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      硅微粉填料在覆銅板中的應(yīng)用及發(fā)展趨勢(shì)

      2022-09-21 05:59:26
      印制電路信息 2022年8期
      關(guān)鍵詞:硅微粉銅箔無機(jī)

      鄭 鑫

      (廣東鼎泰高科技術(shù)股份有限公司,廣東 東莞 523940)

      全球5G市場(chǎng)的增長(zhǎng)和電子產(chǎn)品微型化、多功能化的發(fā)展趨勢(shì)對(duì)印制電路板(Printed Circuit Board,PCB)提出輕薄化、高集成化和高功能化的需求[1]。覆銅箔層壓板(Copper Clad Laminate,CCL),簡(jiǎn)稱覆銅板,作為生產(chǎn)印制電路板的一種原材料也面臨著更嚴(yán)格的要求。對(duì)于CCL而言,需要具備高玻璃化溫度、高模量及低熱膨脹系數(shù)、低的介電常數(shù)及介質(zhì)損耗等來提高電子電路互聯(lián)與安裝的可靠性,滿足信號(hào)傳輸高頻化和高速化的發(fā)展要求[2]。

      樹脂、銅箔、玻璃纖維布作為CCL的三大主要原材料。其中,樹脂由于其黏結(jié)性強(qiáng)、良好的電氣絕緣性及耐化學(xué)腐蝕性等優(yōu)良的性能被廣泛應(yīng)用于CCL行業(yè)中[3];玻璃纖維布作為樹脂的支撐材料,具有補(bǔ)強(qiáng)作用;銅箔具有導(dǎo)通電路的作用[4]。隨著CCL應(yīng)用領(lǐng)域的不斷擴(kuò)展,單純的優(yōu)化三大基礎(chǔ)材料已不能滿足對(duì)CCL不斷提高的性能要求。這些日新月異的高性能要求有部分是通過在樹脂中添加無機(jī)填料來實(shí)現(xiàn)的,所以無機(jī)填料的地位越來越突出,已成為CCL生產(chǎn)制造中的第四大主要原材料[5]。

      在CCL的生產(chǎn)制造過程中,通過在樹脂中添加無機(jī)填料可以降低CCL的生產(chǎn)成本;可以改變CCL絕緣層的顏色;可以改善CCL的性能和功能;還可以改善CCL的生產(chǎn)工藝性[6]。

      目前,在CCL中應(yīng)用的無機(jī)填料主要有以下幾種:ATH(氫氧化鋁)、滑石粉、硅微粉、高嶺土、碳酸鈣、 鈦白粉、絕緣性晶須、鉬酸鋅包覆的無機(jī)填料、層狀黏土礦物質(zhì)等[7]。其中,被報(bào)道最多的無機(jī)填料是硅微粉。

      1 硅微粉的制備

      二氧化硅(SiO2)有晶體和無定形非晶體兩種形態(tài),所以SiO2微粉包含晶體狀態(tài)和非晶體狀態(tài)。在SiO2晶體中, 每個(gè)硅原子被相鄰的4個(gè)氧原子包圍, 處于4個(gè)O原子中心, 以共價(jià)鍵跟這4個(gè)氧原子結(jié)合, 形成以硅氧四面體為基本結(jié)構(gòu)的立體網(wǎng)狀結(jié)構(gòu)。SiO2晶體結(jié)構(gòu)如圖1所示。

      SiO2微粉,簡(jiǎn)稱硅微粉,也被中國臺(tái)灣CCL廠商稱為“白色矽砂”[8],是由天然石英或熔融石英經(jīng)破碎、球磨(或振動(dòng)、氣流磨)、浮選、酸洗提純、高純水處理等多道工藝加工而成的微粉[9],其化學(xué)成分如表1所示。

      表1 硅微粉的化學(xué)成分[10]

