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      地質(zhì)雷達(dá)方法在冬瓜山礦床探治水中的應(yīng)用

      2020-03-09 03:24:40周貴斌
      中國(guó)金屬通報(bào) 2020年22期
      關(guān)鍵詞:電法富水高密度

      夏 旭,周貴斌

      (冬瓜山銅礦,安徽 銅陵 244000)

      1 工程概況

      為了更經(jīng)濟(jì)更快速地查明該導(dǎo)水構(gòu)造破碎帶的分布,利用地質(zhì)雷達(dá)、高密度電法相結(jié)合的方式進(jìn)一步探明礦區(qū)60 線以北至71 線北西翼斷層、破碎帶、巖溶及地下水的分布特征及規(guī)律,為下一步探冶水工作提供依據(jù)。

      1.1 探測(cè)巷道水文地質(zhì)特征

      1.1.1 -790m 巷道水文與工程地質(zhì)特征

      -790m 巷道位于青山背斜軸部,其范圍為60~72 線之間,揭露的地層有棲霞組、黃龍船山組灰?guī)r、大理巖化灰?guī)r和石英閃長(zhǎng)巖體??颖诙嗵幱诟稍餇顟B(tài),其中大理巖中潮濕區(qū)主要分布在北西端;巖體中潮濕區(qū)分布于67 線南東端。

      1.1.2 -850m 巷道水文與工程地質(zhì)特征

      -850m 巷道位于青山背斜軸部,其范圍為60~76 線之間,揭露銅礦體、棲霞組——黃龍船山組灰?guī)r、大理巖化灰?guī)r和石英閃長(zhǎng)巖體??颖诙嗵幱诟稍餇顟B(tài),其中大理巖中潮濕區(qū)主要分布在礦體北西端,少量分布在礦體南東端(70 線);礦體中潮濕區(qū)分布于66 線北西端礦體與大理巖接觸帶處。

      2 地質(zhì)雷達(dá)檢測(cè)設(shè)備與工作原理

      2.1 檢測(cè)設(shè)備

      本次使用的儀器是意大利生產(chǎn)的RIS 型地質(zhì)雷達(dá),針對(duì)本次檢測(cè)目標(biāo)的工程特點(diǎn),采用工作頻率為80MHz 的天線,該儀器的特點(diǎn)是分辨率高,擅長(zhǎng)于進(jìn)行大數(shù)據(jù)量、高密度的連續(xù)探測(cè)并實(shí)時(shí)顯示彩色波形圖,比較適合本工程的檢測(cè)需要。

      2.2 儀器構(gòu)成

      RIS型地質(zhì)雷達(dá),由主機(jī)、顯示器、天線(含發(fā)射機(jī)及接收機(jī),本次使用80MHz 天線)、電源系統(tǒng)、連接電纜、操作軟件和后處理軟件組成。使用時(shí)天線貼在巷道襯砌表面,系統(tǒng)的其余部份均由測(cè)量技術(shù)員手持或背著。

      2.3 工作原理

      地質(zhì)雷達(dá)法通常是一種利用高頻至特高頻波段(及空氣中電磁波波長(zhǎng)10m 波段至分米波段)電磁波的反射法無損探測(cè)方法。在系統(tǒng)主機(jī)的控制下,發(fā)射機(jī)通過天線向巷道襯砌表面定向發(fā)射雷達(dá)波。垂直于巷道壁向襯砌及圍巖內(nèi)傳播的電磁波,當(dāng)遇到有電性差異(介電常數(shù)、電導(dǎo)率、磁導(dǎo)率不同)界面或目標(biāo)體時(shí)即發(fā)生反射,反射波被天線接收進(jìn)入接收機(jī),并傳到主機(jī),主機(jī)對(duì)從不同深度返回的各個(gè)反射波進(jìn)行放大、采樣、濾波、數(shù)字迭加等一系列處理,可在顯示器上形成一種類似于地震反射時(shí)間剖面的地質(zhì)雷達(dá)連續(xù)探測(cè)彩色剖面。

