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      一種新型實時兩點非均勻性校正方法

      2021-09-18 23:35:32關(guān)同輝張同賀
      航空兵器 2021年4期

      關(guān)同輝 張同賀

      摘 要: 針對探測器響應的非線性以及探測器響應隨時間偏移兩大問題, 提出了一種新型實時兩點非均勻性校正法。 該方法可彌補兩點校正法無法在線實時校正的不足, 且抑制了工作環(huán)境的劇烈變化對探測器非均勻性的影響。 本文以氣動熱環(huán)境下的紅外焦平面探測系統(tǒng)為研究對象, 對新型實時兩點非均勻性校正法的校正過程進行具體的仿真計算和理論論證。 結(jié)果表明: 本文方法在理論上基本滿足實際非均勻性校正情況, 可適用于復雜多變的探測器工作環(huán)境。

      關(guān)鍵詞: 紅外焦平面; 非均勻性; 兩點校正法; 響應非線性; 探測器漂移

      中圖分類號:??? TJ760; TN215 ??文獻標識碼:??? A? 文章編號:1673-5048(2021)04-0112-06

      0 引? 言

      紅外焦平面探測器是紅外成像探測系統(tǒng)不可或缺的重要部分, 由于工藝精度不足、 材料等方面原因, 非均勻性問題不可避免[1]。? 紅外焦平面探測器的非均勻性是指, 當外界的紅外能量場均勻輸入至焦平面的每一個探測器單元時, 每個單元呈現(xiàn)出響應輸出不一致的特性[2]。? 非均勻性不僅降低了紅外成像探測系統(tǒng)的成像質(zhì)量, 也對系統(tǒng)的探測能力產(chǎn)生了嚴重影響。

      紅外探測器的非均勻性校正算法主要分兩大類: 一類是基于離線標定的校正方法, 一類是基于實時場景的校正方法[3]。 基于離線標定的校正方法主要為兩點校正和兩點多段校正。 此類方法雖然精度較高, 但是無法對紅外探測系統(tǒng)進行實時校正, 因此需要定期對探測系統(tǒng)進行標定。 基于實時場景的校正方法[4], 主要有人工神經(jīng)網(wǎng)絡算法、 時域高通濾波算法、 恒定統(tǒng)計平均法等。 此類方法無需頻繁定標, 直接利用外界實時場景的信息, 對校正系數(shù)進行實時在線學習更新。 但此類算法精度不如定標類算法, 而且對于靜止或運動緩慢的目標會產(chǎn)生“鬼影”現(xiàn)象, 容易造成探測系統(tǒng)的虛警和錯誤跟蹤。

      目前, 大部分的非均勻性校正方法均基于這樣一種限定條件: 理想狀態(tài)下, 焦平面探測器對紅外輻射的響應是線性的。 但實際上, 紅外探測器的輻射響應曲線是非線性的, 分為緩慢上升、 線性增長、 趨于飽和三個階段。 在緩慢上升和趨于飽和階段表現(xiàn)出明顯的非線性。 紅外成像系統(tǒng)出廠前, 均需要提前對其進行非均勻性標定。 然而, 當紅外探測器所處的工作環(huán)境發(fā)生劇烈變化, 探測器本身的工作狀態(tài)也隨之改變。 由于探測器的真實響應為非線性, 原有的標定參數(shù)將無法適應由于工作狀態(tài)改變引起的探測器響應狀態(tài)的改變; 其次, 紅外探測器工作一段時間后, 探測器響應發(fā)生特性漂移, 這嚴重影響了非均勻性的校正精度, 導致探測系統(tǒng)成像質(zhì)量下降。

      因此, 本文以解決探測器漂移和非線性響應對非均勻性校正的影響為目的, 提出了一種以兩點校正法為基礎的, 可以實時在線校正的新型非均勻性校正算法。 該算法不僅具有定標類算法精度高的優(yōu)點, 還以當前場景信息作為校正依據(jù), 實現(xiàn)定標類算法的在線實時校正。

