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      電鍍梨面鉻工藝的改進(jìn)

      2016-05-31 05:31:08恒天重工股份有限公司李飛石磊
      紡織機(jī)械 2016年1期
      關(guān)鍵詞:粗糙度

      恒天重工股份有限公司 李飛 石磊/文

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      電鍍梨面鉻工藝的改進(jìn)

      恒天重工股份有限公司 李飛 石磊/文

      摘要:對于較高要求的電鍍梨面鉻工件,如果采用常規(guī)電鍍工藝,在一次電鍍鉻層較厚時(shí)容易在表面產(chǎn)生外觀缺陷及鍍層厚度不均勻的問題。本文針對常規(guī)工藝出現(xiàn)的問題進(jìn)行工藝改進(jìn),采用二次電鍍梨面鉻工藝,得到了外觀、性能均符合設(shè)計(jì)要求的鍍層。

      關(guān)鍵詞:梨面鉻,二次鉻,粗糙度,導(dǎo)絲輥

      一 前言

      梨面鉻即梨面硬鉻,也有稱為梨皮鉻、梨地鉻,是在噴砂之后再電鍍硬鉻,鍍層表面形成微觀狀態(tài)為類似于梨子切開之后的表面狀態(tài),所以得名。普通鍍硬鉻后可以采用磨削、拋光等工藝來保證工件尺寸并進(jìn)一步提高表面性能,而梨面鉻不能應(yīng)用上述工藝,否則會(huì)破壞掉表面的梨面狀態(tài)。一般出槽后的尺寸及表面形態(tài)就是最終狀態(tài),因此對電鍍工藝的要求更高。梨面鉻可以改變鉻層表面的反光性能,消除炫光,也可以改變鉻層表面的摩擦系數(shù),以應(yīng)用于不同的使用環(huán)境。在紡機(jī)設(shè)備中根據(jù)使用環(huán)境要求的不同,粗糙度的要求也不同,在滌綸短纖設(shè)備中一般較多使用的都在Ra0.8 ~2.0μm之間。目前隨著國內(nèi)紡機(jī)行業(yè)的發(fā)展,尤其是高強(qiáng)度聚乙烯設(shè)備及碳纖維設(shè)備的發(fā)展,粗糙度要求在Ra0.4 ~0.6μm甚至是Ra0.4μm以下的梨面鉻應(yīng)用也越來越多,形位公差及厚度要求也越來越高。

      常規(guī)鍍梨面鉻的工藝流程為:

      基體拋光→檢驗(yàn)→噴砂→檢驗(yàn)→金屬洗凈劑清洗→水洗→電化學(xué)去油→熱水洗→冷水洗→中和→水洗→入槽預(yù)熱→活化處理→正常電鍍→回收→清洗→卸掛具→檢驗(yàn)

      某紡織機(jī)械設(shè)備中用到的導(dǎo)絲部件如圖1所示,表面技術(shù)要求為:外圓φ100與φ108表面鍍梨面鉻50μm以上,粗糙度要求為Ra0.4 ~0.6μm。其余部位氧化處理。

      在實(shí)際生產(chǎn)中,按照常規(guī)工藝進(jìn)行電鍍加工,對于粗糙度要求在Ra0.4μm左右的梨面鉻工件,厚度要求為30μm的,可以得到滿意的鍍層質(zhì)量。對于50μm及以上厚度要求的鍍層,采用常規(guī)工藝,容易在工件表面形成鉻瘤、毛刺,并且鍍層厚度的均勻性也不易控制。不光滑的表面會(huì)對絲束造成損傷,鍍層厚度不均勻會(huì)導(dǎo)致形位公差超差,這對于高速旋轉(zhuǎn)的導(dǎo)絲部件來說是不允許的。因此我們改進(jìn)為二次電鍍的工藝流程,得到滿意的鍍層外觀,并提高工件的耐蝕能力。

      圖1 導(dǎo)絲輥示意圖

      二 工藝介紹

      1工藝流程

      改進(jìn)后的工藝流程如下:

      基體拋光→檢驗(yàn)→金屬洗凈劑清洗→水洗→電化學(xué)去油→熱水洗→冷水洗→中和→酸洗→水洗→入槽預(yù)熱→活化處理→電鍍?nèi)榘足t→回收→清洗→卸掛具→拋光檢查→噴砂→金屬洗凈劑清洗→水洗→入槽預(yù)熱→活化處理→鍍二次硬鉻→回收→清洗→卸掛具→交堿性氧化處理

