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      TXRF與EDXRF分析方法對(duì)比研究

      2020-06-08 00:50:06劉伊初趙婷偉鄧玉福孟德川于桂英
      遼寧化工 2020年4期
      關(guān)鍵詞:反射體分析方法X射線

      劉伊初,趙婷偉,鄧玉福,孟德川,于桂英

      TXRF與EDXRF分析方法對(duì)比研究

      劉伊初1, 2,趙婷偉1, 2,鄧玉福2, 3,孟德川1, 2,于桂英3

      (1. 沈陽師范大學(xué) 物理科學(xué)與技術(shù)學(xué)院,遼寧 沈陽 10034;2. 遼寧省射線儀器儀表工程技術(shù)研究中心,遼寧 沈陽 110034; 3. 沈陽師范大學(xué) 實(shí)驗(yàn)教學(xué)中心,遼寧 沈陽 110034)

      X射線熒光光譜分析法廣泛應(yīng)用于物質(zhì)成分的定性與定量分析。全反射X射線熒光分析法(TXRF)是在能量色散X射線熒光分析(EDXRF)原理的基礎(chǔ)上,加入X射線的全反射技術(shù)形成的一種新的表面痕量分析方法。本文從原理、儀器裝置及定量定性分析過程等方面,對(duì)EDXRF和TXRF進(jìn)行了對(duì)比分析研究。作為一種新的X射線熒光分析方法,TXRF具有靈敏度高、檢出限低等特點(diǎn),同其他檢測方法相比,在很多應(yīng)用領(lǐng)域都顯示出很好的優(yōu)越性。

      TXRF;EDXRF;分析方法

      1895年,W. C. Roentgen發(fā)現(xiàn)了X射線[1]。1913年,Moseley提出了莫塞萊定律,即特征X射線波長與產(chǎn)生該輻射元素的原子序數(shù)之間的關(guān)系,奠定了X射線熒光光譜分析的基礎(chǔ)。X射線熒光光譜分析可分為波長色散型X射線熒光分析(WDXRF)和能量色散型X射線熒光分析儀(EDXRF)兩種[2],由于其具有測定快速、樣品無損等特點(diǎn)在檢測分析領(lǐng)域得到了迅速發(fā)展。EDXRF技術(shù)采用體積小、分辨率高的半導(dǎo)體探測器替代WDXRF中復(fù)雜的晶體分光系統(tǒng),操作維護(hù)都很方便,因此更受在線分析技術(shù)人員的青睞。但由于其基體效應(yīng)復(fù)雜,會(huì)出現(xiàn)譜圖背景計(jì)數(shù)率高和系統(tǒng)誤差大等問題,尤其是對(duì)輕元素測定結(jié)果較不理想[3]。

      全反射X射線熒光分析(TXRF)是一種基于EDXRF基礎(chǔ)上發(fā)展起來的新方法。通過改變初級(jí)X射線的入射角,以小于0.1°的低角度掠入射,使初級(jí)X射線在反射體表面發(fā)生全反射,從而降低由散射引起的背景,提升測量精確度。另外,TXRF作為表面分析方法,具有樣品取樣量小、處理方便等特點(diǎn)。若測定時(shí)采用超薄窗探測器和無窗X射線管,還能夠?qū)p元素(=11~20)的含量進(jìn)行測定[4]。本文對(duì)TXRF與EDXRF進(jìn)行了對(duì)比研究,討論了兩種方法的特點(diǎn)和適用的分析應(yīng)用領(lǐng)域。

      1 TXRF與EDXRF原理

      TXRF法與EDXRF法的工作原理均根據(jù)Moseley定律[5]:

      式中:Δ—熒光能量;

      =13.6eV;

      —原子序數(shù);

      n ,n—躍遷前后所在殼層;

      —屏蔽常數(shù)。

      由公式(1)可知,不同元素的線系所對(duì)應(yīng)的能量不同,通過此原理可以對(duì)元素進(jìn)行定性分析。在定性分析的前提下,檢測某種元素的熒光強(qiáng)度I,I與物質(zhì)中目標(biāo)元素含量W之間有如下關(guān)系:

      TXRF在EDXRF原理的基礎(chǔ)上增加了X射線的光學(xué)特性,即X射線的折射與反射。當(dāng)一束平行的X射線束從介質(zhì)1(真空或空氣)入射到介質(zhì)2時(shí),就會(huì)發(fā)生折射現(xiàn)象,折射率為:

      式中:1,2—入射和折射X射線與介質(zhì)面之間的夾角;

