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      真空系統(tǒng)金屬合金材料出氣對(duì)壓升率影響

      2021-07-22 03:21:18劉云飛
      中國(guó)金屬通報(bào) 2021年23期
      關(guān)鍵詞:真空度加熱器真空

      劉云飛,劉 宇,喬 輝

      (中國(guó)航天空氣動(dòng)力技術(shù)研究院,北京 100071)

      現(xiàn)如今,人們對(duì)于各元器件的研究逐漸深入,各元器件越來(lái)越趨向于精細(xì)化與微小化,因此對(duì)于微小元器件的保護(hù)工作就顯得尤為重要。隨著人們的深入研究,真空環(huán)境對(duì)于元器件的保護(hù)是最有利的,也是最有效的方法。目前對(duì)于真空環(huán)境下的真空衡量標(biāo)準(zhǔn)是氣體的壓升率,因此,人們?yōu)榱四軌蚋玫販y(cè)出在真空環(huán)境下金屬合金材料出其對(duì)于壓升率的影響,制造并生產(chǎn)了真空烘烤爐,目前對(duì)于真空烘烤爐的最先進(jìn)研究屬于由中國(guó)航天空氣動(dòng)力技術(shù)研究院所生產(chǎn)的高溫真空烘烤爐。因此,我們本次主要是通過(guò)對(duì)高溫真空烘烤爐的研究來(lái)對(duì)真空系統(tǒng)金屬合金材料出去對(duì)于壓升率的影響進(jìn)行分析。

      1 真空系統(tǒng)概述

      1.1 真空系統(tǒng)

      真空是指一種給定空間內(nèi)的氣體狀態(tài),該氣體狀態(tài)低于大氣壓力,且有著空氣稀薄密度小的特征。真空系統(tǒng)當(dāng)中,容器內(nèi)的壓力被稱(chēng)為絕對(duì)壓力。真空環(huán)境下各種微生物細(xì)菌會(huì)失去良好的生存環(huán)境,因此能夠有效抑制微生物生長(zhǎng)防止各類(lèi)氧化反應(yīng)的發(fā)生。真空系統(tǒng)的應(yīng)用在于創(chuàng)造一個(gè)真空環(huán)境,通常情況下,真空系統(tǒng)的組成包含真空泵、PLC、程序控制系統(tǒng)以及真空閥門(mén)、真空管道等成套設(shè)備,隨著科學(xué)技術(shù)的發(fā)展空間系統(tǒng)被廣泛應(yīng)用于電力、醫(yī)學(xué)、冶金等行業(yè)。隨著科學(xué)技術(shù)的發(fā)展和應(yīng)用需求的擴(kuò)張,近年來(lái),真空熱處理技術(shù)得到廣泛的應(yīng)用,該技術(shù)是真空技術(shù)和熱處理的結(jié)合,與常規(guī)熱處理相比大提升了熱處理的質(zhì)量,同時(shí)伴有脫脂、出氣等作用,可以實(shí)現(xiàn)無(wú)污染和工件的少畸變,因而屬于清潔和精密生產(chǎn)技術(shù)范疇。

      1.2 真空系統(tǒng)中金屬材料的出氣來(lái)源

      在真空系統(tǒng)當(dāng)中金屬出氣主要包含材料表面吸附的氣體以及材料表面發(fā)生化學(xué)反應(yīng)式所有的氣體,所以當(dāng)金屬原料處于真空狀態(tài)時(shí),其溶解和吸收的氣體會(huì)被不斷地釋放。

