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      相控陣全聚焦技術(shù)應(yīng)用于某主吸收塔橫向裂紋檢測(cè)分析

      2019-09-10 07:22:44龔吉春
      關(guān)鍵詞:晶片橫波掃查

      龔吉春

      對(duì)某含硫天然氣主吸收塔,采用超聲橫波進(jìn)行檢測(cè)發(fā)現(xiàn)大量橫向裂紋,為了對(duì)該類缺陷更直觀的成像和檢測(cè),選取兩處采具有代表性位置的橫向裂紋用相控陣全聚焦TFM技術(shù)對(duì)橫向裂紋進(jìn)行檢測(cè),然后與缺陷解剖后形態(tài)對(duì)比,對(duì)全聚焦在焊縫檢測(cè)上的特點(diǎn)進(jìn)行分析,為相控陣全聚焦TFM技術(shù)應(yīng)用于帶堆焊層焊縫橫向裂紋檢測(cè)提供一種解決辦法。

      超聲橫波;橫向裂紋;帶堆焊層焊縫;相控陣全聚焦TFM

      1、概述

      某天然氣凈化廠主吸收塔在進(jìn)行定期檢驗(yàn)過程中,采用超聲橫波檢測(cè)主焊縫,發(fā)現(xiàn)焊縫內(nèi)部存在大量超標(biāo)橫向裂紋,采用磁粉檢測(cè),發(fā)現(xiàn)存在表面開口的橫向裂紋,為了對(duì)該類缺陷更直觀的成像和檢測(cè),選取兩處采具有代表性位置的橫向裂紋,一處為焊縫內(nèi)部橫向裂紋,一處為表面開口橫向裂紋,用相控陣全聚焦TFM技術(shù)對(duì)橫向裂紋進(jìn)行檢測(cè),然后與缺陷解剖后形態(tài)對(duì)比,對(duì)全聚焦在焊縫檢測(cè)上的特點(diǎn)進(jìn)行分析,為相控陣全聚焦TFM技術(shù)應(yīng)用于帶堆焊層焊縫橫向裂紋檢測(cè)提供一種解決辦法。

      2、主吸收塔主要技術(shù)參數(shù)

      3、檢測(cè)對(duì)象及范圍

      3.1、主吸收塔焊縫參數(shù)

      4、全聚焦TFM技術(shù)

      4.1、全聚焦TFM技術(shù)介紹

      4.1.1全聚焦工作方式

      對(duì)于多陣元相控陣探頭,依次激勵(lì)每一個(gè)晶片激發(fā)球形波射入材料,每一次發(fā)射后材料中不連續(xù)處的反射回波將同時(shí)被所有晶片接收。

      4.1.2全聚焦數(shù)據(jù)采集方式FMC

      以探頭為4個(gè)晶片為例,第1個(gè)晶片T1發(fā)射信號(hào),4個(gè)晶片接收信號(hào);第2個(gè)晶片T2發(fā)射信號(hào),4個(gè)晶片接收信號(hào);第3個(gè)晶片T3發(fā)射信號(hào),4個(gè)晶片接收信號(hào);第4個(gè)晶片T4發(fā)射信號(hào),4個(gè)晶片接收信號(hào);這樣一共得到4×4個(gè)信號(hào)。此過程被稱為全矩陣捕捉FMC。具體過程見圖3。

      4.1.3全聚焦的數(shù)據(jù)處理方式

      (1)以全矩陣捕捉FMC數(shù)據(jù)采集形成A掃數(shù)據(jù)為矩陣FMC(4x4);

      (2)自定義一個(gè)二維矩形成像區(qū),得到區(qū)域中任意一點(diǎn)P(x,y) 到探頭任意一對(duì)晶片組合(M,N)的聲程S M,P = 探頭晶片M到成像區(qū)中一點(diǎn)P的聲程;SP,N = 成像區(qū)中一點(diǎn)P到探頭晶片N的聲程;

      (3)以成像區(qū)中的聲程數(shù)據(jù)為依據(jù),結(jié)合采集的矩陣數(shù)據(jù)FMC進(jìn)行相干處理,根據(jù)不同的波型及算法對(duì)圖像進(jìn)行重構(gòu),以達(dá)到在成像區(qū)中各點(diǎn)能量高度聚焦的效果。

      4.2、探頭及楔塊選擇

      4.2.1線陣探頭

      由于一次激發(fā)64個(gè)晶片,可以聚焦得更深,焦點(diǎn)尺寸更小,分辨力更好,信噪比更高所以通常選用64個(gè)晶片,本次選用線陣探頭:5L64-N55S,具體參數(shù)如下表:

      4.2.2楔塊

      通常缺陷與表面呈一定的角度,故選用一定的角度的楔塊,對(duì)發(fā)現(xiàn)缺陷非常重要,且在頻率相同的情況下,折射橫波波長(zhǎng)相對(duì)于縱波波長(zhǎng)更短,檢測(cè)靈敏度更高,故選擇合適角度的楔塊,進(jìn)行波型轉(zhuǎn)換和入射角度選擇,本次選用的楔塊形狀及參數(shù)見圖2。