      —散射項(xiàng);

      —吸收項(xiàng)。

      通常吸收項(xiàng)非常小可以忽略不計(jì),故上式(3)可以變?yōu)椋?/p>

      在X射線能區(qū)內(nèi),約為10-8數(shù)量級(jí),故接近于1[7]。若介質(zhì)平面十分光滑,當(dāng)1很小時(shí),X射線的折射束與界面相切,既不發(fā)生折射也不發(fā)生反射,此時(shí)的1為臨界角c。當(dāng)1?c時(shí),入射的X射線全部反射。

      由經(jīng)典反射理論可以推導(dǎo)出全反射的臨界角為[7]:

      由上式可知,全反射的臨界角與入射X射線的波長和反射體的性質(zhì)有關(guān)。

      2 TXRF與EDXRF儀器分析

      全反射X射線熒光分析儀是在能量色散X射線熒光分析儀的基礎(chǔ)上研制出的一種分析儀器。但兩者基本儀器設(shè)置不同,TXRF要滿足以下幾點(diǎn)條件:

      (1)保證入射X射線發(fā)生全反射。通常采用石英玻璃反射體,如X射線能量在20 keV左右的臨界角為10-2數(shù)量級(jí),X射線的入射角需要設(shè)定為小于0.1°。

      (2)應(yīng)將原級(jí)束整形為條狀束,避免X射線的發(fā)散。

      (3)常規(guī)X射線管的原級(jí)束應(yīng)利用第一反射體的偏轉(zhuǎn)改變?cè)?jí)光譜,實(shí)現(xiàn)對(duì)初級(jí)射線的濾波。

      2.1 X射線管

      通常EDXRF所使用的X射線管均可應(yīng)用于全反射X射線熒光分析中。但隨著熒光分析領(lǐng)域的發(fā)展,精細(xì)聚焦X射線管也被使用于TXRF,此類X射線管可以將X射線聚焦并以6°的小角度出射,初級(jí)X射線的寬度約為25μm×10mm;此外還有旋轉(zhuǎn)陽極管、高功率發(fā)生器、旋轉(zhuǎn)陽極設(shè)備和真空系統(tǒng)的高性能X射線源[8],可實(shí)現(xiàn)陽極靶的靈活轉(zhuǎn)動(dòng),對(duì)于入射X射線的角度調(diào)節(jié)具有很好的靈活性。

      2.2 束調(diào)節(jié)單元

      為了使入射X射線在樣品上發(fā)生全反射,原級(jí)X射線應(yīng)以小角度入射,同時(shí)控制原級(jí)束的發(fā)散。并且初級(jí)X射線的部分高能光子發(fā)生散射,會(huì)造成背景的增加,故對(duì)于TXRF技術(shù),需要對(duì)入射原級(jí)束的幾何形狀與光譜分布進(jìn)行調(diào)節(jié)。對(duì)于原級(jí)X射線的幾何形狀調(diào)節(jié),可經(jīng)過兩個(gè)準(zhǔn)直狹縫將入射X射線進(jìn)行整形;另外,對(duì)于改變其光譜分布,通常采用石英玻璃材質(zhì)的第一反射體,使原級(jí)X射線在第一反射體上進(jìn)行反射,通過光子散射濾掉其中的高能部分,或在X射線管與第一反射體之間增加金屬箔片作為補(bǔ)充,可使初級(jí)射線的某些光譜區(qū)衰減。

      2.3 探測器

      TXRF和EDXRF的探測模塊,一般采用由探測器、放大器和多道脈沖分析器組成的小型一體化半導(dǎo)體探測器。與其他類型探測器相比,半導(dǎo)體探測器具有探測效率高、輸出信號(hào)優(yōu)良、分辨率強(qiáng)、空間體積小等優(yōu)勢。

      通常在EDXRF分析中儀器擺放位置為X射線管—樣品—探測器成45°時(shí)探測效率最好,峰背比最低(如圖1)[9-10]。這一點(diǎn)在TXRF中略有不同,在TXRF分析中,樣品同樣作為反射體需要濾掉多余的散射背景,故探測器應(yīng)擺放在樣品的正上方3 cm內(nèi),此時(shí)譜圖中由X射線散射造成的背景峰最小,探測效果最佳。