      1 傳統(tǒng)的探測器非均勻性校正方法

      1.1 傳統(tǒng)的兩點校正法

      兩點校正法是目前最易工程化, 也是研究最為普遍的紅外焦平面探測器非均勻性校正方法, 其實現(xiàn)原理如下: 在各溫度下, 假設紅外焦平面探測器各像元對外界能量的響應成線性關(guān)系, 紅外探測器線性響應模型如下 [5]:

      Ni(T)=τeffτint∫λ2λ1ηi(λ)L(λ, T)dλAiΩi+Di

      Ωi=πsin4θi4F2+1 (1)

      式中: τeff為光學系統(tǒng)的透過率; τint為紅外探測器的積分時間; [λ1, λ2]為紅外探測器光譜響應范圍; ηi(λ)為探測單元的量子效率, 量子效率是入射紅外光波波長的函數(shù); L(λ, T)為絕對溫度為T的黑體在波長λ下的光譜輻射照度; θi為探測單元相對于光學系統(tǒng)光軸的夾角; Ωi為光學系統(tǒng)入瞳的立體角; F為光學系統(tǒng)的F數(shù); Ai為探測器單元的幾何光學面積; Di為探測器在一個積分周期內(nèi)暗電流所積累的電荷個數(shù)。 為了方便計算, 通常將式(1)簡化如下:

      Ni=giφi+Oi(2)

      根據(jù)紅外探測器的線性響應模型, 得到校正公式:

      y=ax+b(3)

      該式的物理意義為: 焦平面各像元的輸出實際響應為x, 通過非均勻性校正方法, 各個像元的增益調(diào)節(jié)因子a和偏置調(diào)節(jié)因子b經(jīng)過更新, 應該得到理想的均勻輸出y。 從數(shù)學意義本身來講, 欲求解該二元一次方程, 需要兩組x, y的值, 即可求解線性關(guān)系。 設在兩個標定溫度點T1和T2獲得兩組焦平面響應數(shù)據(jù)x1(i, j)和x2(i, j), 兩個一致性輸出為y1和y2。 其中(i, j)表示焦平面中各像元[6], 則有

      航空兵器 2021年第28卷第4期

      關(guān)同輝, 等: 一種新型實時兩點非均勻性校正方法

      y1=ax1(i,? j)+b? (4)

      y2=ax2(i,? j)+b? (5)

      a=y1-y2x1(i, j)-x2(i, j) (6)

      b=y1-ax1(i,? j)(7)

      以上式中關(guān)鍵是對y1和y2的確定。 通常選取該溫度均勻輻射下, 紅外焦平面所有探測單元實際輸出的平均值作為理想期望的y值, 具體算法如下:

      y1=∑x1(i, j)M(8)

      y2=∑x2(i, j)M(9)

      式中: M為紅外焦平面探測單元總數(shù), M=行數(shù)×列數(shù)。

      1.2 兩點校正法的誤差分析

      兩點校正法雖然在工程上容易實現(xiàn), 且單次校正精度較高, 然而由于探測器響應非線性以及探測器響應特性漂移等問題, 該方法依舊存在著較大缺陷以及校正殘差, 下面針對這類問題進行具體分析。

      1.2.1 探測器響應非線性的影響

      假定紅外探測器單元的非線性響應如下[7]:

      xij=αijPs-βijp2s(10)

      式中: Ps為入射功率。

      忽略偏移, 兩點校正后為

      yij=a(xij-Lij)Hij-Lij(11)

      式中:? Lij=αijPL-βijp2L;? Hij=αijPH-βijp2H。

      將αij和βij作為兩個獨立的隨機變量, δα和δβ為紅外焦平面中所有單元的αij和βij標準偏差, 和為其平均值, 則有

      δyNL=yijαij, δα2+yijβij, δβ2=

      a(PH-PL)|Z(1-Z)|(2δα2+2δβ2)1/2[-β(PH+PL)]2

      (12)

