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      多晶硅太陽能電池PECVD四層氮化硅減反射膜工藝

      2020-04-15 13:57:32寇繼成閆英麗
      商品與質(zhì)量 2020年1期
      關(guān)鍵詞:氮化硅多晶硅折射率

      寇繼成 閆英麗

      1.通威太陽能(成都)有限公司 四川成都 610000

      2.英利能源(中國)有限公司 河北保定 071051

      1 氮化硅膜在多晶硅太陽能電池中的作用

      氮化硅的化學(xué)分子式為Six Ny,在氮化硅薄膜中主要是由硅元素Si與氮元素N所組成,但其中還包括了小量的氫元素H。在PECVD技術(shù)的作用下,改善了傳統(tǒng)太陽能電池吸收轉(zhuǎn)化率的問題,通過PECVD技術(shù)可以在多晶硅表面形成相應(yīng)的氮化硅薄膜,同時薄膜兩面的反射光會相互干擾從而減少反射量,提升太陽能電池板對能量的吸收,增加了光生電流的密度,極大的提升了太陽能電池板的效率,有利于可持續(xù)性發(fā)展戰(zhàn)略的實(shí)行[1]。

      2 多晶硅太陽能電池PECVD四層氮化硅減反射膜相關(guān)說明與分析

      為了進(jìn)一步的了解多晶硅太陽能電池PECVD氮化硅減反射膜對于轉(zhuǎn)換效率的提升,我們選用了電阻率為3歐姆,厚度為200um的多晶金剛線切割硅片作為本次的實(shí)驗(yàn)對象,通過相同的工藝技術(shù)來進(jìn)行數(shù)據(jù)的比對和分析。

      本次實(shí)驗(yàn)采用的工藝流程如下:第一,我們先要將相關(guān)材料利用氫氟酸、硝酸和專用添加劑的混合液進(jìn)行制絨;第二,在完成制絨的工序后,我們還需要用高溫的三氯氧磷材料進(jìn)行進(jìn)一步浸潤,將表面進(jìn)行拋光處理;第三,利用PECVD系統(tǒng)技術(shù),分別將多晶硅材料片進(jìn)行成膜處理,并通過工藝重復(fù)的步驟將材料分為兩組,進(jìn)行不同層數(shù)的成膜處理;第四,將處理完畢的相關(guān)材料通過電極等燒結(jié)作為電池片;最后,進(jìn)行實(shí)驗(yàn)的檢驗(yàn)分別測試兩組材料的電性能[2]。

      在經(jīng)過上述實(shí)驗(yàn)步驟后,我們將膜片分為兩層組以及四層組,實(shí)驗(yàn)數(shù)據(jù)如下所示:在兩層組中,第一層氮化硅膜的工藝時間為三分鐘,氮化硅膜的厚度為20nm,折射率為2.3,第二層膜的工藝時間為450秒,成膜的厚度為65nm,折射率為2.0。在四層組中,第一層膜的工藝時間為兩分鐘,氮化硅膜的厚度為11nm,折射率為2.4,第二層的工藝時間為100秒,氮化硅膜的厚度為11nm,折射率為2.3,第三層氮化硅膜的工藝時間為150秒,氮化硅膜的厚度為20nm,折射率為2.15,第四層氮化硅膜的工藝時間為四分鐘,氮化硅膜的厚度為40nm,折射率為2.0。在此技術(shù)的基礎(chǔ)之上,我們將兩組實(shí)驗(yàn)數(shù)據(jù)的相關(guān)數(shù)據(jù)進(jìn)行進(jìn)一步的分析,可以得出以下結(jié)果:多晶硅太陽能電池兩層氮化硅膜的平均膜厚度為80.02nm左右,而四層氮化硅膜的平均厚度是80.2nm,比兩層膜的平均厚度要大。并且進(jìn)一步的比對兩組實(shí)驗(yàn)數(shù)據(jù)的電性能來看,四層氮化硅膜要比傳統(tǒng)兩層的略有提升,在電壓和短路電流等方面的有一定的提高[3]。

      3 多晶硅組件的PID測試

      為了進(jìn)一步的驗(yàn)證多晶硅太陽能電池四層膜工藝的性能,就需要進(jìn)行相應(yīng)的PID測試。本次測試主要的實(shí)驗(yàn)設(shè)備包括了高低溫濕熱試驗(yàn)箱(哈丁BHT7010F)、PID專用電源(質(zhì)衛(wèi)ZWPIDY08-2)、EL測試儀(萬和ZQCam-1002A)、太陽模擬儀(芬蘭Quick sun820:三車間)。相關(guān)檢測數(shù)據(jù)如下表(表1)所示。

      表1

      根據(jù)相關(guān)的PID測試數(shù)據(jù)的結(jié)果來看,經(jīng)過96小時的檢測后,2塊組件的最大功率衰減均小于5%,試驗(yàn)結(jié)果為合格。

      4 多晶硅太陽能電池PECVD四層氮化硅減反射膜工藝參數(shù)

      本次實(shí)驗(yàn)我們選用了電阻率為3歐姆,厚度為200um的多晶金剛線切割硅片作為實(shí)驗(yàn)對象。在經(jīng)過PECVD技術(shù)的使用后,本次多晶硅太陽能電池PECVD四層氮化硅減反射膜工藝參數(shù)如下所示:第一層氮化硅膜的工藝時間為120秒,Si H4/NH3為260.82,第二層氮化硅膜的工藝時間為100秒,Si H4/NH3為181.54,第三層氮化硅膜的工藝時間為150秒,Si H4/NH3為124.48,第四層氮化硅膜的工藝時間為240秒,Si H4/NH3為94.84。

      5 結(jié)語

      綜上所述,多晶硅太陽能電池已經(jīng)融入到了人們生產(chǎn)生活的方方面面,并且極大的拓展了我們能量的來源,促進(jìn)了社會的和諧發(fā)展。而利用當(dāng)前PECVD技術(shù),可以在多晶硅太陽能電池材料表面形成多層的氮化硅減反射膜,從而有效的提升太陽能源的轉(zhuǎn)換率,提升能量的利用率。

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