張浩然
摘要:用微磁學(xué)模擬FePt(30 nm)磁晶各向異性Ku的變化分析矯頑力的變化,與曾實(shí)驗(yàn)得到生長(zhǎng)溫度為700℃用磁控濺射法在MgO(001)基片上生長(zhǎng)FePt薄膜對(duì)比,得到磁晶各向異性參數(shù)Ku。
關(guān)鍵詞:L10-FePt;矯頑力;磁晶各向異性參數(shù)Ku;微磁學(xué)模擬
FePt[1],CoPt[2]和FePd[3]等有序相(面心四方,L10相)合金材料,在交換耦合納米磁體中,具有高單軸磁晶各向異性(Ku),并且對(duì)于高密度數(shù)據(jù)存儲(chǔ)有潛在的應(yīng)用。這些合金有大的磁晶各向異性(Ku ~1.77×107-6.70×107 erg/cm3,1erg = 10-7 J),以致于呈現(xiàn)出特殊的性質(zhì):即超小納米粒子的阻斷溫度(TB)高于室溫[4]。在這幾種材料中,L10-FePt和L10-FePd合金是化學(xué)有序的,并且顯示出高的磁晶各向異性(Ku)和大的矯頑力(HC)。而L10-FePt合金的磁能積(BH)max達(dá)到了13 MGOe,成為高密度磁存儲(chǔ)應(yīng)用的良好候選材料[5]。
1 微磁學(xué)仿真方法
微磁學(xué)模擬(OOMMF)就基于Gilbert提出了LLG方程為理論依據(jù)進(jìn)行模擬的。模擬樣品的尺寸分別為300 nm×300 nm×(5,30)nm;300 nm×300 nm×(3 nm/27 nm,網(wǎng)格尺寸為5 nm×5 nm×1 nm。硬磁的磁晶各向異性軸和飽和磁化強(qiáng)度的方向都垂直膜面。L10-FePt模擬參數(shù):磁化強(qiáng)度M:ML10-FePt約為105 A/m;交換耦合常數(shù)A:AA1-FePt,Aex約為10-11 J/m[6];磁晶各向異性參數(shù)Ku:K L10-FePt=1~5×106 J/m3。
3 結(jié)果與討論
圖1是FePt(30 nm,Ku)經(jīng)微磁學(xué)模擬不同Ku值的磁滯回線。L10-FePt的易軸為[001]方向,模擬只考慮[001]方向的磁化曲線。Ku = 1.0×106J/m3、1.5×106 J/m3和2.0×106 J/m3時(shí),矯頑力分別為Hc =15.18 kOe、25.51 kOe和35. 84 kOe。磁晶各向異性能Ku的增加,矯頑力增大。實(shí)驗(yàn)得到FePt(001)(30 nm)薄膜在不同溫度進(jìn)行熱處理后的磁滯回線[7]。熱處理溫度Ta = 500℃,磁化曲線近似呈方形,其主要原因是因?yàn)橥舜艌?chǎng)不一樣造成的。沿面內(nèi)方向磁化,退磁因子N ≈ 0。而沿垂直方向磁化,N ≈ 1,= -NM。沿面內(nèi)方向磁化,磁化曲線也有面積,可能原因是薄膜內(nèi)還存在軟磁相造成的(兩相晶格常數(shù)有差異,使得膜內(nèi)存在畸變)。Ta = 600℃,沿面內(nèi)方向磁化曲線的面積明顯減少,這就說(shuō)明殘存的A1相可能已經(jīng)不多了。雖然垂直方向磁化曲線的矩形度更好,但是矯頑力卻降低了(只有不到1 kOe)。這主要是因?yàn)楸∧るm然在一些區(qū)域出現(xiàn)了孔洞,但整體是連通的。有序化轉(zhuǎn)變使得顆粒相互吸收或者合并,形成大片單晶,使得疇壁可以在很大范圍內(nèi)比較自由地移動(dòng),所以盡管L10相更多,但矯頑力反而變小的原因。Ta=700℃[7]薄膜不連續(xù)和小片單晶的出現(xiàn),從而造成矯頑力更?。?.47 kOe),與模擬結(jié)果相差較大。生長(zhǎng)溫度為700℃用磁控濺射法在MgO(001)基片上生長(zhǎng)FePt薄膜。20nm厚的FePt薄膜,矯頑力Hc =30 kOe;當(dāng)膜厚增加為45nm時(shí),矯頑力Hc = 25 kOe。表明膜厚為30nm時(shí),矯頑力Hc =25~30 kOe[8]。微磁學(xué)模擬結(jié)果顯示,當(dāng)Ku = 1.5×106 J/m3時(shí),矯頑力大小在此范圍內(nèi)。說(shuō)明FePt(30 nm)薄膜的磁晶各向異性能Ku大約為1.5×106 J/m3。但是,由于薄膜實(shí)際的飽和磁化強(qiáng)度比理想的較小,所以Ta = 700℃的FePt(30 nm)薄膜實(shí)際磁晶各向異性能較小。
4 結(jié)論
生長(zhǎng)溫度為700℃用磁控濺射法在MgO(001)基片上生長(zhǎng)FePt薄膜。FePt(30 nm)薄膜的磁晶各向異性能Ku大約為1.5×106 J/m3。但是,由于薄膜實(shí)際的飽和磁化強(qiáng)度比理想的較小,所以Ta = 700℃的FePt(30 nm)薄膜實(shí)際磁晶各向異性能較小。
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