      式中:? Z=PS-PLPH-PL。

      對于一個特定的系統(tǒng), 式(12)中其他各項均為常數(shù), 空間噪聲與Z(1-Z)成正比, 將其他各項簡化為比例因子K, 則有RFPN=K|Z(1-Z)|。

      因此, 殘留非均勻性曲線為一個W形曲線, 在兩個定標點處為零, 見圖1[8]。 圖中的橫坐標0和1分別表示低溫校正點和高溫校正點。 縱坐標為殘留非均勻性, 單位為K的倍數(shù)。

      定標校正中誤差的來源較多, 各種誤差源的綜合影響結(jié)果使得殘留非均勻性曲線與理想響應有所區(qū)別。

      1.2.2 探測器漂移的影響

      紅外焦平面探測器在實際工作時, 其響應狀態(tài)是隨著時間慢慢變化的, 這就是通常意義上講的探測器漂移。 這種漂移不但時刻發(fā)生著變化, 也隨著工作時間的增加不斷地進行積累。 當探測器的響應狀態(tài)發(fā)生變化, 如果依舊使用廠家標定的校正系數(shù), 那么將會產(chǎn)生較大的殘余非均勻性噪聲, 此時需要重新標定。 這便是基于兩點校正法的一個很大缺點, 其無法滿足校正系數(shù)的實時性, 重新進行標定耗費時間, 且操作復雜。 因此, 無法滿足校正實時性的局限性, 限制了兩點校正方法的發(fā)展。

      1.3 兩點多段校正方法

      紅外焦平面探測器每個像元的光譜響應曲線不同, 且每條響應曲線的響應非線性度也一樣。 將紅外成像探測系統(tǒng)的工作范圍分成M段, 用分段折線對探測器非線性響應曲線進行擬合從而逼近實際響應曲線, 然后在每個分段內(nèi)進行兩點校正, 這就是兩點多段校正方法。 如圖2所示[9]。

      在動態(tài)范圍內(nèi)選取不同φ0, φ1, φ2, φ3, …, φM的M+1個輻照等級, 對N個探測器像元分別進行定標, 得到對應的響應值xi, j(φk)(k=0, 1, 2, 3, …, M), 則可以得出校正參數(shù)ai, j(φk), bi, j(φk):

      ai, j(φk)=yi, j(φk-1)-yi, j(φk)xi, j(φk-1)-xi, j(φk)bi, j(φk)=yi, j(φk)-ai, j(φk)xi, j(φk)? (13)

      式中: k為輻照度等級, k=0, 1, 2, 3, …, M; i, j為焦平面中各像元。

      校正時需要讀入?yún)?shù)表xi, j(φk)(k=0, 1, 2, 3, …, M), 校正參數(shù)ai, j(φk)和bi, j(φk)對于任意輻照條件φk下, 焦平面探測器像元的響應值xi, j(φ)可以校正為yi, j(φ)。

      無論是兩點校正法, 還是兩點多段校正法[10], 進行校正時都需要對探測器進行黑體定標, 過程繁瑣, 無法滿足戰(zhàn)場實時性的要求。 導彈在進行格斗的過程中, 外界環(huán)境急劇變化, 由于探測器本身的非線性響應, 傳統(tǒng)的兩點校正無法實時適應探測器工作狀態(tài)的變化, 即當外界場景復雜且急劇變化時(如當導彈發(fā)射階段, 速度急劇變化的過程中會產(chǎn)生很大的氣動熱), 固有的標定參數(shù)無法適應當前變化的探測器工作狀態(tài), 此時需要實時地更新增益調(diào)節(jié)因子a和偏置調(diào)節(jié)因子b, 以適應復雜的作戰(zhàn)環(huán)境(探測器工作溫度范圍無法與標定溫度范圍匹配); 其次, 由于探測器本身存在響應漂移問題, 探測器的響應會隨著時間的變化而變化, 若仍然使用提前固化的校正參數(shù)進行非均勻性校正, 將會產(chǎn)生很大的剩余非均勻性噪聲, 嚴重時將導致圖像失真等問題, 需要重新對探測器進行標定, 過程復雜、 代價較高。

