李建斌 魯欣欣
摘要:以MgSiN2、Y2O3和Yb2O3為添加劑,通過1 800 ℃熱壓燒結(jié)制備Si3N4陶瓷,研究顯微結(jié)構(gòu)對(duì)Si3N4力學(xué)性能和熱導(dǎo)率的影響。結(jié)果表明,不同燒結(jié)助劑制備的Si3N4的相對(duì)密度均在99%以上。分別添加MgSiN2、Y2O3和Yb2O3的Si3N4樣品,晶粒尺寸依次降低,并且斷裂韌性、抗彎強(qiáng)度和熱導(dǎo)率均依次降低。高長(zhǎng)徑比的長(zhǎng)棒狀β-Si3N4晶粒能增加Si3N4材料的抗彎強(qiáng)度和斷裂韌性。采用MgSiN2作為燒結(jié)助劑促進(jìn)Si3N4晶粒生長(zhǎng),Si3N4的熱導(dǎo)率較高。以MgSiN2作為添加劑的Si3N4具有較好的性能,其熱導(dǎo)率、抗彎強(qiáng)度和斷裂韌性分別為64.37 W·m-1·K-1、840 MPa和6.96 MPa·m1/2,滿足絕緣散熱基板的需求。
關(guān)鍵詞:氮化硅(Si3N4);熱壓燒結(jié);斷裂韌性;抗彎強(qiáng)度;熱導(dǎo)率
0? ? 引言
Si3N4陶瓷具有優(yōu)秀的力學(xué)性能、熱學(xué)性能和化學(xué)穩(wěn)定性,被廣泛應(yīng)用于機(jī)械加工、汽車、航空航天、電子電路等領(lǐng)域,如切削刀具、散熱基板等。
Si3N4為共價(jià)鍵陶瓷,自擴(kuò)散系數(shù)低。一般通過添加燒結(jié)助劑與Si3N4表面的SiO2反應(yīng)形成液相,提高傳質(zhì)速率,同時(shí)相變?cè)黾臃磻?yīng)驅(qū)動(dòng)力[1],實(shí)現(xiàn)Si3N4材料的致密化。在高性能Si3N4中,氣孔是材料內(nèi)部缺陷,嚴(yán)重影響材料的導(dǎo)熱性能和力學(xué)性能。熱壓燒結(jié)是制備致密Si3N4的有效方法,在燒結(jié)過程中,機(jī)械壓力作用于材料上,增加燒結(jié)驅(qū)動(dòng)力,Si3N4陶瓷的相對(duì)密度較高,力學(xué)性能較好。當(dāng)采用不同燒結(jié)助劑時(shí),不僅會(huì)影響Si3N4材料的致密化過程,而且會(huì)形成不同的微觀結(jié)構(gòu)。Si3N4的性能和顯微組織息息相關(guān),長(zhǎng)棒狀β-Si3N4晶粒具有增強(qiáng)增韌的作用,使Si3N4具有更高的抗彎強(qiáng)度和斷裂韌性,并且高純的大晶粒和加強(qiáng)晶粒之間的接觸有利于提高Si3N4熱導(dǎo)率[2]??梢?,通過燒結(jié)助劑調(diào)控顯微結(jié)構(gòu)可以增強(qiáng)Si3N4材料的性能。
本次實(shí)驗(yàn)分別以MgSiN2、Y2O3和Yb2O3作為燒結(jié)助劑,熱壓燒結(jié)制備Si3N4陶瓷,研究顯微結(jié)構(gòu)對(duì)Si3N4陶瓷力學(xué)性能和熱導(dǎo)率的影響。
1? ? 實(shí)驗(yàn)
1.1? ? 樣品的制備