      2.4 地質(zhì)雷達(dá)檢測(cè)過程

      (1)技術(shù)參數(shù)。本次檢測(cè)內(nèi)容主要為巷道含水情況及其他不良地質(zhì)體,采用的參數(shù)滿足檢測(cè)要求。

      (2)測(cè)線布置及施做過程。根據(jù)現(xiàn)場(chǎng)探孔資料,沿巷道走向分別在左拱腰布置縱向測(cè)線,但巷道拱頂測(cè)試?yán)щy,拱腰測(cè)線離路面高度約0.5m 高。天線緊貼巷道壁,其他檢測(cè)設(shè)備由檢測(cè)人員手持或背著,對(duì)巷道左側(cè)壁測(cè)線進(jìn)行連續(xù)檢測(cè)。但是檢測(cè)過程中存在下列影響檢測(cè)精度的問題。①檢測(cè)過程中由于局部里程段,特別是洞口段有障礙物,故有的測(cè)線局部段未能檢測(cè)到。②巷道沿線較多壁面凹凸不平,雷達(dá)天線無法緊貼,故可能影響雷達(dá)測(cè)試精度。③現(xiàn)場(chǎng)測(cè)試環(huán)境比較惡劣,濕度達(dá)到90%以上,溫度達(dá)到38°,對(duì)測(cè)試結(jié)果精度有一定的影響。2.5 探測(cè)區(qū)不良地質(zhì)的地質(zhì)雷達(dá)探測(cè)結(jié)果以50m 為一個(gè)標(biāo)記,分別對(duì)60~71 線的巷道全部進(jìn)行地質(zhì)雷達(dá)測(cè)試,潮濕區(qū)域雷達(dá)須好防水措施,以防雷達(dá)受潮無法使用。2.6 地質(zhì)雷達(dá)探測(cè)結(jié)果小結(jié)通過對(duì)-790m 水平和-850m 水平的地質(zhì)雷達(dá)波圖像的分析,61 線~70 線巷道的不良地質(zhì)探測(cè)見表1。

      表1 -850m 水平沿線地質(zhì)雷達(dá)波形圖分析結(jié)果匯總表

      表2 -850m 水平沿線高密度法分析結(jié)果匯總表

      3 高密度電法探測(cè)結(jié)果

      通過對(duì)-790m水平和-850m水平高密度電法圖分析,61線~70線巷道的不良地質(zhì)探測(cè)結(jié)果見表2。

      4 測(cè)試結(jié)果比較

      地質(zhì)雷達(dá)法和高密度電法的異同:地質(zhì)雷達(dá)法和高密度電法均為物探手段,都屬于無損檢測(cè)方法。所不同的是,地質(zhì)雷達(dá)是基于電磁波理論,發(fā)射的遇到有電性差異(介電常數(shù)、電導(dǎo)率、磁導(dǎo)率不同)界面或目標(biāo)體時(shí)即發(fā)生反射,反射波被天線接收進(jìn)入接收機(jī),并傳到主機(jī),主機(jī)對(duì)從不同深度返回的各個(gè)反射波進(jìn)行放大、采樣、濾波、數(shù)字迭加等一系列處理,可在顯示器上形成一種類似于地震反射時(shí)間剖面的地質(zhì)雷達(dá)連續(xù)探測(cè)彩色剖面;而高密度電法以圍巖的電線差異為基礎(chǔ),通過程控式多路電極轉(zhuǎn)換器選擇不同的電極組合方式和不同的極距間隔,自動(dòng)改變供電電極與測(cè)量電極的距離和位置,并進(jìn)行疊加觀測(cè),以便測(cè)量不同深度的電位差值,并可實(shí)現(xiàn)資料處理與解釋的計(jì)算機(jī)程序化,繪制的斷面圖異常突出,實(shí)現(xiàn)多參數(shù)的綜合解釋,可有效分析地質(zhì)情況。

      對(duì)比分析探測(cè)結(jié)果發(fā)現(xiàn),所探測(cè)出的富水區(qū)基本一致,具體結(jié)果見結(jié)論。需要指出的是,高密度電法探測(cè)出的云圖既可探測(cè)富水構(gòu)造,也可以探測(cè)弱裂隙水區(qū)域;地質(zhì)雷達(dá)也可以探測(cè)富水構(gòu)造和弱裂隙水區(qū),但是對(duì)多重富水區(qū)的探測(cè)存在困難。因此,實(shí)際工程可結(jié)合多種手段進(jìn)行探測(cè)。

      5 結(jié)論

      結(jié)合地質(zhì)雷達(dá)和高密度電法兩種物探手段,綜合分析了地質(zhì)雷達(dá)波圖像及高密度電法電阻率云圖,巷道的整體不良地質(zhì)和地下水探測(cè)總結(jié)如下:

      (A)-790m 水平探測(cè)結(jié)果.