      基于以上兩點問題, 即探測器響應的非線性以及探測器響應隨時間偏移, 本文提出一種以兩點校正為基礎、 可實時調(diào)整的新型自適應非均勻性校正法, 可應對復雜多變的戰(zhàn)場環(huán)境, 同時可以一定程度上避免探測器頻繁返廠標定的麻煩, 解決探測器漂移問題。

      2 新型實時兩點校正法

      2.1 改進的兩點校正法

      根據(jù)前文對兩點校正法的基本原理分析, 由式(6)~(7)可知, 偏置調(diào)節(jié)因子b通過單點(一個溫度點)即可修正, 欲要同時標定增益調(diào)節(jié)因子a, 至少需要兩個標定點, 才能對a進行修正。 因此兩點校正法標定過程的關(guān)鍵在于為探測器提供兩種不同溫度的響應狀態(tài), 一個相對高溫點, 一個相對低溫點, 從而實現(xiàn)同時對比例因子a和偏置因子b的標定。 因此, 假如可利用外部場景的紅外能量, 調(diào)整探測器焦平面所接收的能量的大小, 實時地為探測器提供兩種不同的能量響應狀態(tài), 就可實現(xiàn)基于場景的實時兩點校正。

      基于這一思想, 在光學系統(tǒng)和探測器之間添加光輪裝置, 通過光輪的旋轉(zhuǎn), 改變外界場景到達探測器的紅外能量, 從而為探測器提供兩種不同溫度的場景。 圖3為該方法所需要的光輪裝置結(jié)構(gòu)示意圖。

      圖3分別給出了光輪的側(cè)面和正面示意圖, 該光輪基底由硅材料制成, 以硅作為光輪的基底材料, 紅外光學透過率較高, 因此當其接入光路時, 對于外界紅外輻射在探測系統(tǒng)內(nèi)部傳輸?shù)挠绊懞苄。?幾乎可以忽略不計。 光輪被等分為三個部分: 聚焦區(qū)域(1)、 離焦區(qū)域(2)、 不透區(qū)域(3), 紅外探測器位于圖3(a)中的f1處。 當光輪的區(qū)域(1)接入光路中時, 聚焦點為f1, 探測器輸出圖像為聚焦圖像, 此時探測器不進行非均勻性校正操作, 為正常工作狀態(tài);? 當光輪的區(qū)域(2)接入光路中時, 聚焦點為f2, 此時光學系統(tǒng)焦點移位, 探測系統(tǒng)處于離焦狀態(tài), 外界場景的紅外能量經(jīng)過光輪(2)區(qū)域, 被發(fā)散在探測器焦平面上且不成像, 此時構(gòu)造相對高溫點; 當光輪的第(3)部分處于光路中時, 光輪處于不透狀態(tài), 外界場景的紅外能量被光輪所阻隔, 僅有光輪自身輻射能量到達紅外探測器焦平面, 因此, 該區(qū)域材料需選用既能阻隔外界紅外輻射能量, 自身紅外發(fā)射能量也較低的材料, 以區(qū)別區(qū)域(2)接入時的響應狀態(tài), 構(gòu)造相對低溫點。 探測器隨著光輪的旋轉(zhuǎn)切換不同的工作狀態(tài), 當處于區(qū)域(2)、 區(qū)域(3)時, 探測器進入實時非均勻性校正狀態(tài)。 圖3(b)是帶光輪的光學系統(tǒng)示意圖。

      對于光輪的離焦區(qū)域(2), 采用模糊濾光片對外界紅外能量進行發(fā)散。 模糊濾光片采用由一種復合材料制成, 其表面是一組微透鏡陣列結(jié)構(gòu), 微透鏡將入射紅外輻射的聚焦點移位, 從整體來看, 微透鏡陣列將入射輻射的每一束能量打散, 使其均勻地分布在探測器焦平面上, 來模擬探測器黑體標定狀態(tài)下的能量均勻輸入。

