閻哲華 代麗 孫晉 姜發(fā)同 劉威 代平 李云鵬
摘要:采用頂部耔晶法生長了不同Li/Nb(Li/Nb=0.94,1.05,1.20and 1.38)的Zr:Fe:LiNbO3單晶,測試了zr:Fe:LiNbO3晶體的分凝系數(shù),實(shí)驗(yàn)結(jié)果表明,Li/Nb(Li/Nb=1.38的zr:Fe:LiNbO3晶體有的zr離子分凝系數(shù)減少并趨于1,隨著熔體中Li/Nb比增加,晶體Li/Nb比增加,結(jié)合LiNbO3晶體的占位機(jī)制和鋰空位缺陷解釋了這一實(shí)驗(yàn)結(jié)果,
關(guān)鍵詞:鋯鐵鈮酸鋰晶體;頂部耔晶法;分凝系數(shù)
DOI:10,15938/j.ihust.2016.04.015
中圖分類號(hào):TP33,4
文獻(xiàn)標(biāo)志碼:A
文章編號(hào):1007—2683(2016)04—0080一03
0引言
鈮酸鋰(LiNbO3)晶體具有優(yōu)良的電光、壓電與非線性光學(xué)性能,廣泛應(yīng)用于多種光學(xué)器件…,由于純鈮酸鋰晶體光折變效應(yīng)相對較弱,摻人光折變敏感雜質(zhì)Fe后,具備優(yōu)異的光折變性能,但是抗光散射能力比較低,研究者們發(fā)現(xiàn)在Fe:LiNbO3晶體摻入抗光散射能力的雜質(zhì)Mg,zn,In,sc,zr,Hf等可有效克服這一缺點(diǎn),本文選擇Zr:Fe:LiNbO3晶體為主體,而晶體材料的微觀結(jié)構(gòu)直接影響材料的宏觀性能,采用電感耦合等離子體原子發(fā)射光譜(ICP—AES)測定了摻雜離子在晶體中的實(shí)際濃度,通過頂部耔晶法制備不同Li/Nb摩爾比的zr:Fe:LiNbO,晶體,研究熔體中Li/Nb摩爾比的改變對晶體中Li/Nb的變化與摻雜離子zr和Fe分凝系數(shù)的影響,為今后Zr:Fe:LiNbO3晶體性能的研究奠定了強(qiáng)有利的基礎(chǔ),
1.zr:Fe:LiNbO3晶體的生長
采用K2W207作為助熔劑,利用TSSG法生長不同Li/Nb(Li/Nb=O,94,1,05,1,20,1,38)的Zr:Fe:LiNb03晶體,生長晶體所用的Nb:O;,Li,CO3,ZrOz和Fe2O3原料純度均為99,99%,晶體生長的設(shè)備為MCGE-Ⅲ型號(hào)提拉機(jī),爐體通過電阻絲升高溫度,所用的坩堝尺寸為Φ65 mm×50 mm,AI,808P控溫儀,吊取耔晶:首先把所有原料放人鉑坩堝,然后將爐體的溫度升高至飽和溫度80℃以上,恒溫22 h,致使原料全部熔化,最后,降低到飽和溫度以上2~4℃,采用鉑金絲開始引晶,這時(shí),耔晶開始熔化一小部分,有利于避免耔晶的缺陷到晶體中,在整個(gè)熔體的溫度下降到飽和溫度開始生長,提拉速度為1.5—2mm/24h,轉(zhuǎn)速為20-25r/min,生長起初的24~48 h內(nèi),采用恒定溫度繼續(xù)生長,下一步降溫速度為0.05—0.1du3C/h,同時(shí)提拉速度為O.1~0.2mm/d提拉,當(dāng)晶體生長到10—15d后。開始把晶體提離液面,同時(shí)以10~12°3C/h的速度降低到室溫,由于生長的LiNbO3晶體是多疇的,因此,切割之前第一步是人工極化,極化電流密度為5 mA/cm,極化溫度定在1200°C,通電時(shí)間定在30 min,極化完全的樣品需要定向切割和研磨拋光后方可用于下一步的測試,
1)定向,鈮酸鋰晶體的各向異性決定首先需要對晶體確定微觀取向,為描述樣品在某一指定方向的特性,即對晶體定向,采用DX-2/4型x射線定向儀,其基本結(jié)構(gòu)如圖1所示,定向的基本原理描述如下:X射線光束首先經(jīng)過狹縫,這時(shí),光變得相當(dāng)細(xì),該束光照射到樣品上,弱樣品的晶面A...位置滿足布拉格定律,晶面的位置將發(fā)生相干衍射,在計(jì)數(shù)管的2θ位置就是衍射線所在的位置。