      1.2.1 吸附氣體

      金屬材料的氣體吸附包含物理吸附以及化學(xué)吸附兩個(gè)部分,但在一定的條件之下金屬吸附氣體會(huì)產(chǎn)生脫附現(xiàn)象吸附是一種傳質(zhì)的過(guò)程,表明金屬內(nèi)部的質(zhì)子能夠與周?chē)姆肿赢a(chǎn)生互相吸引的互動(dòng)。而脫附作為吸附的逆過(guò)程,通常在被吸附組分達(dá)到飽和狀態(tài)下發(fā)生,也就是說(shuō)被吸附于金屬表面的物質(zhì)在飽和之后的特定的條件下會(huì)經(jīng)過(guò)界面離逸重新進(jìn)入體相的狀態(tài),這個(gè)過(guò)程也被稱(chēng)為解析。實(shí)際上金屬表面吸附的氣體含量多少與金屬表面的狀況有關(guān),既包含粗糙度、氧化層的性質(zhì)與厚度,同時(shí)也包含表面所含有的污染物的種類(lèi)以及數(shù)量。以金屬表面的粗糙程度為例,一旦金屬表面的粗糙程度比較明顯且有眾多多孔疏松的氧化層形成,會(huì)大大增加吸附氣體量。

      1.2.2 化學(xué)反應(yīng)氣體

      金屬材料表面化學(xué)反應(yīng)的發(fā)生也會(huì)產(chǎn)生相應(yīng)的氣體,但這種反應(yīng)建立在高溫基礎(chǔ)之上。當(dāng)金屬加熱的溫度達(dá)到600℃以上時(shí),金屬熔煉過(guò)程當(dāng)中所溶解在內(nèi)的各種雜志,包括氣體以及坩堝材料、添加劑等會(huì)在高溫下重新溶解析,同時(shí)依照自己本身的特性以不同的速率向金屬表面完成擴(kuò)散。此時(shí)擴(kuò)散到達(dá)金屬表面的氣體會(huì)發(fā)生化學(xué)反應(yīng)進(jìn)而想成全新的氣體分子,或者與表面的氧化膜產(chǎn)生化學(xué)反應(yīng)產(chǎn)生全新的氣體分子。這些氣體分子主要有一氧化碳、二氧化碳、氫氣以及氮?dú)獾葰怏w,這些氣體會(huì)脫附到真空容器的空間以內(nèi)形成真空系統(tǒng)中的主要?dú)怏w來(lái)源。

      通常情況下反映物的種類(lèi)以及濃度決定著金屬材料表面發(fā)生化學(xué)反應(yīng)所產(chǎn)生的氣體種類(lèi)以及數(shù)量。以一氧化碳、二氧化碳為例,兩種氣體主要是由于碳原子從金屬材料體內(nèi)擴(kuò)散,從而與表面氧化物或者是同氣相當(dāng)中所存在的氧氣以及水發(fā)生氧化反應(yīng)而生成,但在此過(guò)程當(dāng)中需要建立的是一個(gè)等量的關(guān)系,也就是說(shuō)一氧化碳、二氧化碳的氣體量與金屬表面氧化層所含有的氧氣含量有著莫大的關(guān)聯(lián),因?yàn)檠鯕獾暮肯鄬?duì)于金屬體內(nèi)的碳和氫含量而言更高,那么整個(gè)氧化反應(yīng)更加充分,且反應(yīng)過(guò)程當(dāng)中會(huì)一直將碳和氫耗盡。在真空系統(tǒng)當(dāng)中常見(jiàn)的鐵以及鎳金屬的出氣量就同碳含量有著緊密的關(guān)聯(lián)。

      圖1 真空系統(tǒng)中金屬材料的出氣來(lái)源

      2 真空烘烤爐工作系統(tǒng)作用及先進(jìn)的加工工藝

      圖2 真空烘烤爐工作系統(tǒng)構(gòu)成

      2.1 真空烘烤爐各工作系統(tǒng)的作用

      2.1.1 真空容器

      對(duì)于真空容器而言,其主要是由筒體、大門(mén)、試驗(yàn)平臺(tái)和若干個(gè)法蘭組成,真空容器最主要的用途是為實(shí)驗(yàn)提供高真空的條件與空間,充分保證實(shí)驗(yàn)不受外界環(huán)境的打擾。