      微透鏡表面首選的是部分球面, 但不是必須為半球面, 曲率半徑和深度是濾光片的加工參數(shù), 圖4是模糊濾光片的一種實現(xiàn)方式, 在基底的正反兩面都安裝了微透鏡陣列, 微透鏡陣列的參數(shù)可以是相同的, 也可以是不同的[11]。 圖5為六邊形微透鏡陣列示意圖[12], 假設理想狀態(tài)情況下, 微透鏡的紅外透過率為1, 當微透鏡陣列接入光路時, 光學系統(tǒng)在這種狀態(tài)焦點在無限遠處, 入瞳的每一束紅外能量被微透鏡陣列打散, 均勻分布在紅外探測器整個焦平面上, 且忽略邊緣能量溢出損失, 此時焦平面不成像。

      本文所設計的新型實時兩點校正法是利用光輪裝置, 在區(qū)域(2)和區(qū)域(3)之間進行切換, 利用外界場景的紅外能量, 結(jié)合光輪裝置, 改變探測器的響應狀態(tài)。 區(qū)域(2)接入模擬相對高溫黑體標定狀態(tài), 區(qū)域(3)接入模擬相對低溫黑體標定狀態(tài), 以達到實時的兩點非均勻性校正效果。

      此外, 該方法主要致力于解決非均勻性校正中探測器響應非線性和探測器工作狀態(tài)漂移兩大問題。 當外界場景較為復雜且變化劇烈, 探測器工作狀態(tài)發(fā)生改變時, 此時原有的非均勻性標定參數(shù)已無法適應當前的工作狀態(tài), 需要實時對探測器的非均勻性參數(shù)進行標定以應對當前場景, 本文所提方法適用此類情況。

      2.2 仿真計算

      當搭載紅外成像探測系統(tǒng)的飛行器在大氣層內(nèi)高速飛行時, 頭罩窗口周圍的來流經(jīng)過氣動加熱, 形成了溫度極高的激波流場, 同時也使頭罩本身溫度急劇升高, 因此激波與頭罩將產(chǎn)生極強的背景紅外輻射, 嚴重時可以使探測器迅速飽和, 無法接受目標產(chǎn)生的紅外輻射能量, 大大降低了紅外成像系統(tǒng)的探測能力, 這種物理效應稱為氣動熱輻射效應[13]。

      以導彈在大氣中高速飛行, 氣動熱輻射條件下為仿真環(huán)境, 利用氣動熱提供的紅外輻射能量構(gòu)建兩點校正的相對高溫點, 對該方法進行仿真驗證。 設置紅外探測系統(tǒng)仿真參數(shù)。 紅外探測器響應波段: 3~5? μm; 探測元尺寸: 50 μm×50 μm;? 探測器單元數(shù): 128×128=16 384; 焦平面面積: 2.5×10-9 m2×16 384=4.096×10-5 m2; F數(shù): 2; 橫向視場: 5°; 縱向視場: 5°; 通光口徑: 36.5 mm。

      當系統(tǒng)光輪在區(qū)域(2)和區(qū)域(3)之間進行切換時, 即為探測系統(tǒng)自適應非均勻性校正階段, 當光輪的區(qū)域(2)接入光路中時, 氣動熱紅外輻射能量經(jīng)過微透鏡陣列進行均勻發(fā)散, 作用于紅外焦平面上, 引起焦平面探測器的響應, 相當于兩點校正中的“相對高溫黑體”標定; 同理, 當光輪的區(qū)域(3)接入光路中時, 外界場景及目標的紅外輻射能量由于區(qū)域(3)的阻擋, 無法到達紅外焦平面, 此時只有光輪自身輻射能量作用于紅外焦平面, 則相當于兩點校正中的“相對低溫黑體”標定。

      假設飛行器在高度10 km的大氣中, 以馬赫數(shù)4高速飛行, 對飛行器飛行彈道的某點進行仿真計算, 得出10 km高空大氣的溫度為226.50 K, 壓強為28 584 Pa, 密度為0.439 66 kg/m3。 圖6為氣動熱環(huán)境下飛行器紅外導引頭示意圖。