      2配方與工藝

      電化學(xué)除油及電鍍鉻均采用常規(guī)工藝配方。

      噴砂采用240#白剛玉,0.5~0.6Mpa(表壓)壓力式噴砂,槍距600mm,角度45°。

      三、工藝過程控制

      1前處理

      此工件的前處理包括拋光、除油。

      1.1拋光的要求:

      在磨床磨削至工藝尺寸之后,電鍍一次鉻之前應(yīng)逐步拋光至粗糙度Ra0.4μm以下。對工件需要電鍍的部位基體應(yīng)仔細(xì)檢查,徹底消除機(jī)加工痕跡,并檢查基體是否存在材質(zhì)夾灰、焊接等缺陷,如有此類缺陷應(yīng)用氬弧焊修復(fù)之后再拋光才能進(jìn)行下一步工序。

      1.2除油

      除油分為化學(xué)除油和電化學(xué)除油。拋光修復(fù)完之后應(yīng)先用熱的金屬洗凈劑溶液清洗輥身,并再次檢查是否有互轉(zhuǎn)過程中的磕碰現(xiàn)象。注意清洗各種絲孔、盲孔內(nèi)的油污及雜質(zhì),要避免孔內(nèi)雜質(zhì)落入電鍍槽中,導(dǎo)致鍍層缺陷。電化學(xué)除油過程分為陽極除油、陰極除油。陽極除油應(yīng)控制時(shí)間,避免出現(xiàn)基體腐蝕,陰極除油也應(yīng)控制時(shí)間,以減少析氫所導(dǎo)致的氫脆影響。

      2乳白鉻的工藝控制

      乳白鉻是采用高溫、較低的電流密度電鍍鉻得到的鍍層,該鍍層顏色乳白,韌性好,孔隙率低,但硬度和光亮度低,因此單獨(dú)應(yīng)用較少。我們在這里一次鉻時(shí)采用乳白鉻,可以增加鍍層的耐腐蝕能力,并且便于一次鉻拋光之后的檢查、修復(fù)。

      乳白鉻可以與硬鉻用同一鍍槽進(jìn)行電鍍,但是乳白鉻電鍍時(shí)采用溫度較高,而鍍硬鉻時(shí)需要降溫處理,頻繁的升溫降溫會(huì)增加能源消耗,乳白鉻較高的工作溫度也會(huì)加速陽極的消耗,把硬鉻槽和乳白鉻槽分開設(shè)定溫度可以避免這類問題。溫度與電流密度對于鍍鉻層光亮程度的影響如圖2所示。按常規(guī)乳白鉻工藝,電流密度用15~20A/dm2,溫度設(shè)定65~70℃。對于乳白鉻鍍層我們設(shè)定厚度為25~30μm,在一次鉻鍍后拋光之后檢查厚度應(yīng)在20μm以上。

      圖2  溫度與電流密度對于鍍鉻層光亮程度的影響

      3噴砂的工藝控制

      一次鉻修拋好之后的工件要進(jìn)行噴砂處理,拋光后的粗糙度不應(yīng)大于Ra0.2μm。應(yīng)該注意的是噴砂用壓縮空氣要潔凈,不能采用含有油、水的壓縮空氣。

      采用0.5~0.6Mpa(表壓)的壓力,噴槍角度45° 180#、240#、320#白剛玉用不同槍距在一次鍍鉻層上進(jìn)行工藝試驗(yàn),得出的粗糙度如表1:

      表1 不同砂型與槍距噴砂得到的粗糙度 槍距(mm)

      根據(jù)要求可以選240#砂用600mm槍距或者320#砂用200mm槍距進(jìn)行噴砂,由于實(shí)際生產(chǎn)中用320#噴砂效率比240#噴砂效率要低的多,因此選240#白剛玉用600mm槍距噴砂,噴槍角度45°。

      噴砂之后要用壓縮空氣把工件表面清理干凈,表面不能有沙粒存在。噴砂之后及時(shí)進(jìn)行電鍍,間隔不應(yīng)超過4小時(shí)期間要保護(hù)工作面,尤其避免用手直接接觸工件噴砂表面。

      4硬鉻的工藝控制

      作為電鍍后無法再修飾表面的鍍層,鍍層的性能與外觀同樣重要。預(yù)熱時(shí)間的保證、活化處理的充分、鍍液的清潔溫度與電流密度的配合選擇都要注意。

      4.1

      預(yù)熱與活化是保證一次鉻與二次鉻結(jié)合力的必要措施根據(jù)工件形狀結(jié)構(gòu)的不同,確定不同的預(yù)熱時(shí)間?;罨梢圆捎藐枠O活化與陰極活化結(jié)合的方式進(jìn)行,陰極活化采用階梯式給電,實(shí)際生產(chǎn)中,用10分鐘時(shí)間把電流從5A/dm2升到正常電鍍電流。