      2.1.2 加熱系統(tǒng)

      對(duì)于真空烘烤爐的加熱系統(tǒng),是具有加熱器以及相關(guān)的調(diào)控器結(jié)合而組成的,其最主要的用途是為實(shí)驗(yàn)提供200℃以上的溫度變化范圍,同時(shí),加熱系統(tǒng)又分為自動(dòng)加熱系統(tǒng)與手工加熱系統(tǒng),對(duì)于自動(dòng)加熱系統(tǒng)的溫度控制范圍為200℃以下,而對(duì)于手工加熱系統(tǒng)主要控制200℃以上的溫度范圍。

      2.1.3 真空系統(tǒng)

      這里的真空系統(tǒng)主要指的是對(duì)于真空系統(tǒng)的營(yíng)造,首先使用粗抽,粗抽使用的是干泵,而對(duì)于過(guò)濾抽氣以及作為檢漏使用的真空泵是分子泵,為此,我們可以在測(cè)量過(guò)程中采用復(fù)合真空計(jì)而為整個(gè)真空室來(lái)提供抽真空手段。

      2.1.4 控制系統(tǒng)

      對(duì)于真空烘烤爐的控制系統(tǒng),其主要構(gòu)成是計(jì)算機(jī)測(cè)量以及控制部分,同時(shí)計(jì)算機(jī)能夠?qū)υO(shè)備的工作狀態(tài)進(jìn)行顯示,并對(duì)設(shè)備的運(yùn)行狀況以及健康狀況進(jìn)行反應(yīng)。

      2.1.5 相關(guān)輔助系統(tǒng)

      對(duì)于真空烘烤爐的相關(guān)輔助系統(tǒng),其主要是由照明設(shè)備以及動(dòng)力設(shè)備等,用來(lái)輔助真空烤爐運(yùn)行,充分保證真空烘烤爐在各種環(huán)境條件下都能有效持續(xù)地運(yùn)行。

      2.2 真空烘烤爐的先進(jìn)加工工藝

      目前,隨著我國(guó)對(duì)于真空烘烤爐的深入研究,真空烘烤爐的設(shè)計(jì)也越來(lái)越精準(zhǔn)化,對(duì)于本次真空烘烤爐的主要設(shè)計(jì)特點(diǎn)主要有以下方面:

      (1)本次對(duì)真空烘烤爐的筒體內(nèi)壁進(jìn)行更加深入的拋光,以此來(lái)減少真空烘烤爐筒體出氣量,其能夠從外部對(duì)系統(tǒng)的出氣量進(jìn)行降低,進(jìn)而降低金屬合金材料出氣的壓升率。

      (2)本次通過(guò)對(duì)真空烘烤爐的相關(guān)結(jié)構(gòu)進(jìn)行分類(lèi),從而使得總體結(jié)構(gòu)顯得更加簡(jiǎn)單、更加合理,同時(shí)隨著焊接技術(shù)的發(fā)展,對(duì)于真空烘烤爐的焊縫焊接更加合理,從而使得檢漏更加方便,同時(shí)使得整個(gè)真空烘烤爐的各個(gè)結(jié)構(gòu)修改與調(diào)整更加簡(jiǎn)單。

      (3)對(duì)于目前真空烘烤爐的最大應(yīng)用技術(shù)在于焊接工藝的需求,對(duì)于目前真空烘烤爐的簡(jiǎn)體拼接主要采用的是真空容器焊接工藝,而其使用的焊接技術(shù)主要是鎢極氬弧內(nèi)焊接,而對(duì)于外焊縫的焊接主要使用鎢極氬弧斷續(xù)焊接加強(qiáng)。

      (4)目前對(duì)于氦質(zhì)譜儀的最低檢漏是2×10的負(fù)11次方,能夠?qū)φ婵障到y(tǒng)材料出氣對(duì)于壓升率的所觀察的效果更為明顯,使得真空烘烤爐的檢漏更加精準(zhǔn)。

