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      談局部厚銅板的制作流程

      2019-10-21 00:43:50何艷球張亞鋒
      印制電路信息 2019年10期
      關(guān)鍵詞:壓膜銅板基板

      蔣 華 張 宏 何艷球 張亞鋒 郭 宇

      (勝宏科技(惠州)股份有限公司,廣東 惠州 516211)

      0 前言

      局部厚銅是一種提高印制電路板(PCB)散熱及過(guò)大電流的技術(shù)可以直接過(guò)大電流,導(dǎo)熱效率高,可延長(zhǎng)PCB的使用壽命。但此類(lèi)型PCB與普通的厚銅基板在制作流程上有很大的區(qū)別,特別是壓合時(shí)很容易產(chǎn)生銅皺,壓膜時(shí)容易產(chǎn)生氣泡造成滲蝕,曝光時(shí)吸真空不足造成曝光不良。

      以汽車(chē)電源系統(tǒng)為例,該模塊密度高、功率大,會(huì)產(chǎn)生更多熱量,特別是混合動(dòng)力和全電動(dòng)汽車(chē)會(huì)越來(lái)越多,所以需要更多先進(jìn)的電源管理系統(tǒng)。

      這意味著對(duì)散熱和大電流的需求會(huì)越來(lái)越高,必須增加PCB導(dǎo)體銅厚度,來(lái)滿(mǎn)足對(duì)散熱和大電流的需求。局部厚銅板產(chǎn)品與普通的厚銅板在制作流程上有很大的區(qū)別,文章通過(guò)對(duì)不同的流程及方案的可行性進(jìn)行驗(yàn)證,總結(jié)出可以生產(chǎn)該類(lèi)型板的制作方法。

      1 局部厚銅板與普通厚銅板的區(qū)別

      局部厚銅板指在板內(nèi)即有薄銅區(qū)域,又有厚銅區(qū)域,普通厚銅板指板內(nèi)有銅區(qū)域全部為厚銅(如圖1)。

      2 產(chǎn)品基本信息

      產(chǎn)品基本信息見(jiàn)表1,產(chǎn)品結(jié)構(gòu)見(jiàn)圖2所示。

      圖1 局部厚銅板

      表1 基本信息

      圖2 壓合疊構(gòu)

      3 流程設(shè)計(jì)

      3.1 局部厚銅的銅面制作

      3.1.1 方案一:直接采用DES蝕刻線(xiàn)控深蝕刻的方式制作

      (1)制作流程。

      開(kāi)料→鉆定位孔→壓膜→曝光→DES蝕刻

      (2)流程說(shuō)明。

      ①根據(jù)厚銅位置銅厚選擇基板,此產(chǎn)品厚銅位置需要140 μm(4 oz),選用140 μm基板生產(chǎn)。

      ②薄銅區(qū)為35 μm(1oz),需要減去105 μm(3 oz),蝕刻補(bǔ)償需按105 μm銅厚進(jìn)行補(bǔ)償;

      ③曝光PE值設(shè)定±50 μm,防止與后續(xù)的局部厚銅線(xiàn)路不匹配;

      ④使用真空蝕刻線(xiàn)以少量多次的方式生產(chǎn),蝕刻線(xiàn)以最快線(xiàn)速(7.2 m/min),噴壓調(diào)整為:0.098 Mpa,生產(chǎn)前量測(cè)銅厚,過(guò)一次蝕刻線(xiàn)后量測(cè)一次銅厚,根據(jù)蝕刻咬蝕量確定過(guò)蝕刻次數(shù),薄銅區(qū)減到35 μm±2.5 μm內(nèi)。

      ⑤銅基板蝕刻時(shí),嚴(yán)格管控蝕刻深度及厚銅區(qū)域線(xiàn)或Pad的尺寸,確保蝕刻后厚銅位置比其它位置高105 μm左右(見(jiàn)表2)。

      (3)實(shí)驗(yàn)結(jié)果。

      厚銅區(qū)域尺寸無(wú)影響,實(shí)際測(cè)量蝕刻后厚銅區(qū)域線(xiàn)路寬度正常,均在±5%以?xún)?nèi)。因厚銅板蝕刻深度較深,薄銅區(qū)域銅厚均勻性較難管控,薄銅區(qū)域R值為0.01 mm~0.02 mm,R值較大(見(jiàn)表2),后制程的線(xiàn)路制作影響較大,驗(yàn)證失敗。

