程序設(shè)定好的,不能改變。如果“起弧”數(shù)量過(guò)多,就會(huì)導(dǎo)致刻蝕和涂層時(shí)間不足。刻蝕時(shí)間不足會(huì)導(dǎo)致刀具結(jié)合力不好,涂層時(shí)間不足會(huì)導(dǎo)致涂層厚度降低,不符合質(zhì)量要求。另外起弧數(shù)量過(guò)多也會(huì)導(dǎo)致電源頻繁開(kāi)啟/關(guān)斷,對(duì)設(shè)備也是一種沖擊。從質(zhì)量和設(shè)備的角度出發(fā),設(shè)備需要對(duì)“起弧”數(shù)量進(jìn)行監(jiān)控。
“起弧”數(shù)量的監(jiān)控是由工控機(jī)來(lái)完成的。PLC接收到從起弧保護(hù)裝置發(fā)送來(lái)的信號(hào)后,同時(shí)傳送給工控機(jī)。工控機(jī)接收到信號(hào)后開(kāi)始計(jì)數(shù),如果在采樣周期內(nèi)“起弧”數(shù)量超過(guò)設(shè)定值(在刻蝕階段為90S/最大10個(gè),在涂層階段為900S/最大100個(gè)),則,設(shè)備產(chǎn)生報(bào)警,自動(dòng)循環(huán)停。
巴爾查斯的起弧保護(hù)裝置,抑制起弧能力強(qiáng),關(guān)斷可靠。缺點(diǎn)是抑制時(shí)間過(guò)長(zhǎng),在有過(guò)多“起弧”的情況下,涂層厚度不能得到有效保證。而且裝置復(fù)雜,價(jià)格較高。
參考文獻(xiàn)
[1]歐瑞康巴爾查斯公司.BAI1200 涂層機(jī)操作手冊(cè),2003(07).
[2]過(guò)增元,趙文華.電弧和熱等離子體.科學(xué)出版社,1986(12).