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      新型磁存儲器件有望解決AI“內(nèi)存瓶頸”

      2020-03-25 15:10
      中國計算機(jī)報 2020年9期
      關(guān)鍵詞:存儲設(shè)備鐵磁瓶頸

      美國和意大利研究人員發(fā)表研究報告稱,他們開發(fā)出一種基于反鐵磁材料的新型磁存儲器件,其體積很小,耗能也非常低,很可能有助于解決目前人工智能(AI)發(fā)展所遭遇的“內(nèi)存瓶頸”問題。

      在新研究中,研究團(tuán)隊(duì)使用了柱狀反鐵磁材料,這是以前科學(xué)家從未探索過的幾何形狀。研究表明,生長在重金屬層上的、直徑低至800納米的反鐵磁鉑錳(PtMn)柱,通過極低電流后可以在不同的磁態(tài)之間可逆地轉(zhuǎn)換。通過改變寫入電流的振幅,即可實(shí)現(xiàn)多級存儲特性。

      研究人員指出,基于反鐵磁鉑錳柱制成的存儲器件體積僅為現(xiàn)有的基于反鐵磁材料存儲設(shè)備的1/10,而更重要的是,新型器件的制造方法與現(xiàn)有的半導(dǎo)體制造規(guī)范兼容,這意味著存儲設(shè)備制造商可以輕松采用新技術(shù),而無需購買新設(shè)備。

      研究人員指出,新型磁存儲器件很小,耗能很低,有望使反鐵磁存儲器走向?qū)嶋H應(yīng)用,并幫助解決AI的“內(nèi)存瓶頸”問題。目前,他們正努力尋求進(jìn)一步縮小設(shè)備尺寸,改善數(shù)據(jù)寫入耗能的方法,以盡快將新技術(shù)投入實(shí)際應(yīng)用。

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