2)切割,采用J5060C型自動(dòng)內(nèi)圓切片機(jī)切割,4個(gè)樣品都沿C軸方向切割,均為y切型,4個(gè)晶體統(tǒng)一切割成為20min×20mm×25mln的晶片,
3)研磨拋光,切割后的樣品在拋光機(jī)上進(jìn)行研磨拋光,采用玻璃盤研磨晶體,用膠盤對其拋光,
制備的4個(gè)樣品分別定義為ZFl、ZF2、ZF3和ZF4,不同Li/Nb的zr:Fe:LiNbO3晶體原料配比如表1所示。
2.分凝系數(shù)測試結(jié)果
晶體中的摻雜離子的不同,分凝系數(shù)也會(huì)隨著改變,晶體中與熔體中的雜質(zhì)離子濃度也會(huì)不同,由此可以判斷,晶體中摻雜離子的真實(shí)濃度是研究晶體性能的首要條件,電感耦合等離子體原子發(fā)射光譜法(ICP-AES)具備動(dòng)態(tài)范圍寬,檢測能力強(qiáng),同時(shí)可以多種摻雜離子測定,高精度和高靈敏度等諸多優(yōu)點(diǎn)ICP發(fā)射光譜是根據(jù)微波范圍的電磁波或無線電波來替代直流電,在惰性氣體中單極或無極感應(yīng)放電,產(chǎn)生等離子體,根據(jù)特征譜線強(qiáng)度確定晶體中相應(yīng)摻雜元素的含量,采用美國Leeman公司生產(chǎn)的電感耦合等離子體原子發(fā)射光譜儀(Opti,ma 5300DV型),測試濃度范圍控制為10-7:精度(相對標(biāo)準(zhǔn)偏差)為:<6%。
所使用的標(biāo)準(zhǔn)溶液為國家標(biāo)準(zhǔn)溶液,Li、Nb、zr、Fe元素標(biāo)準(zhǔn)溶液濃度均為l000ug/mL,介質(zhì)為10%HCl,實(shí)驗(yàn)中分別量取四種元素的標(biāo)準(zhǔn)溶液倒人50 mL容量瓶里,同時(shí)加入5mL純鈮酸鋰的溶液,添加蒸餾水來定容,取5mL溶液倒人50mK容量瓶里定容,li、Nb、zr、Fe元素的濃度均為100 ug/mL,
實(shí)驗(yàn)中,分別從晶體的上中下3個(gè)部位切割一部分,將切割下來的部分加入到瑪瑙研缽研為粉末狀(粉末狀的顆粒度一般大于200目),用天平準(zhǔn)確稱取0.05g粉末放入聚四氟乙烯燒杯,再加5 mL硝酸和2mL氫氟酸溶液,同時(shí)加熱20 min,全自動(dòng)微波消解爐對樣品粉末微波消解,
分凝系數(shù)Kn反映固一液兩相處于平衡時(shí),晶體生長過程的摻雜離子的質(zhì)量傳輸分布特征,定義式如下:
式中:G5為晶體中摻雜離子的濃度;Gl為熔體中摻雜離子的濃度。
晶體中[Li]/[Nb]比與熔體中[li]/[Nb]比的變化關(guān)系如圖2所示,圖3和圖4分別給出了晶體中zr離子和Fe離子分凝隨著熔體中[Li]/[Nb]比的變化關(guān)系,
3.結(jié)論
采用頂部耔晶法生長了不同Li/Nb(Li/Nb=0.94,1.05,1.20and 1.38)的zr:Fe:LiNbO3晶體,利用電感耦合等離子體原子發(fā)射光譜法測試晶體中摻雜離子的分凝系數(shù),結(jié)果表明,zr:Fe:LiNbO3熔體原料中[Li]/[Nb]比的增加,晶體中的[Li]/[Nb]也隨著增加,導(dǎo)致本征缺陷濃度減少,Li的含量增加,導(dǎo)致zr離子和Fe離子更難進(jìn)入晶體,Zr離子和Fe離子的分凝系數(shù)都變小,當(dāng)[Li]/[Nb]=1.38時(shí),Zr的分凝系數(shù)為1.069,接近于1