      圖1 常規(guī)EDXRF上照式擺放示意圖

      圖2 TXRF儀器探測器擺放位置

      2.4 樣品載體

      在TXRF分析過程中,樣品臺(tái)除了作為樣品的載體外,同時(shí)也是反射體。要求樣品臺(tái)不應(yīng)含有雜質(zhì),進(jìn)行X射線熒光分析時(shí)被測元素的光譜區(qū)不能出現(xiàn)載體本身的熒光峰。此外作為分析樣品的載體,應(yīng)具有抗酸堿、抗溶的化學(xué)惰性,且價(jià)格便宜。樣品臺(tái)還需要保證其具有較高的反射率[11],因此必須光學(xué)平坦且質(zhì)地均勻。在全反射X射線熒光分析的應(yīng)用中,樣品載體多采用石英玻璃、有機(jī)玻璃、玻璃碳和氮化硼等材料,其中石英玻璃平坦度較好、耐酸堿性強(qiáng),但對(duì)于分析硅及其相關(guān)輕元素時(shí)會(huì)造成測定不準(zhǔn)確。

      3 TXRF與EDXRF分析方法比較

      3.1 樣品制備

      EDXRF法中對(duì)于樣品的具體形式?jīng)]有特別的規(guī)定,可以是細(xì)致的粉末或?qū)⒎勰撼蓤A片,也可以為水溶液或玻璃熔片。

      TXRF是一種微量分析方法,在大多數(shù)情況下樣品應(yīng)制備成液體。對(duì)于一些固體塊狀材料應(yīng)對(duì)其進(jìn)行粉碎處理并將其制備成懸濁液。使用移液管取5~50 μL[12]的液體或懸濁液滴在石英玻璃上,在紅外燈或自然狀態(tài)下蒸干,干燥后的殘留物為半徑1~5 mm的圓亮點(diǎn),且殘留物應(yīng)穩(wěn)定干燥并且均勻附著在載體上。少量的液體樣品能夠大大減少樣品的基體效應(yīng)和粒度效應(yīng),提高檢測的準(zhǔn)確度。

      3.2 定性分析

      TXRF與EDXRF定性分析的基礎(chǔ)為莫塞萊定律,由公式(1)可以得出熒光能量與原子序數(shù)的對(duì)應(yīng)關(guān)系。在實(shí)際測定中可具體分為以下幾個(gè)步驟:

      (1)初步確定譜線上被測元素的特征α峰以及其β峰(如下圖3)的位置,并做出標(biāo)記。

      (2)觀察所確定的α峰與β峰對(duì)應(yīng)的道址或能量位置。

      (3)通過對(duì)道址與能量的關(guān)系得到該特征峰的能量值,并通過查表確定該特征峰屬于何種元素。

      圖3 Mo元素的特征Kα峰與Kβ峰

      3.3 定量分析方法

      TXRF與EDXRF對(duì)于定量分析方法一般分為單一元素測定和多元素測定兩種。

      3.3.1 單一元素的測定

      對(duì)于單一元素的測定,可以將待測元素本身直接作為標(biāo)準(zhǔn)。在樣品溶液中取幾份相同體積的待測溶液,分別向其中加入固定體積的含有不同濃度待測元素的標(biāo)準(zhǔn)溶液,所加入標(biāo)準(zhǔn)溶液中待測元素的濃度應(yīng)成梯度增加或遞減。通過TXRF或EDXRF對(duì)幾組標(biāo)準(zhǔn)樣品中待測元素的含量進(jìn)行測定,并繪制出以標(biāo)樣中待測元素含量為橫坐標(biāo),特征峰凈面積為縱坐標(biāo)的工作曲線。再次通過TXRF或EDXRF測定待測溶液中待測元素的特征峰凈面積,最后將其代入到工作曲線中求得待測樣品中的元素含量。

      3.3.2 多元素的測定

      對(duì)于多元素的測定,可以在樣品中加入其他元素作為內(nèi)標(biāo)。在測定中內(nèi)標(biāo)溶液一般選擇稀有元素,酸溶液中常加入Ga或Y,堿溶液中加入Ge[13],并用蒸餾水或乙醇稀釋。