      2.2.1 相對低溫標定點p1

      當不透區(qū)域(3)接入光路, 該區(qū)域處的材料采用樹脂/金屬涂層構(gòu)造較低紅外發(fā)射率的材料[14]。 本文采用以聚氨酯為粘合劑、 以鋁粉為填料制備的涂層, 紅外發(fā)射率可低至0.2左右, 即ε=0.2。 由于氧化鋁為黑色, 對紅外能量有很大阻隔作用。 因此, 該涂層滿足低紅外發(fā)射率、 低紅外透過率的要求, 理想狀態(tài)下, 認為該涂層的紅外透過率為0。 這樣, 可以將區(qū)域(3)的不透涂層等效為溫度300 K、 紅外發(fā)射率為0.2的面輻射源, 輻射示意圖如圖7所示。

      根據(jù)普朗克輻射定律, 輻射亮度與物體溫度的關(guān)系為

      Loú=∫λ2λ1c1λ-5π(ec2λT-1)dλ(14)

      式中: c1為第一輻射常數(shù); c2為第二輻射常數(shù)。

      根據(jù)紅外輻射傳播理論, 以圖7等效黑體面輻射為例。 首先, 在圖7的等效黑體面上截取一個微面元, 該微面元為圓環(huán)狀, 計算出該圓環(huán)微面元在探測器焦平面上產(chǎn)生的紅外輻射輻照度, 再對整個等效黑體面進行積分, 從而得到整個等效黑體面在探測器上的總輻照度, 即可得到等效黑體面的輻射到達探測器上的輻照度, 即

      E=πεL黑4F2(15)

      式中: L黑為等效黑體面輻射亮度; ε為黑體輻射率; F為光學系統(tǒng)F數(shù)。

      經(jīng)計算, 300 K等效黑體在3~5 μm波段內(nèi)的輻射亮度L2=1.854 8 W/(m2·Sr)。 將結(jié)果代入式(15), 即可得理想狀態(tài)下, 區(qū)域(3)涂層300 K等效黑體面的輻射到達探測器上的輻照度, 即

      E=πεL黑4F2=3.14×0.2×1.854 84×4=

      7.28×10-2 W/m2(16)

      則每個探測器單元接收到的輻射功率為

      p1=E×S=1.82×10-10 W(17)

      式中: p1為低溫等效黑體標定點。

      2.2.2 相對高溫標定點p2

      當離焦區(qū)域(2)接入光路, 首先需要計算氣動熱輻射在進入光路前的總能量(激波和頭罩輻射到達主鏡面的總能量)。 由文獻[15], 不考慮激波流場和光學頭罩本身輻射之間的耦合效應, 計算由光學頭罩上發(fā)出的任意光線的能量, 對光學頭罩以及激波輻射亮度求和可得氣動熱輻射亮度, 即

      I(O0, φ)=k(1-ρ)u(1-ρ2e-2kud)n2∫d0Ibm(x)[ρeku(x-2d)+

      e-kux]dx+∑Ni=0(1-ρ)

      ρ2i(e-kud)2i+1Li(18)

      式中: 等號右邊前部分為光學頭罩輻射亮度, 后半部分為激波的入射輻射亮度; Ibm為與頭罩內(nèi)光學厚度x處溫度相同的黑體輻射亮度; k為介質(zhì)的吸收系數(shù); n為介質(zhì)的折射率; d為頭罩的光學厚度; p為介質(zhì)內(nèi)表面的反射率; Li為外表面輻射亮度。 式(18)是建立在頭罩為半透明平板的基礎上, 對于半球形頭罩來說, 外流場高溫氣體輻射亮度的各向異性, 需要在半透明平板基礎上進行拓展, 得出

      I(O0, (α, β))=k(1-ρ)u1-ρ2e-2kudn2∫d0Ibm(x)[ρeku(x-2d)+

      e-kux]dx+∑Ni=0(1-ρ)ρ2i(e-kud)2i+1Li(19)