      (5)我們對(duì)真空烘烤爐總漏率的測(cè)量發(fā)明了更加精準(zhǔn)的測(cè)量方法,首先要通過(guò)氦質(zhì)譜儀對(duì)真空烘烤爐進(jìn)行精準(zhǔn)的檢漏之后,再將其焊接于真空室的筒體內(nèi),最后將其與大門(mén)相組裝,最后再進(jìn)行真空烘烤爐的真空撿漏,以此來(lái)確定真空烘烤爐的總漏率。

      3 真空烘烤爐的工作原理與關(guān)鍵技術(shù)

      3.1 真空烘烤爐的工作原理

      當(dāng)前,真空烘烤爐被廣泛應(yīng)用于食品、輕工、化工以及醫(yī)藥等行業(yè)完成物品的干燥工作,利用真空泵實(shí)施抽氣抽濕的工序,促使整個(gè)烘烤爐內(nèi)處于一種真空狀態(tài),從而有效降低沸點(diǎn),有著干燥速度快,污染小且不會(huì)破壞干燥物品的內(nèi)在質(zhì)量的特點(diǎn)。通過(guò)對(duì)真空烘烤爐的設(shè)計(jì)思路進(jìn)行分析,對(duì)于真空烘烤爐而言,其能夠提供低于5×10的負(fù)4次帕的極低真空度,其對(duì)于真空系統(tǒng)內(nèi)材料出氣對(duì)于壓升率的影響實(shí)驗(yàn)中能夠提供更加清潔的真空環(huán)境,能夠有效避免在真空烘烤爐工作過(guò)程中有雜質(zhì)空氣混入真空容器內(nèi)對(duì)容器造成污染。

      3.2 真空烘烤爐的關(guān)鍵技術(shù)應(yīng)用

      3.2.1 大門(mén)鉸鏈結(jié)構(gòu)

      容器大門(mén)開(kāi)啟采用單軸雙銷(xiāo)鉸鏈結(jié)構(gòu),單軸為全轉(zhuǎn)軸,實(shí)現(xiàn)大門(mén)的開(kāi)閉;銷(xiāo)軸為限轉(zhuǎn)軸,當(dāng)筒體法蘭與大門(mén)法蘭密封面出現(xiàn)不貼合時(shí)或容器抽真空后大門(mén)法蘭向筒體法蘭平移壓縮密封圈時(shí),單軸和銷(xiāo)軸可以協(xié)同微轉(zhuǎn)動(dòng)進(jìn)行調(diào)節(jié)補(bǔ)償,保證大門(mén)的具有良好的密封性能。

      隨著社會(huì)經(jīng)濟(jì)的發(fā)展,我國(guó)越來(lái)越重視國(guó)土資源的作用,相應(yīng)地也越來(lái)越重視財(cái)政稅收預(yù)算管理工作的開(kāi)展。要想提高政稅收預(yù)算管理的科學(xué)合理性,就必須仔細(xì)發(fā)現(xiàn)目前其工作中的問(wèn)題,并對(duì)這些問(wèn)題進(jìn)行詳細(xì)的分析,提出切實(shí)可行的應(yīng)對(duì)策略,才能使得預(yù)算管理結(jié)構(gòu)更加合理、科學(xué)。

      3.2.2 真空烘烤爐的加熱系統(tǒng)

      首先便是對(duì)于加熱功率的計(jì)算,真空爐加熱器采用half式,左右側(cè)各1片;根據(jù)設(shè)計(jì)建模圖形進(jìn)行計(jì)算:加熱器半片有效加熱面積為12000dm2,空間需求溫度:200+273=473K,采用經(jīng)驗(yàn)公式計(jì)算功率如下:

      式中:P—加熱功率,單位kW;F—有效工作面積,dm2;T—工作溫度,K;

