王 巖
(山東省地質(zhì)礦產(chǎn)勘查開發(fā)局第六地質(zhì)大隊(duì)(山東省第六地質(zhì)礦產(chǎn)勘查院),山東 招遠(yuǎn) 265400)
本次工作研究的主要內(nèi)容包括。
(1)以往預(yù)測(cè)深在-2000m以淺。2010年以來,在-1000m以下深度范圍內(nèi)取得重大突破,鉆孔控制礦體最大深部已達(dá)-2030m標(biāo)高,以往預(yù)測(cè)已無(wú)法指導(dǎo)深部勘查,預(yù)測(cè)深部亟待解決。
(2)區(qū)內(nèi)主干控礦斷裂有多處空白地段,空白區(qū)找礦方向亟待解決。
工作區(qū)位于膠東半島西北部,其大地構(gòu)造位置處在華北板塊(Ⅰ級(jí))、膠遼隆起區(qū)Ⅲ(Ⅱ級(jí))、膠北隆起Ⅲa(Ⅲ級(jí))、膠北斷?、骯1(Ⅳ級(jí))之龍口凹陷(Ⅴ級(jí))、膠北凸起(Ⅴ級(jí))、棲霞-馬連莊凸起Ⅲa16(Ⅴ級(jí))。
區(qū)內(nèi)以斷裂構(gòu)造發(fā)育為其突出特征,按其展布方向的差異將其大致分為北東向、近南北向及北西向三組斷裂構(gòu)造。
(1)電阻率特征。本區(qū)巖礦石電阻率可分為高、中、低阻三種,高電阻率巖石有玲瓏序列二長(zhǎng)花崗巖、郭家?guī)X序列花崗閃長(zhǎng)巖,其電阻率一般在2800ΩM以上,由于其巖性、結(jié)構(gòu)、構(gòu)造的不同,造成電性不均勻,致使電阻率變化范圍較大,最高可達(dá)8810ΩM,視電阻率曲線呈鋸齒狀跳躍;其次為蝕變花崗巖及碎裂狀花崗巖,其電阻率值一般為900ΩM~1200ΩM,電阻率比原巖明顯降低,反映在視電阻率曲線上會(huì)表現(xiàn)為明顯的低阻特征;而當(dāng)蝕變帶中的巖石硅化程度較高時(shí),視電阻率曲線則會(huì)表現(xiàn)為低阻帶中的局部高阻特征;變輝長(zhǎng)巖的電阻率最低,一般在300ΩM左右,電阻率值變化范圍較小,即比較穩(wěn)定,視電阻率曲線低緩平穩(wěn)。
(2)極化率特征。二長(zhǎng)花崗巖及花崗閃長(zhǎng)巖的極化率低而穩(wěn)定,一般在5%以下,變輝長(zhǎng)巖的極化率更低,一般在4%以下。而巖石經(jīng)礦化蝕變后,極化率明顯升高,一般在7%以上,蝕變礦化強(qiáng)烈的富礦石的極化率更高,一般達(dá)20%左右,是各類正常巖石的3倍~5倍,蝕變巖型金礦含量與金屬硫化物含量一般呈正相關(guān)關(guān)系[1]。
測(cè)量工作主要為可控源音頻大地電磁測(cè)深(CSAMT)及頻譜激電測(cè)深(SIP)剖面敷設(shè)測(cè)點(diǎn),工作比例尺1:10000。
本次的CSAMT工作根據(jù)前期試驗(yàn)選取的技術(shù)參數(shù)進(jìn)行工作,發(fā)射電源偶極選擇AB=2.0km,接收偶極MN=50m,收發(fā)距R=9km~12km。
頻譜激電法是通過向地下發(fā)射交變電流,在一個(gè)很寬的頻率范圍內(nèi)(10-2Hz~n×102Hz之間)測(cè)量視復(fù)電阻率,根據(jù)測(cè)量得到的視復(fù)電阻率的振幅譜和相位譜特征及空間分布尋找地電異常,并對(duì)目標(biāo)異常體的物性進(jìn)行判斷,從而達(dá)到解決地質(zhì)問題的目的的一種電法勘探方法。頻譜激電法在空間域和頻率域的高密度測(cè)量,較其他的物探方法具有抗干擾能力強(qiáng),獲取電性參數(shù)多,多參數(shù)對(duì)比解釋可提供更豐富的異常信息的優(yōu)點(diǎn)[2]。針對(duì)本次勘探目標(biāo),選用a=300m,隔離系數(shù)S為4~10。
(1)L1線剖面電性特征。該剖面方位90°,點(diǎn)號(hào)自5600~11800,剖面長(zhǎng)度6.2km,見圖1。
圖1 L1線CSAMT反演斷面圖
斷裂構(gòu)造在該剖面上主要顯示為5組斷裂,編號(hào)F1、F2、F4、F5、F6,各斷裂構(gòu)造在該剖面特征如下。