      式中: Li與立體角(α, β)緊密相關(guān), 隨入射立體角(α, β)變化而變化。 可以通過立體角(α, β)和落點O0得到激波入射頭罩的準確位置, 從而計算得出整個氣動熱輻射能量[16]。

      圖8為飛行高度10 km、 馬赫數(shù)4時到達飛行器紅外探測系統(tǒng)主鏡面上的輻射照度值[17]。

      通過對整個鏡面進行積分計算可得, 氣動熱輻射到達鏡面上的總功率為p氣=1.949 6×10-5 W。 考慮到理想狀況下, 當紅外輻射能量通過離焦區(qū)域(2)的微透鏡陣列, 被均勻打散, 每一束紅外能量都可以均勻分布在整個探測器焦平面上(忽略邊緣能量損失以及探測單元間隙), 可得每一個探測器單元上的能量分布為

      p2=p氣n×n=1.949 6×10-5128×128=1.19×10-9 W(20)

      式中: p2即為相對高溫等效黑體標定點。

      2.2.3 實時標定

      通過在光路中接入?yún)^(qū)域(2)和區(qū)域(3)得到兩個標定點p1和p2, 再根據(jù)p1和p2及探測器的實際輸出x1和x2, 按照傳統(tǒng)的兩點校正法對增益調(diào)節(jié)因子a和偏置調(diào)節(jié)因子b進行標定即可。

      經(jīng)驗算, 相對高溫點p1相當于308 K等效黑體作用的輻射功率; 相對低溫點p2相當于263 K等效黑體作用的輻射功率。 因此, 本方法基本符合非均勻性校正兩點法標定的實際情況。

      3 結(jié)? 論

      本文所提方法以兩點校正法為基礎, 添加新型光輪裝置, 實現(xiàn)了復雜環(huán)境下紅外探測器非均勻性的實時校正。 當探測器所處環(huán)境發(fā)生劇烈變化、 探測器工作點發(fā)生偏移、 固有參數(shù)需要實時調(diào)整時, 可采用本文方法對探測器的非均勻性進行實時校正。 光輪的設置, 通過改變外界輻射到達探測器能量的大小, 改變探測器的響應狀態(tài), 從而模擬一高一低的探測器工作溫度點, 進而得到傳統(tǒng)兩點校正法的標定環(huán)境; 微透鏡組的設置將外界能量打散, 均勻分布至紅外焦平面上, 模擬黑體標定時的均勻輻射能量。 由于該方法所利用的外界能量本身即是當前場景的能量, 校正中的p2(高溫點)即是探測器的當前工作點, 因此本文所提方法的非均勻性校正是在探測器當前工作狀態(tài)附近的一小段進行校正, 有效避開了探測器響應的非線性問題。 此外, 傳統(tǒng)的基于場景的校正方法需要對多幀圖像進行處理, 收斂速度較慢, 不能很好地滿足實時性的要求。 本文方法只需對當前幀圖像進行一次校正即可, 無需考慮收斂速度問題, 同時, 本文方法通過實時性的校正有效解決了探測器漂移問題, 避免了探測器在使用過程中頻繁標定的麻煩。

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      A New Real-Time Two-Point Non-Uniformity Correction Method

      Guan Tonghui , Zhang Tonghe

      (China Airborne Missile Academy, Luoyang 471009, China)

      Abstract: A new real-time two-point non-uniformity correction method is proposed to solve the problems of detector response nonlinearity and detector response shift with time. It can make up for the deficiency that the two-point correction method can not be used for on-line real-time correction,? and restrain the influence of the drastic change of working environment on the detector non-uniformity. The correction process of the new method is simulated and theoretically demonstrated for the infrared focal plane detection system in aerodynamic thermal environment. The results show that this method can basically satisfy the actual non-uniformity correction situation in theory,? and can be applied to the complex and changeable detector working environment.

      Key words:? infrared focal plane array;? non-uniformity; two-point correction method; non-linear response;? drift of detector

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