      計(jì)算得出P=5.2kw,留有一定余量,功率取5.5kw,則整體加熱功率為11kw。

      其次便是對(duì)于真空烘烤爐的溫升速率

      根據(jù)設(shè)計(jì)建模圖形進(jìn)行計(jì)算加熱器總質(zhì)量約為25kg/片,根據(jù)公式cm△t=Pt來(lái)進(jìn)行計(jì)算,按照不銹鋼比熱容取0.54KJ/(Kg·℃)進(jìn)行計(jì)算,功率P=5.5kw,加熱器組件由室溫加熱至300℃需要約為t=13min左右。

      最后是對(duì)于真空烘烤爐的加熱器結(jié)構(gòu)方案

      依據(jù)使用要求,加熱器選擇電加熱管加熱,加熱器安裝在真空室內(nèi)側(cè)。為減少熱損失,電加熱管外側(cè)設(shè)置反射屏。加熱器組件安裝采用支撐柱+螺釘緊固形,鎧裝加熱絲同反射板安裝采用雙卡固定,反射屏同加熱器安裝板固定采用掛柱+R型銷(xiāo)進(jìn)行連接,筒體加熱器為直徑1000mm長(zhǎng)800mm,加熱器功率11kW。

      另外,金屬放氣是該真空烘烤爐的主要?dú)庠?,而金屬材料放氣速率展現(xiàn)的是溫度以及時(shí)間的函數(shù)關(guān)系,關(guān)系如下:

      金屬材料放氣流量Qf可以表示為:

      式中:qi-第i種材料的出氣速率;Ai-第i種材料在真空中的暴露面積;K-校正系數(shù),一般情況下可取K≈1。

      3.2.3 真空烘烤爐的控制系統(tǒng)

      首先便是對(duì)真空烘烤爐的設(shè)計(jì)總體方案,采用計(jì)算機(jī)控制方式,主要由上位監(jiān)測(cè)系統(tǒng)、下位控制系統(tǒng)和配電系統(tǒng)構(gòu)成。另外,對(duì)于上位檢測(cè)系統(tǒng)由觸控一體屏、組態(tài)軟件組成,顯示整個(gè)設(shè)備的運(yùn)行狀態(tài),實(shí)時(shí)顯示真空度、溫度、等數(shù)據(jù)。最后便是下位控制系統(tǒng)由PLC構(gòu)成智能控制系統(tǒng),所有的控制部分主要由PLC來(lái)完成,包括真空度、溫度的采集、模擬量的輸出控制及開(kāi)關(guān)量的輸入輸出?,F(xiàn)的觸摸屏具有狀態(tài)監(jiān)視和設(shè)備操作的功能。

      配電系統(tǒng)承擔(dān)給整體設(shè)備的所有電器元件提供電源,真空烘烤爐的控制系統(tǒng)以自動(dòng)控制為主,現(xiàn)場(chǎng)手動(dòng)為最高優(yōu)先級(jí),使設(shè)備具有更寬范圍的適用性??蓪?shí)現(xiàn)對(duì)設(shè)備運(yùn)行過(guò)程中各種數(shù)據(jù)的處理、顯示、存儲(chǔ)和打印。主要功能有:

      (1)實(shí)現(xiàn)對(duì)系統(tǒng)的真空系統(tǒng)運(yùn)行狀態(tài)進(jìn)行控制和監(jiān)測(cè)。

      (2)實(shí)現(xiàn)對(duì)系統(tǒng)的溫度系統(tǒng)運(yùn)行狀態(tài)進(jìn)行控制和監(jiān)測(cè)。

      (3)實(shí)現(xiàn)對(duì)設(shè)備工作過(guò)程中的真空度、溫度以及設(shè)備工作狀態(tài)進(jìn)行監(jiān)測(cè)并記錄。