      4.3、全聚焦設(shè)置

      4.3.1設(shè)置要求

      掃查范圍要能覆蓋整個(gè)深度范圍,由于全聚焦64陣元的探頭采集的矩陣數(shù)據(jù)FMC的尺寸很大,通常在10幾個(gè)G左右,故分兩個(gè)深度范圍0-60mm,40-88mm進(jìn)行掃查,且兩個(gè)范圍有10-20%的重復(fù)區(qū)域;掃查的長(zhǎng)度范圍能覆蓋熱影響區(qū)域和焊縫金屬區(qū)域。具體的掃查覆蓋范圍見圖3和圖4。

      4.3.2覆蓋厚度范圍為0-60mm掃查

      4.3.3覆蓋厚度范圍為40-88mm掃查

      4.3.4掃查長(zhǎng)度和寬度范圍

      掃查的長(zhǎng)度范圍能覆蓋熱影響區(qū)域和焊縫金屬區(qū)域,具體是從位置1到位置2,長(zhǎng)度為80mm,見圖3和圖4;為了對(duì)整個(gè)區(qū)域進(jìn)行掃查,從位置1到位置2掃查完后,將探頭向右側(cè)移動(dòng)60mm,繼續(xù)掃查相鄰的區(qū)域,直到將整個(gè)區(qū)域覆蓋。

      5、全聚焦檢測(cè)

      5.1、相控陣全聚焦TFM對(duì)內(nèi)部橫向缺陷的檢測(cè)

      5.1.1全聚焦檢測(cè)

      采用4.3的設(shè)置要求,經(jīng)相控陣全聚焦TFM檢測(cè),對(duì)焊縫內(nèi)部的一處橫向裂紋進(jìn)行檢測(cè),缺陷編號(hào)為1#,掃查圖像見圖5。具體檢測(cè)結(jié)果見下表:

      5.1.2、解剖結(jié)果

      解剖發(fā)現(xiàn),裂紋長(zhǎng)度50mm,深度在56-83mm之間,分布在焊縫金屬范圍內(nèi),裂紋面與筒體內(nèi)外表面和焊接方向均呈45°夾角,具體形態(tài)見圖6。

      通過對(duì)比,發(fā)現(xiàn)全聚焦TFM在檢測(cè)內(nèi)部橫向裂紋圖像與實(shí)際形態(tài)一致,且檢測(cè)數(shù)據(jù)與實(shí)際也很接近。

      5.2、相控陣全聚焦TFM對(duì)表面開口缺陷的檢測(cè)

      采用4.3的設(shè)置要求,經(jīng)相控陣全聚焦TFM檢測(cè),對(duì)焊縫的一處表面開口橫向裂紋進(jìn)行檢測(cè),缺陷編號(hào)為2#,掃查圖像見圖7。具體檢測(cè)結(jié)果見下表:

      該缺陷為表面開口缺陷,而檢測(cè)結(jié)果顯示該缺陷離表面2.0mm,故全聚焦檢測(cè)也具有一定的盲區(qū),但近表面盲區(qū)較小。

      6、相控陣全聚焦技術(shù)應(yīng)用于帶堆焊層焊縫檢測(cè)總結(jié)分析

      采用相控陣全聚焦技術(shù),能有效的對(duì)焊縫近表面及焊縫內(nèi)部缺陷進(jìn)行檢測(cè),檢測(cè)精度高,近表面盲區(qū)小,同時(shí)對(duì)缺陷的還原度高,成像直觀,且不受內(nèi)表面的堆焊層影響。

      與常規(guī)超聲橫波和相控陣對(duì)比,相控陣全聚焦TFM的檢測(cè)方式具有以下優(yōu)勢(shì):

      (1)常規(guī)超聲橫波和相控陣在檢測(cè)帶堆焊層的焊縫時(shí),由于堆焊層會(huì)因?yàn)榫Я]^大而發(fā)生不確定的的折射,無法采用一次反射波,對(duì)焊縫上部無法檢測(cè),存在很大的盲區(qū),而全聚焦不需要一次反射波就能對(duì)整個(gè)焊縫區(qū)域進(jìn)行覆蓋;

      (2)與常規(guī)超聲橫波和相控陣對(duì)比,其成像更直觀,對(duì)缺陷的細(xì)節(jié)顯示更精確,還原度更高。

      (3)同時(shí)相控陣全聚焦也有一定的局限性,如同樣存在表面盲區(qū),但相比之下盲區(qū)較小。

      參考文獻(xiàn)

      [1]NB/T 47013-2015《承壓設(shè)備無損檢測(cè)》

      [2]TSG 21-2016《固定式壓力容器安全技術(shù)監(jiān)察規(guī)程》

      [3]王悅民、李衍、陳和坤《超聲相控陣檢測(cè)技術(shù)與應(yīng)用》

      [4]李衍《超聲相控陣全聚焦法成像檢測(cè)》.

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