以α-Si3N4粉體(E-10,UBE株式會(huì)社)為原料,添加劑為MgSiN2(福建美士邦精細(xì)陶瓷科技有限公司)、Y2O3和Yb2O3(北京興榮源科技有限公司)。將原料α-Si3N4和添加劑(MgSiN2、Yb2O3和Y2O3)按92:8的比例混合?;旌戏垠w經(jīng)球磨6 h后,用旋轉(zhuǎn)蒸發(fā)儀干燥,然后將混合粉體100目過篩。通過熱壓燒結(jié)制備Si3N4材料,從1 400 ℃升溫至1 800 ℃,同時(shí)單向機(jī)械壓力從0 MPa加至30 MPa,最后在30 MPa單向壓力下1 800 ℃熱壓燒結(jié)3 h,N2氣氛作為保護(hù)氣。將樣品分別命名為S-Mg、S-Y和S-Yb。
1.2? ? 測(cè)試與分析
采用阿基米德排水法測(cè)量以上熱壓燒結(jié)制備的Si3N4樣品密度,采用三點(diǎn)抗彎法測(cè)量Si3N4陶瓷的強(qiáng)度,采用壓痕法測(cè)量Si3N4陶瓷樣品的斷裂韌性,采用X射線衍射儀(D8,Advance,BRUKER)對(duì)試樣進(jìn)行物相分析,使用場(chǎng)發(fā)射掃描電鏡(Nova NanoSEM 430,F(xiàn)EI)對(duì)樣品的表面進(jìn)行形貌表征,采用激光閃光熱分析儀(LFA447,NETZSCH Instruments Co. Ltd)測(cè)量樣品的熱擴(kuò)散系數(shù)α。熱導(dǎo)率κ通過公式κ=ρCpα計(jì)算,其中ρ為燒結(jié)后樣品的密度,Cp為比熱容,使用定值0.68 J·g-1·K-1。
2? ? 結(jié)果與討論
2.1? ? 相對(duì)密度
表1列出了樣品S-Mg、S-Y和S-Yb的性能參數(shù),包括相對(duì)密度、平均直徑、長(zhǎng)徑比、斷裂韌性、抗彎強(qiáng)度和熱導(dǎo)率。
由表1可知,通過1 800 ℃熱壓燒結(jié),Si3N4樣品的相對(duì)密度均超過99%。熱壓燒結(jié)Si3N4時(shí),在機(jī)械壓力的作用下,燒結(jié)試樣被擠壓,增加了燒結(jié)驅(qū)動(dòng)力,消除了氣孔,強(qiáng)化了Si3N4致密化過程。所以,采用MgSiN2、Y2O3和Yb2O3等燒結(jié)助劑,通過熱壓燒結(jié)可以制備高相對(duì)密度的Si3N4陶瓷。
2.2? ? 相組成
圖1為熱壓燒結(jié)Si3N4樣品的XRD圖譜,可以看出,Si3N4樣品中的α-Si3N4已經(jīng)完全相轉(zhuǎn)化為β-Si3N4。在燒結(jié)過程中,添加劑和Si3N4表面的SiO2反應(yīng)形成液相,α-Si3N4溶解到高溫液相,然后再析出β-Si3N4。MgSiN2、Yb2O3和Y2O3對(duì)Si3N4相變有較好的促進(jìn)作用。
2.3? ? 顯微結(jié)構(gòu)
圖2是熱壓燒結(jié)Si3N4樣品的SEM圖。樣品S-Mg、S-Y和S-Yb均可以清晰地分辨出長(zhǎng)棒狀β-Si3N4晶粒,同時(shí)大晶粒鑲嵌在細(xì)小基體晶粒中。Si3N4晶粒的生長(zhǎng)縮小了晶界的空間,晶界相多位于多晶交叉處。
表1列出了Si3N4樣品的平均晶粒尺寸和長(zhǎng)徑比。樣品S-Mg的平均晶粒尺寸和長(zhǎng)徑比均最大,S-Y次之,S-Yb最小。添加MgSiN2可以促進(jìn)Si3N4晶粒的生長(zhǎng),這是由于在高溫?zé)Y(jié)制備Si3N4時(shí),添加MgSiN2形成的液相中N的溶解度較高,高N/O比有利于Si3N4相變和晶粒生長(zhǎng)。
2.4? ? 力學(xué)性能
