科研裝備研制項目——“高離化率磁控濺射復合受控陰極電弧鍍膜裝置”通過中科院驗收

科研裝備研制項目——“高離化率磁控濺射復合受控陰極電弧鍍膜裝置”通過中科院驗收

2016年6月30日，中國科學院寧波材料技術與工程研究所承擔的中國科學院科研裝備研制項目—— “高離化率磁控濺射復合受控陰極電弧鍍膜裝置”順利通過了中國科學院條件保障與財務局組織的驗收。驗收專家組由來自蘇州納米所、物理研究所、合肥強磁場科學中心、中國計量大學、蘇州大學、金屬研究所、蘭州化物所、上海硅酸鹽所等有關單位的專家組成。中國科學院條件保障與財務局副局長曹凝、科技條件處副處長姜言彬出席了驗收會。

上午，測試專家組聽取了項目組測試說明，審議和確認了測試大綱，根據(jù)實施方案規(guī)定的要求從研制裝備的運行、使用情況、技術測試實驗結果等角度對各項技術指標逐一進行現(xiàn)場測試，形成技術測試報告。

下午，驗收專家組聽取了項目組工作報告、財務報告、使用報告和測試專家組的測試報告，現(xiàn)場查看了裝備的運行情況，查閱了文件檔案及相關財務賬目。驗收專家組認為，項目承擔單位完成了實施方案規(guī)定的研制任務，達到了研制目標，同意項目通過驗收。

“高離化率磁控濺射（HIPIMS）復合受控陰極電弧鍍膜裝置”項目通過對高功率磁控管模塊、受控陰極電弧源模塊、HIPIMS電源、關鍵子系統(tǒng)、PLC控制等的設計優(yōu)化和適配加工，研制出了一套具有核心專利技術的高功率脈沖磁控濺射復合受控陰極電弧鍍膜裝置，該裝備具有離化率高、放電穩(wěn)定、繞射性好、大面積均勻、運行可靠的特點。利用該裝置，不僅實現(xiàn)了以TiAlSiN與DLC為主的兩類目標硬質涂層材料高質量制備；且光譜與探針原位診斷表明，HIPIMS技術實現(xiàn)了金屬Ti的離化率達80%，等離子體密度達1019/m3。另外，該裝置具有良好功能拓展性，能實現(xiàn)CrB2超硬涂層和高純MAX相防護涂層的設計與制備。

（中科院寧波材料所）