      3.1.2 方案二:直接采用局部減銅的方式制作

      (1)制作流程。

      開(kāi)料→鉆定位孔→壓膜→曝光→顯影→減銅

      (2)流程說(shuō)明。

      ①選用140 μm(4 oz)基板生產(chǎn),減銅資料需按105 μm(3oz)銅厚進(jìn)行補(bǔ)償,曝光PE值設(shè)定±50 μm;

      ②減銅線(xiàn)以3 m/min的線(xiàn)速生產(chǎn),生產(chǎn)前量測(cè)銅厚,過(guò)一次減銅線(xiàn)后量測(cè)一次銅厚,正反交替的方式生產(chǎn),直到薄銅區(qū)減到35 μm±2.5 μm內(nèi)。

      (3)實(shí)驗(yàn)結(jié)果。

      實(shí)際量測(cè)蝕刻后厚銅區(qū)域線(xiàn)路寬度正常,均在±5%內(nèi),薄銅區(qū)域銅厚R值為4.8 μm~5.3 μm,見(jiàn)表3,R值正常,驗(yàn)證OK。但生產(chǎn)此類(lèi)局部厚銅板,從140 μm(4 oz)銅厚,減銅厚至35 μm(1 oz),次數(shù)較多,費(fèi)時(shí),費(fèi)力,產(chǎn)能?chē)?yán)重不足,此生產(chǎn)方只適于樣品及小批量,不適應(yīng)量產(chǎn)。

      3.1.3 方案三:采用DES蝕刻線(xiàn)控深蝕刻+減銅的方式制作

      (1)制作流程。

      開(kāi)料→鉆定位孔→壓膜→曝光→DES蝕刻→減銅

      (2)流程說(shuō)明。

      ①選用140 μm銅厚的(4 oz)基板生產(chǎn),減銅資料需按105 μm(3 oz)銅厚進(jìn)行補(bǔ)償,曝光PE值設(shè)定±50 μm;

      ②使用真空蝕刻線(xiàn)以少量多次的方式生產(chǎn),蝕刻線(xiàn)以最快線(xiàn)速7.2 m/min,噴嘴壓力調(diào)整為1.0 kg/cm2,正反面交替過(guò)蝕刻線(xiàn),直到所剩銅厚在35 μm±15 μm以?xún)?nèi),再以5 m/min的速度過(guò)減銅線(xiàn),減到35 μm+/-2.5 μm內(nèi)。

      ③實(shí)驗(yàn)結(jié)果。

      實(shí)際量測(cè)蝕刻后厚銅區(qū)域線(xiàn)路寬度正常均在±5%內(nèi),薄銅區(qū)域R值為5~6 μm,見(jiàn)表4所示,R值正常,驗(yàn)證沒(méi)問(wèn)題。

      表2 方案一控深蝕刻后銅厚及線(xiàn)寬數(shù)據(jù)(單位:mm)

      表3 方案二減銅后銅厚及線(xiàn)寬數(shù)據(jù)(單位:mm)

      表4 方案三減銅后銅厚及線(xiàn)寬數(shù)據(jù)(單位:mm)

      3.2 線(xiàn)路制作

      3.2.1 方案一:正常方式制作

      (1)制作流程。

      前處理→壓膜→曝光→顯影→蝕刻

      (2)流程說(shuō)明。

      ①線(xiàn)路補(bǔ)償按照薄銅銅厚35 μm(1 oz)補(bǔ)償;

      ②正常壓膜、曝光;

      ③按照薄銅銅厚設(shè)定蝕刻參數(shù)進(jìn)行蝕刻。

      (3)實(shí)驗(yàn)結(jié)果。

      因局部銅厚,銅面高低差較大,壓膜結(jié)合力較差。壓膜后易造成干膜貼合不良(圖3),厚銅與薄銅相交處有氣泡,導(dǎo)致蝕刻后該區(qū)域因滲蝕造成品質(zhì)異常及損傷熱壓滾輪,驗(yàn)證失敗。

      3.2.2 方案二:防焊方式制作

      (1)制作流程。

      前處理→防焊→曝光→顯影→蝕刻

      (2)流程說(shuō)明。

      ①線(xiàn)路補(bǔ)償按照薄銅銅厚補(bǔ)償;

      ②絲印防焊油墨作為抗蝕層,曝光使用自動(dòng)曝光機(jī)生產(chǎn);

