蘭慧琴
摘 ?要:綜合研究了PDMS-Fe3O4復合光學薄膜的制備方案,并針對PDMS-Fe3O4復合光學薄膜的特性進行分析。PDMS-Fe3O4復合光學薄膜制備過程使用的試劑主要有乙酸鑭、乙酸鍶、乙酸錳、乙酰丙酮、去離子水、丙酮,通過制造PDMS濕膜、增加薄膜厚度、旋涂40s、退火爐升溫四步完成制備。通過分析發(fā)現(xiàn)經(jīng)過高溫退火可以有效提高PDMS-Fe3O4復合光學薄膜的電容,但是過高的退火溫度會導致薄膜電容急劇下降,同時也會急劇增加介電損耗,因此需要在薄膜的表面額外旋涂一層PDMS覆蓋層,再進行高溫退火處理。
關鍵詞:PDMS-Fe3O4復合光學薄膜 ?制備流程 ?PDMS-Fe3O4特性 ?納米復合材料
中圖分類號:TY54 ? 文獻標識碼:A 文章編號:1672-3791(2019)10(c)-0059-02
PDMS-Fe3O4是一種納米復合材料,在納木顆粒中,一般含有鐵和鈷元素的納米顆粒是具有一定的軟磁特性的。在現(xiàn)階段針對Fe3O4納米顆粒的制備和特性的研究最為廣泛。Fe3O4的制備方法比較簡單,而且具有良好的軟磁特性,尤其是塊狀Fe3O4材料具有較高的局里溫度,當溫度高于840K時,F(xiàn)e3O4材料具有超瞬磁特性。
PDMS是一種有機硅高分子化合物,又稱為有機硅,是具有惰性和無毒以及光學透明的特性,主要應用于隱形眼鏡和醫(yī)療設備等領域。PDMS應用比較廣泛的原因在于它具有一定的流變特性,即使在液體狀態(tài)下也具有一定的流動性,比較容易注入模具中[1]。因此該文將深入研究復合材料的制備特性。
1 ?PDMS-Fe3O4復合光學薄膜的制備
在此次研究中,選用乙酸鹽作為金屬源,去離子水作為溶劑,采用溶膠制備PDMS-Fe3O4復合光學薄膜,在實驗中用到的主要試劑有99.26%的乙酸鑭、99.88%的乙酸鍶、99.26%的乙酸錳、99.29%的乙酸、99.98%的乙酰丙酮、99.97的去離子水、99.49%的丙酮。
PDMS-Fe3O4制備過程如圖1所示。
PDMS前驅(qū)體溶液的配置工藝如圖1所示,將乙酸鑭、乙酸鍶、乙酸錳溶解在乙酸中,在100℃下蒸餾30min,冷卻至室溫并依次加入正丙醇鋯和去離子水,攪拌30min,再加入乙酰丙酮,攪拌30min,得到0.5M的PDMS前驅(qū)體溶液,沉化24h備用[2]。
為了彌補熱處理過程中鉛的揮發(fā),在配料時鉛過量20wt%,乳酸和乙二醇配比為1∶1,溶液中乙二醇的、作用是為了提高PDMS-Fe3O4薄膜的機械強度,防止在熱處理過程中發(fā)生開裂,PbO覆蓋層前驅(qū)體溶液的濃度為0.3M,采用乙酸錳溶解在乙酸中制得。將制備好的溶膠,逐層旋涂在襯底上,得到PDMS-薄膜,具體操作流程如圖2所示。
第一步,采用500prm的速率旋涂40s得到均勻的PDMS濕膜。第二步,將濕膜至于退火爐中,在采用10℃/s的升溫速率,先升溫至400℃,保溫15min,重復第一步和第二步,直到薄膜達到預先設定的厚度。第三步,采用4000的速率,在制得的薄膜上在旋涂40s,得到PDMS薄膜。第四步,將所得薄膜置于退火爐中,以10的速率依次升溫至400℃,保溫10min,在升溫至500℃,保溫10min,再次升溫至600℃,保溫40min。最終得到所需的PDMS-Fe3O4復合光學薄膜[3]。
2 ?PDMS-Fe3O4復合光學薄膜的特性
在實驗中,采用三維高精密位移平臺,使磁場方向和PDMS-Fe3O4復合材料電容器固定在同一個的平面,使得磁場垂直于表面,在通過精密控制固定磁鋼和PDMS-Fe3O4復合材料之間的距離,對Fe3O4納米顆粒負荷材料的磁電容鐵磁性進行研究。
在實驗中,退火溫度是制備復合光學薄膜過程中最為關鍵的一個參數(shù),它會直接影響材料的結晶性,影響PDMS-Fe3O4質(zhì)量,退火溫度在制備中起到?jīng)Q定性作用。在實驗中采用溶膠在Fe3O4上沉積PDMS薄膜,選用400℃、500℃、650℃和700℃作為退火溫度,保溫30min,采用600℃熱解后為高溫退火的PDMS-Fe3O4薄膜樣品作為參照樣品。通過研究退火溫度對PDMS-Fe3O4光學薄膜電學特性的影響,了解PDMS-Fe3O4復合光學薄膜的電容。在實驗中發(fā)現(xiàn),經(jīng)過高溫退火可以有效提高PDMS-Fe3O4復合光學薄膜的電容,但是過高的退火溫度會導致薄膜電容急劇下降,也會急劇增加介電損耗。
研究表明,鉛為易揮發(fā)的元素,尤其在高溫的環(huán)境下,鉛的大量揮發(fā)會導致材料組分的位移,產(chǎn)生大量的曲線,這些因素都是會導致材料漏導嚴重,介電常數(shù)下降。此外,在實驗中還發(fā)現(xiàn),鉛揮發(fā)會嚴重影響PDMS-Fe3O4材料的性能,為了減少前揮發(fā)對PDMS-Fe3O4復合光學薄膜性能的影響,在制備的最后一個環(huán)節(jié)中,旋涂了一層PDMS濕膜,并且在600℃熱解后,又在薄膜的表面額外旋涂了一層PDMS覆蓋層,再進行最終的高溫退火處理。這樣的制備方式可以有效提高PDMS-Fe3O4復合光學薄膜的性能。
3 ?結語
目前國外對PDMS-Fe3O4復合光學薄膜的制備和表征進行了很多有益的研究,比如,機械性能和電學特性等。該文針對PDMS-Fe3O4復合光學薄膜的制備和特性進行研究,主要介紹了實驗材料的選取和實驗中所需的裝置,制備PDMS-Fe3O4復合光學薄膜。分析退火溫度對制備PDMS-Fe3O4復合光學薄膜性能的影響,驗證磁電容復合材料應用的可行性。
參考文獻
[1] 馬淼,閆微,許向東,等.四苯基卟啉鋅——單壁碳納米管復合薄膜的制備與光電特性研究[J].光譜學與光譜分析,2017,37(10):3150-3155.
[2] 趙冬,張丹,劉麗華,等.納米金-聚二甲基硅氧烷復合薄膜制備及電學特性研究[J].化工新型材料,2017(7):81-83.
[3] 楊宇東,毛海央,李銳銳,等. 雙層復合納米森林結構的制備及其寬光譜高吸收光學特性研究[J].紅外與毫米波學報,2018,37(2):246-250.