      (1)富水區(qū):

      (Ⅰ)63 線左右15m 范圍內(nèi)(寬30m),離左洞壁深約5m~12m,存在富水區(qū)。

      (Ⅱ)64 線前后15m 范圍內(nèi)(寬約30m),離左洞壁深約10m~20m,存在富水區(qū)。

      (Ⅲ)65 線往66 線整段范圍內(nèi),離左洞壁深約11.5m,存在富水區(qū)。

      (Ⅳ)66 線至67 線整段范圍內(nèi),離左洞壁深約12.5m,存在富水區(qū)。

      (Ⅴ)69 線往70 線5m~15m 范圍內(nèi),離左洞壁深約12.5m,存在富水區(qū)。

      (2)弱裂隙水區(qū):

      (Ⅰ)61 線往62 線方向9m~17m 范圍內(nèi),離左洞壁深10m,存在弱裂隙水區(qū)。

      (Ⅱ)70 線往71 線范圍內(nèi)0m~18m,離左洞壁深約12.5m,存在弱裂隙水區(qū)。

      (Ⅲ)68 線往69 線9m~22m 范圍內(nèi),離左洞壁深約9m,存在弱裂隙水區(qū)。

      (Ⅳ)62 線前后6m 范圍內(nèi)(寬約12m),離左洞壁深約5m~15m,存在弱裂隙水區(qū)。

      (Ⅴ)62 線往63 線20m~30m 范圍內(nèi)(寬約10m),離左洞壁深5m,存在弱裂隙水區(qū)。

      (B)-850m 水平探測(cè)結(jié)果

      (1)富水區(qū):

      (Ⅰ)61 線往62 線15m~35m 范圍內(nèi)(寬約20m),離左洞壁深約19m,存在富水區(qū),并往礦體內(nèi)部延伸。

      (Ⅱ)62 線往63 線12m~24m 范圍內(nèi)(寬12m),離左洞壁深約5m~10m,存在富水區(qū)。

      (Ⅲ)63線往64線方向35m~50m范圍內(nèi),離左洞壁深約10 m,存在富水區(qū)。

      (Ⅳ)64 線往65 線40m~50m 范圍內(nèi)(寬10m),離左洞壁深約5m~10m,存在富水區(qū)。

      (Ⅴ)65 線往66 線方向整段范圍內(nèi),離左洞壁深約11.5m,存在富水區(qū)。

      (Ⅵ)66 線往67 線0m~15m 范圍內(nèi)(寬約15m),離左洞壁深約8m,存在富水區(qū)。

      (Ⅶ)68 線往69 線方向20m~50m 范圍內(nèi),離左洞壁深約8m,存在富水區(qū)。

      (Ⅷ)69 線往70 線方向整段范圍內(nèi),離左洞壁深約6m,存在富水區(qū)。

      (2)弱裂隙水區(qū):

      (Ⅰ)61 線往62 線方向0m~13.5m 范圍內(nèi),離左洞壁深約12m,存在弱裂隙水區(qū)。

      (Ⅱ)62 線往63 線方向4.5m~12m 范圍內(nèi),離左洞壁深約10m,存在弱裂隙水區(qū)。

      (Ⅲ)63線往64線方向8m~35m范圍內(nèi),離左洞壁深約10 m,存在弱裂隙水區(qū)。

      (Ⅳ)64線往65線方向0m~40m范圍內(nèi),離左洞壁深約11 m,存在弱裂隙水區(qū)。

      (Ⅴ)66 線往67 線方向15m~50m 范圍內(nèi),離左洞壁深約13m,存在弱裂隙水區(qū)。

      (Ⅵ)67 線往68 線方向21m~50m 范圍內(nèi),離左洞壁深約16m,存在弱裂隙水區(qū)。

      此外,66 線往67 線方向13m~19m、30m~39m 圍巖存在不連續(xù)結(jié)構(gòu)面,整體性差;67 線往68 線方向20m~50m 范圍內(nèi)圍巖存在不連續(xù)結(jié)構(gòu)面,整體性差。

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