      ③按照薄銅銅設(shè)定蝕刻參數(shù)進(jìn)行蝕刻。

      (3)實(shí)驗(yàn)結(jié)果。

      在厚薄銅交接處,因底片與油墨之間吸真空不良,導(dǎo)致顯影后該區(qū)域曝光不良(圖4),驗(yàn)證失敗。

      3.2.3 方案三:防焊方式制作,底片打孔

      (1)制作流程。

      前處理→壓膜→曝光(底片打孔)→顯影→蝕刻

      (2)流程說(shuō)明。

      ①線(xiàn)路補(bǔ)償按照薄銅銅厚補(bǔ)償;

      ②絲印防焊油墨作為抗蝕層,曝光使用自動(dòng)曝光機(jī)生產(chǎn),曝光前底片開(kāi)孔;

      ③按照薄銅銅設(shè)定蝕刻參數(shù)進(jìn)行蝕刻。

      圖3 壓膜后截面圖

      圖4 曝光截面圖

      (3)實(shí)驗(yàn)結(jié)果。

      底片打孔,有利于曝光吸真空,顯影后未發(fā)現(xiàn)曝光不良等品質(zhì)異常,蝕刻后品質(zhì)正常,驗(yàn)證沒(méi)問(wèn)題(如圖5)。

      圖5 底片打孔示意圖

      3.3 壓合制作

      3.3.1 方案一:正常壓合

      (1)采用銅箔與基板直接壓合方式制作(如圖6)。

      圖6 方案一層壓圖

      (2)制作流程:棕化→預(yù)疊→壓合

      (3)流程說(shuō)明:①正常棕化,預(yù)疊,壓合;②使用高膠半固化片壓合。

      (4)實(shí)驗(yàn)結(jié)果:因厚薄銅位置有高低差,壓合有失壓,缺膠,起皺現(xiàn)象,驗(yàn)證失敗(如圖7)。

      圖7 厚薄銅位置實(shí)物圖

      3.3.2 方案二:半固化片開(kāi)槽壓合

      (1)采用銅箔與基板直接壓合方式制作,疊構(gòu)(如圖8)。

      (2)制作流程。

      圖8 方案二層壓圖

      半固化片:開(kāi)料→鉆孔→銑槽→鉚合→壓合

      基板:鉚合→壓合

      (3)流程說(shuō)明。

      ①根據(jù)厚薄銅區(qū)域?qū)牍袒O(shè)置為兩部分,一部分為薄銅區(qū)域半固化片,將厚銅對(duì)應(yīng)位置開(kāi)槽,銅厚極差作為開(kāi)槽半固化片的理論介厚;另一部分為厚銅區(qū)域半固化片,根據(jù)總介厚設(shè)定厚銅區(qū)域半固化片的理論厚度;

      ②半固化片開(kāi)槽的尺寸比厚銅位置的大小單邊大0.2 mm(如圖9);

      ③將開(kāi)槽的半固化片與基板鉚合在一起,防止壓合的過(guò)程中開(kāi)槽位置與厚銅位置錯(cuò)位,再將未開(kāi)槽的半固化片預(yù)疊好直接使用相對(duì)應(yīng)的壓合程式壓合(如圖10)。

      圖9 半固化片開(kāi)槽實(shí)物圖

      圖10 鉚合后實(shí)物

      (4)實(shí)驗(yàn)結(jié)果。

      壓合后未發(fā)現(xiàn)缺膠、皺折等品質(zhì)異常,壓合后品質(zhì)可滿(mǎn)足客戶(hù)品質(zhì)要求。

      4 結(jié)論

      (1)厚薄銅制作時(shí)建議采用控深蝕刻加減銅的方式生產(chǎn),可有效避免因銅厚不均勻性導(dǎo)致的線(xiàn)路問(wèn)題,并可提高生產(chǎn)效率。

      (2)線(xiàn)路制作時(shí)建議采用線(xiàn)路油墨加底片開(kāi)透氣孔的方式生產(chǎn),可有效避免因厚薄銅的高低差導(dǎo)致的壓膜貼膜不良及曝光吸真空不良問(wèn)題。

      (3)壓合制作時(shí)建議采用半固化片開(kāi)窗填平銅厚高低差,再加正常半固化片的壓合方式生產(chǎn),可有效避免因銅厚高低差導(dǎo)致的失壓、缺膠、皺折等品質(zhì)問(wèn)題。局部厚銅作為PCB散熱及通過(guò)大電流的技術(shù)之一,可延長(zhǎng)PCB的使用壽命,在汽車(chē)電子、照明等領(lǐng)域?qū)?huì)得到廣泛應(yīng)用。

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