      4 TXRF優(yōu)勢與局限性

      TXRF是一種微量分析方法,與EDXRF相比較,對(duì)于少量樣品具有較好的分析能力,并且不需要附加任何儀器。TXRF的探測效率與靈敏度較高,可以應(yīng)用于分析多種類型的樣品,除超輕元素(?11)外,約70個(gè)元素的檢出限可達(dá)到10 pg量級(jí);其次對(duì)于測定樣品的用量小,通常μL或μg的樣品量就能夠?qū)崿F(xiàn)準(zhǔn)確測量,但由于測定的試樣用量較小,因此不可能進(jìn)行完全的非破壞性分析[14-15]。另外,由于TXRF獨(dú)特的光路設(shè)計(jì),初級(jí)X射線發(fā)生全反射,只有待測元素的特征X射線進(jìn)入探測器,因此產(chǎn)生的基體效應(yīng)小,除低原子序數(shù)外,其他所有元素譜圖在處理過程中均無需校正基體效應(yīng);對(duì)元素的定量分析較為簡單,加入單一內(nèi)標(biāo)可以實(shí)現(xiàn)對(duì)所有元素的定量分析;在樣品的制備過程中,溶液樣品制樣方便,取微量樣品滴在樣品臺(tái)上蒸發(fā)即可。即使樣品中存在少量微粒,只要均勻分散顆粒即可進(jìn)行測定。雖然TXRF與EDXRF一樣,都是一種快速分析方法,但TXRF的待測樣品需要在分析前進(jìn)行蒸發(fā),因此不揮發(fā)的液體不可以直接進(jìn)行TXRF分析。

      5 結(jié)束語

      TXRF憑借其分析方法與原理上的優(yōu)勢被應(yīng)用于諸多領(lǐng)域,如在環(huán)境應(yīng)用方面,常對(duì)水樣或大氣顆粒中污染物的有無進(jìn)行探測[16];在蔬菜與精煉油方面,只需對(duì)油樣進(jìn)行稀釋就可以直接檢測;在醫(yī)學(xué)與臨床中,對(duì)血清與細(xì)胞組織樣切薄片就可以應(yīng)用TXRF進(jìn)行薄樣分析;在考古與工業(yè)領(lǐng)域也均有較廣的應(yīng)用。

      總之,全反射X射線熒光分析是以能量色散X射線熒光分析法為基礎(chǔ)的一種靈敏度高且操作簡單的微量分析技術(shù)。隨著檢測技術(shù)的發(fā)展,其被應(yīng)用于更多的領(lǐng)域和學(xué)科,尤其在痕量分析方面,全反射技術(shù)的引用將使X射線熒光分析方法顯示出更大的優(yōu)越性。

      [1] Roentgen W C.Further Observations on the Properties of the X-Rays [J].,1898,64:18-37.

      [2] 楊明太,張連平.WDXRF光譜儀與EDXRF光譜儀之異同[J].核電子學(xué)與探測技術(shù),2008,28(5):1008-1011.

      [3] 吉昂,卓尚軍,李國會(huì),等.能量色散X射線熒光光譜[M].北京:科學(xué)出版社,2011.

      [4] 楊明太,張連平.全反射X射線熒光分析[J].核電子學(xué)與探測技術(shù),2002,22(6):572-575.

      [5] 楊福家.原子物理學(xué)[M].北京:高等教育出版社,2008.

      [6] 文宏明.X射線熒光分析中的相關(guān)技術(shù)[D].成都:成都理工大學(xué),2010.

      [7] 陳遠(yuǎn)盤.全反射X-射線熒光光譜的原理和應(yīng)用[J].分析化學(xué),1994,22(4):406-414.

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      Comparison of TXRF and EDXRF Analysis Methods

      1,2,1,2,2,31,2,3

      (1. College of Physical Science and Technology, Shenyang Normal University, Liaoning Shenyang 110034, China;2. Ray Instrumentation Engineering Technology Research Center of Liaoning Province, Liaoning Shenyang 110034, China;3. Experimental Teaching Center, Shenyang Normal University, Liaoning Shenyang 110034, China)

      X-ray fluorescence analysis was widely appliedin the qualitative and quantitative analysis of material composition. Total reflection X-ray fluorescence analysis (TXRF) was a new surface trace analysis method based on the principle of energy dispersive X-ray fluorescence analysis (EDXRF). In this paper, EDXRF and TXRF were compared from the aspects of principle, instrumentation, quantitative analysis process and qualitative analysis process. As a new X-ray fluorescence analysis method, TXRF has the characteristics of high sensitivity, low detection limit and so on. Compared with other detection methods,TXRF has shown good advantages in many application areas.

      X-ray fluorescence analysis; energy dispersive X-ray fluorescence analysis; analysis methods

      2020-01-03

      劉伊初(1995-),女,碩士,遼寧省葫蘆島市人,2017年畢業(yè)于沈陽師范大學(xué)物理學(xué)專業(yè),研究方向:X射線熒光光譜分析與研究。

      鄧玉福(1966-),男,教授,博士,研究方向:輻射物理技術(shù)。

      TQ016.5+1

      A

      1004-0935(2020)04-0360-04

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