      4.2

      鍍液除了定期分析化驗(yàn)調(diào)整之外還應(yīng)該定期過濾,保證鍍液清潔,防止固體顆粒物雜質(zhì)在電鍍過程中吸附到工件的表面。

      4.3

      圖3是溫度和電流密度對鉻層硬度影響曲線(等硬度線)。

      圖3 溫度和電流密度對鉻層硬度影響曲線

      根據(jù)圖2、圖3結(jié)合選擇,我們采用電流密度30A/dm2,正常電鍍溫度采用50~52℃。最終兩層鍍層厚度之和應(yīng)大于圖紙要求的50μm,并保證工件尺寸要求。與普通鍍鉻相比,因?yàn)槲⒂^凹坑的因素,梨面鉻在計(jì)算電鍍面積的時(shí)候根據(jù)不同的粗糙度要求要比普通鍍鉻的面積適當(dāng)放大,對于此工件我們用的1.1的比例進(jìn)行放大。

      5工裝掛具的選用及設(shè)備的影響因素

      工件直立于鍍槽之中,陽極均勻擺放四周以盡量保證電鍍層圓周方向的均勻性。選用合適的工裝掛具,做好陰極屏蔽,減少尖端放電效應(yīng)的影響,保證鍍層在徑向上均勻性。

      6后處理

      電鍍梨面鉻完成后,清洗干凈,不能有酸液殘留,用清潔熱水燙干之后盡快交堿性氧化處理。如果不能及時(shí)進(jìn)行下一步工序,應(yīng)用水性防銹措施對未鍍部位進(jìn)行防護(hù),避免生銹。氧化處理應(yīng)采用堿性氧化處理。

      四 結(jié)果分析

      工件加工中,粗糙度實(shí)測在Ra0.4 ~0.5μm之間,厚度在55~65μm,硬度經(jīng)超聲波無損檢測約為HV850~950,鍍層外觀光滑不鉤掛纖維,滿足了設(shè)計(jì)要求。

      經(jīng)過生產(chǎn)實(shí)踐應(yīng)用,對改進(jìn)后的工藝進(jìn)行分析:

      1優(yōu)點(diǎn)分析

      此工件應(yīng)用二次電鍍的梨面鉻工藝相對于一次電鍍工藝有以下優(yōu)點(diǎn):

      因?yàn)槊繉渝儗佣荚?0~30μm,不容易產(chǎn)生鉻瘤、毛刺,降低了工件的返工率;

      在一次鉻時(shí)采用乳白鉻工藝,鍍層致密性更好,提高了工件的耐蝕能力;

      鍍層厚度更均勻也更容易控制。

      2在生產(chǎn)中需要注意的問題

      因?yàn)樾枰M(jìn)行二次電鍍,所以兩次電鍍層之間的結(jié)合力必須保證,要嚴(yán)格執(zhí)行工藝進(jìn)行預(yù)熱與活化。否則會(huì)引起起皮、起泡等缺陷。

      工件鍍鉻后噴砂與在基體上直接噴砂的工藝參數(shù)不同,需要驗(yàn)證調(diào)整。

      相比于一次梨面鉻電鍍,因?yàn)橹虚g加有一次拋光工藝,所以會(huì)有5~10μm左右鉻層的損失。

      五 結(jié)論

      技術(shù)精度要求不高的梨面鉻盡量采用一次電鍍的方式進(jìn)行。對于尺寸精度要求比較高或者厚度更厚的梨面鉻,可以采用加厚一次鉻鍍層,然后通過磨床磨削保證工件尺寸及形位公差,再進(jìn)行拋光、噴砂,電鍍二次梨面鉻30μm左右來保證外觀及形位公差的要求。

      參考文獻(xiàn)

      1 曾華梁 , 吳仲達(dá), 陳鈞武等.電鍍工藝手冊[M].機(jī)械工業(yè)出版社,1997.

      2 章葆澄.電鍍工藝學(xué)[M].北京航空航天大學(xué)出版社,1993.

      3張勝濤. 電鍍工程[M].化學(xué)工業(yè)出版社,2002.

      4 張?jiān)食?,胡如南,向榮[M].國防工業(yè)出版社,2007.

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