Si3N4樣品的力學(xué)性能如表1所示,添加MgSiN2的樣品S-Mg抗彎強(qiáng)度最高(840 MPa),添加Y2O3的樣品S-Y(807 MPa)抗彎強(qiáng)度高于S-Yb(628 MPa)。結(jié)合圖2可知,在Si3N4陶瓷材料中形成高長(zhǎng)徑比的長(zhǎng)棒狀β-Si3N4晶粒,可以提高Si3N4的強(qiáng)度[3]。比較各樣品的晶粒尺寸發(fā)現(xiàn),晶粒的長(zhǎng)徑比越大,Si3N4的抗彎強(qiáng)度越高。
樣品S-Mg、S-Y和S-Yb的斷裂韌性依次降低,其中樣品S-Mg達(dá)到6.96 MPa·m1/2。Si3N4樣品的裂紋擴(kuò)展圖如圖3所示。樣品S-Mg中,添加MgSiN2作為燒結(jié)Si3N4的燒結(jié)助劑,弱化了Si3N4晶界,裂紋擴(kuò)展以沿晶斷裂為主,同時(shí)Si3N4晶粒的長(zhǎng)徑比較大,促進(jìn)了裂紋的偏轉(zhuǎn)和橋接,提高了Si3N4的斷裂韌性[4]。而添加Yb2O3的樣品S-Yb的裂紋基本以穿晶斷裂為主,這將導(dǎo)致斷裂韌性降低。
2.5? ? 熱導(dǎo)率
熱壓燒結(jié)Si3N4樣品的熱導(dǎo)率如表1所示,其中樣品S-Mg的熱導(dǎo)率最高,為64.37 W·m-1·K-1,而S-Y和S-Yb較低,分別為56.10 W·m-1·K-1和51.84 W·m-1·K-1。Si3N4熱導(dǎo)率的主要影響因素包括晶格氧含量、晶界相含量、成分以及分布狀態(tài)[5]等。分別添加MgSiN2、Y2O3和Yb2O3熱壓燒結(jié)制備Si3N4陶瓷的平均晶粒直徑在1 μm左右,當(dāng)晶粒尺寸較小時(shí),Si3N4陶瓷的熱導(dǎo)率不僅受到晶格氧含量的影響,而且會(huì)受到晶粒尺寸的影響。添加稀土氧化物作為Si3N4的燒結(jié)助劑,可以減少Si3N4晶格氧含量,提高Si3N4的熱導(dǎo)率[6],對(duì)于添加Y2O3和Yb2O3的樣品S-Y和S-Yb,晶粒尺寸越大,Si3N4的熱導(dǎo)率越高。非氧化物MgSiN2作為燒結(jié)助劑,促進(jìn)了Si3N4晶粒生長(zhǎng),凈化了Si3N4晶格,晶粒尺寸較大,晶界相多位于多晶交叉處,Si3N4的熱導(dǎo)率較高。通過添加MgSiN2、Y2O3和Yb2O3作為燒結(jié)助劑制備的高導(dǎo)熱、高強(qiáng)韌Si3N4陶瓷滿足大功率電子元器件的散熱基板要求。
3? ? 結(jié)論
通過添加MgSiN2、Y2O3和Yb2O3作為燒結(jié)助劑,熱壓燒結(jié)制備Si3N4陶瓷,研究顯微結(jié)構(gòu)對(duì)Si3N4力學(xué)性能和熱導(dǎo)率的影響,得出以下結(jié)論:
(1)在1 800 ℃熱壓燒結(jié)后,Si3N4陶瓷致密度均達(dá)到99%以上,并且完全相變。
(2)添加MgSiN2能有效弱化Si3N4晶界,提高Si3N4的韌性,達(dá)到6.96 MPa·m1/2,同時(shí)高長(zhǎng)徑比晶粒能提高Si3N4的強(qiáng)度,達(dá)到840 MPa。
(3)MgSiN2能促進(jìn)晶粒生長(zhǎng),Si3N4熱導(dǎo)率較高,為64.37 W·m-1·K-1。
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