F1斷裂:該斷裂推斷地表出露于7400號(hào)點(diǎn),傾向?yàn)闁|,傾角45°,電阻率反演斷面圖上表現(xiàn)出強(qiáng)烈的低阻特征。
F2斷裂:該斷裂推斷地表出露于9200號(hào)點(diǎn),傾向?yàn)槲?,傾角呈波狀起伏,傾角變化范圍22°~58°。536ZK1可對(duì)其控制,鉆探資料顯示為強(qiáng)烈的破碎蝕變帶。
F4斷裂:屬于較大斷裂構(gòu)造,地表出露于10800號(hào)點(diǎn),傾向?yàn)槲?,傾角變化范圍25°~40°,0m~-800m傾角較緩,深部變陡。鉆孔536ZK1、536ZK2、544ZK1在該斷裂上顯示出斷層泥,且靠近斷層泥附近巖心表現(xiàn)出較高的碎裂形態(tài)。
F5斷裂:根據(jù)電阻率反演斷面圖推斷該斷裂地表未出露,與F4斷裂形成入字形狀態(tài),傾向?yàn)闁|,傾角約40°。該斷裂在電性剖面上整體顯示為條帶狀低阻異常。
(2)L2線剖面電性特征。該剖面方位90°,點(diǎn)號(hào)7350~12400號(hào)點(diǎn),剖面長(zhǎng)度5.05km,見圖2。
圖2 L2線CSAMT反演斷面圖
斷裂構(gòu)造在該剖面上主要為F1、F2、F4、F5斷裂。其剖面特征表現(xiàn)如下。
F1斷裂:地表出露推斷位于7500號(hào)點(diǎn),傾向?yàn)闁|,傾角約45°,淺部表現(xiàn)為低阻漏斗狀,深部表現(xiàn)為電阻率等值線局部扭曲。
F2斷裂:地表出露推斷為9500號(hào)點(diǎn),傾向?yàn)槲鳎瑑A角15°~49°,0m~-800m傾角較陡,表現(xiàn)為低阻漏斗狀,深部變緩,表現(xiàn)為高低阻過渡帶。
F4斷裂:推斷地表出露于10900號(hào)點(diǎn)附近,斷裂整體表現(xiàn)為波狀起伏狀態(tài),傾向?yàn)槲鳎瑑A角25°~40°,電性剖面上,淺部與深部顯示為電阻率等值線的局部扭曲,中部位明顯條帶狀低阻體。
F5斷裂:推斷地表出露于11000號(hào)點(diǎn)附近,與F4斷裂形成入字形狀態(tài),傾向?yàn)闁|,傾角約40°。該斷裂在電性剖面上整體顯示為條帶狀低阻異常。
根據(jù)前述,主要推斷了6條斷裂構(gòu)造,全部產(chǎn)于中生代花崗巖地層中,而焦家斷裂帶屬于多期次的構(gòu)造產(chǎn)生,經(jīng)歷了張性-壓扭性等作用[3],我們大膽推斷,徐村苑以南至小張家及本次工作的L1線一帶,斷裂構(gòu)造多以脆性-韌脆性為主,其原因在于中生代巖漿巖漿活動(dòng)過程中,淺部中低溫巖漿已冷凝結(jié)晶,后期經(jīng)過構(gòu)造運(yùn)動(dòng)或深部巖漿上涌對(duì)其完整性造成破壞,形成張性斷裂,根據(jù)該區(qū)CSAMT剖面及收集到的大地電磁測(cè)深資料顯示,中淺部多形成條帶狀低阻區(qū)域,顯示為破碎帶特征,而鉆孔揭露情況壓扭性斷層泥特征較少。而金礦礦源物質(zhì)來源最早為太古代地層,經(jīng)歷巖漿熔融萃取冷凝結(jié)晶形成,因此推斷,下一步找礦工作重點(diǎn)放在靠近南段的L1線附近。
根據(jù)前述,我們將頻譜激電測(cè)深(SIP)工作布置在L1線及L2線,視電阻率特征與CSAMT反演斷面圖相似,呈現(xiàn)較為明顯界限,焦家斷裂帶下穿玲瓏花崗巖體,且兩條剖面在小號(hào)點(diǎn)(剖面西側(cè))表現(xiàn)出巖體不同程度的隆升。視充電率在L2剖面表現(xiàn)相對(duì)正常,在9100號(hào)點(diǎn)~9300號(hào)點(diǎn)深度1100m~1300m表現(xiàn)出孤立高極化異常,將其列為靶區(qū),而L1剖面視充電率斷面圖明顯受到場(chǎng)源效應(yīng)影響,后期將進(jìn)行進(jìn)一步處理,見圖3。
圖3 SIP反演綜合斷面圖圖
通過綜合物探結(jié)合鉆探工程資料的手段,基本可確定焦家斷裂帶南延部位位置;唯一不足就是SIP工作結(jié)果明顯受到場(chǎng)源效應(yīng)影響,發(fā)射極相對(duì)接收極位置的差別對(duì)結(jié)果影響較大。