      (4)實(shí)現(xiàn)對(duì)系統(tǒng)運(yùn)行過(guò)程檢測(cè),并給出分系統(tǒng)報(bào)警信號(hào)并做出相應(yīng)的處理。

      另外,對(duì)于真空烘烤爐的測(cè)控系統(tǒng)組成其真空測(cè)量方面,其相應(yīng)的指標(biāo)、設(shè)備、以及數(shù)據(jù)的運(yùn)算,存儲(chǔ)及打印方式如下:

      主要指標(biāo):測(cè)量范圍105Pa~10-5Pa。

      主要設(shè)備:真空規(guī)計(jì)。

      通過(guò)PLC模塊獲得真空計(jì)采集的高低真空度,經(jīng)過(guò)現(xiàn)地PLC以及上位機(jī)軟件的處理,用于數(shù)據(jù)運(yùn)算、存儲(chǔ)和打印。PLC一般通過(guò)以下兩種方式采集真空度:

      (1)通過(guò)模擬量模塊采集真空計(jì)輸出的電流、電壓或電阻信號(hào)。

      (2)通過(guò)通訊模塊與真空計(jì),按照規(guī)定的協(xié)議,以通訊的方式獲得數(shù)據(jù)。

      真空封烤爐的真空獲得控制其主要設(shè)備及工作原理如下:

      主要設(shè)備:泵組,相關(guān)閥門(mén)。

      真空獲得主要根據(jù)系統(tǒng)所需真空度,控制泵組和相關(guān)閥門(mén)的開(kāi)啟,使真空度達(dá)到指標(biāo)范圍。真空泵組和閥門(mén)的控制通過(guò)現(xiàn)場(chǎng)觸摸屏發(fā)送命令至下位機(jī)PLC,CPU模塊經(jīng)過(guò)計(jì)算后,通過(guò)繼電器的勵(lì)磁或者接觸器的吸合完成具體設(shè)備或閥門(mén)的動(dòng)作。

      對(duì)于真空烘烤爐的溫度測(cè)控單元,其溫度控制系統(tǒng)主要由加熱裝置。通過(guò)以試件某個(gè)點(diǎn)的溫度做反饋,對(duì)溫度進(jìn)行控制。而加熱器功率由功率調(diào)節(jié)器控制,通過(guò)PLC模擬量輸出模塊輸出4mA~20mA的電流信號(hào)來(lái)改變調(diào)功器輸出功率的大小。整個(gè)溫度控制過(guò)程由PID調(diào)節(jié)來(lái)完成,使熱沉溫度在一定范圍保持恒值。

      首先需要在與樣品測(cè)試完全相同的測(cè)試條件下,測(cè)量出樣品室和測(cè)量室的本底漏放氣率.測(cè)量步驟是:在系統(tǒng)達(dá)到極限真空后,首先通入高純氬氣清洗系統(tǒng)lh;然后開(kāi)始抽真空并低溫烘烤(150℃)除氣2h;停止烘烤1h后抽至本底真空2×106Pa;關(guān)閉液態(tài)金屬閥,開(kāi)始記錄樣品室和測(cè)量室的壓力變化.為保證數(shù)據(jù)準(zhǔn)確可靠,進(jìn)行了2次測(cè)量.依據(jù)所測(cè)數(shù)據(jù)可分別繪出二條壓升曲線;對(duì)曲線做微分運(yùn)算,即分別求出其導(dǎo)數(shù),并取平均值,則得到系統(tǒng)的本底漏放氣曲線.采用這種數(shù)據(jù)處理方法的目的是盡可能排除數(shù)據(jù)隨機(jī)測(cè)量誤差的影響,使所得到的結(jié)果更加可靠。

      直接以可伐合金制作的探測(cè)元件外殼作為測(cè)試樣品,測(cè)量包括系統(tǒng)本底漏放氣和樣品放氣的總放氣率曲線。測(cè)試步驟是:在系統(tǒng)達(dá)到極限真空后,充入高于環(huán)境大氣壓力的氬氣;用氧一煤氣火焰將樣品室熔開(kāi),迅速放入樣品,然后封接.此過(guò)程要防止溫度過(guò)高而出現(xiàn)樣品過(guò)熱或氧化。此后開(kāi)始抽真空,與測(cè)量系統(tǒng)本底漏放氣率的步驟和過(guò)程參數(shù)完全相同,記錄樣品室和測(cè)量室的壓力變化數(shù)據(jù)。測(cè)試實(shí)驗(yàn)同樣進(jìn)行了2次。依此數(shù)據(jù)亦可繪出二條壓升曲線。依照與測(cè)量系統(tǒng)本底漏放氣率完全相同的數(shù)據(jù)處理方法,可以得到包括系統(tǒng)本底漏放氣和樣品放氣的總放氣率曲線。

      4 對(duì)于真空烘烤爐的關(guān)鍵系統(tǒng)設(shè)計(jì)

      4.1 加熱器的相關(guān)系統(tǒng)設(shè)計(jì)

      加熱器選擇電加熱管加熱,加熱器安裝在真空室內(nèi)側(cè)。為減少熱損失,電加熱管外側(cè)設(shè)置反射屏。通過(guò)溫控儀器調(diào)節(jié)加熱帶所加電壓/電流來(lái)調(diào)節(jié)加熱功率,來(lái)實(shí)現(xiàn)溫度的調(diào)節(jié)和控制。

      4.2 測(cè)量控制系統(tǒng)的系統(tǒng)設(shè)計(jì)

      測(cè)量與控制系統(tǒng)是實(shí)現(xiàn)系統(tǒng)功能的核心部分,主要包括控制器、工業(yè)觸控屏、溫控儀等組成,實(shí)現(xiàn)溫度控制、真空度控制,系統(tǒng)設(shè)有安全報(bào)警、互鎖、缺相、漏電保護(hù)等功能。

      面板設(shè)有斷路開(kāi)關(guān)、急停按鈕、指示燈、鑰匙開(kāi)關(guān)、報(bào)警器等,相比觸摸屏虛擬按鍵,面板按鈕具有最高權(quán)限。

      控制器選用西門(mén)子PLC,性能穩(wěn)定可靠,采用博圖V15編寫(xiě)程序代碼,實(shí)現(xiàn)數(shù)據(jù)采集(真空度、溫度),繼電器、按鈕、指示燈等開(kāi)關(guān)量的輸入輸出控制。

      工業(yè)觸摸屏選用昆侖通態(tài)觸控屏,與PLC可通過(guò)TCP/IP通信,用于顯示數(shù)據(jù)、曲線、報(bào)警歷史等,組態(tài)畫(huà)面模擬現(xiàn)場(chǎng)實(shí)物,操作簡(jiǎn)便。由于觸控屏集成有RS485總線,可與溫控儀直接通信,設(shè)置試驗(yàn)需要的溫度。

      溫控儀選用歐姆龍E5系列溫控儀,可通過(guò)485總線進(jìn)行參數(shù)設(shè)置;此外,溫控儀自帶的模擬量輸出接口將現(xiàn)場(chǎng)采集到的溫度數(shù)據(jù)接入PLC模擬量采集端,用于溫度監(jiān)控。

      5 結(jié)語(yǔ)

      我們本次通過(guò)對(duì)真空烘烤爐的關(guān)鍵技術(shù)應(yīng)用以及相關(guān)參數(shù)的分析,我們得出了真空系統(tǒng)金屬合金材料出氣對(duì)于壓升率的影響改變因素,進(jìn)而我們能夠得出各項(xiàng)改進(jìn)系統(tǒng)極限真空度以及如何降低系統(tǒng)壓升率的方式方法。其對(duì)于我們以后的金屬合金材料出氣對(duì)于壓升率的影響研究具有重大意義。

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