      2 硅微粉填料的特性與分類

      作為無機(jī)填料被廣泛應(yīng)用于CCL行業(yè)的硅微粉,從分子結(jié)構(gòu)上可分為熔融型、結(jié)晶形和復(fù)合型三類;從粉體顆粒形貌上,可分為角形和球形兩類[11]。與角形硅微粉相比,球形硅微粉在填充性、熱膨脹性、磨損性等方面均具有較大的優(yōu)勢(shì)[11]。不同類型硅微粉的物理特性對(duì)比見表2所示。

      表2 四類硅微粉的物理特性[12][12]

      硅微粉作為無機(jī)填料在CCL中被廣泛應(yīng)用,主要是因?yàn)樗母邿岱€(wěn)定性(熔點(diǎn)約1700 ℃以上)、良好的介電性能(介電常數(shù)低于氫氧化鋁、滑石粉、E-玻璃纖維等)、微小的平均粒徑以及較低的吸水性、耐酸堿性和耐磨性等;而硬度偏高,有的品種(如球形硅微粉等)價(jià)格偏高則是它的不足之處[12][9]。

      3 硅微粉填料的應(yīng)用現(xiàn)狀

      硅微粉填料的應(yīng)用現(xiàn)狀可以歸納為以下五個(gè)方面。

      3.1 以板材性能為導(dǎo)向,以硅微粉填料為實(shí)現(xiàn)方式的研究方向

      電子產(chǎn)品的飛速迭代對(duì)PCB板材提出了更高的性能要求,硅微粉填料作為功能填料對(duì)覆銅板多項(xiàng)性能具有改善作用,還能降低生產(chǎn)制造成本,越來越受到關(guān)注和廣泛應(yīng)用。

      據(jù)報(bào)道,日立化成公司[9]在硅微粉填料的應(yīng)用上開展了多項(xiàng)研究,包括提高板的鉆孔精度;提高板的尺寸穩(wěn)定性;提高板的耐熱性、剝離強(qiáng)度和改善薄板沖孔加工性。京瓷化學(xué)公司[9]、住友電木公司[9]都研究了硅微粉填料在解決CCL熱膨脹率大的問題上的應(yīng)用。

      3.2 粒徑與分級(jí)填充

      填料在應(yīng)用過程中其粒徑是大小不等的,對(duì)填料顆粒有兩個(gè)重要指標(biāo),一是平均粒徑,二是粒徑分布[9]。研究表明,填料的平均粒徑和粒徑分布的范圍對(duì)填充效果和板材的綜合性能都有著非常重要的影響。

      據(jù)報(bào)道,松下電工公司發(fā)現(xiàn)在CCL樹脂中加入平均粒徑0.05 μm~10.0 μm的球形硅微粉,可改善基板在機(jī)械沖擊時(shí)的耐裂紋性,降低板的吸濕性等。松下電工公司提出,采用超過10 μm平均粒徑的硅微粉,所制成的CCL在電氣絕緣性上會(huì)降低[14]。京瓷化學(xué)公司提出,所用的熔融硅微粉的平均粒徑在0.05 μm~2 μm范圍內(nèi),其中最大粒徑不超過10 μm,這樣才能保證樹脂組成物的流動(dòng)性良好[14]。日立化成公司提出,熔融硅微粉的平均粒徑在0.5 μm以上可以降低硅微粉在樹脂中的凝聚;此外,還提出從提高耐熱性與銅箔黏接強(qiáng)度考慮,合成硅微粉的平均粒徑在1 μm~5 μm范圍為宜;而從鉆孔加工性提高的角度考慮,選擇平均粒徑在0.4 μm~0.7 μm更為適合[14]。

      3.3 球形硅微粉的制備與應(yīng)用

      球形二氧化硅的制備方法有:高頻等離子體法、直流等離子體法、碳極電弧法、氣體燃燒火焰法、高溫熔融噴霧造粒法以及化學(xué)合成法等,其中最具有工業(yè)化應(yīng)用前景的制備方法是氣體燃燒火焰法[13]。

      二氧化硅的形狀直接影響其填充量的多少。與角形二氧化硅相比,球形二氧化硅具有更高的堆積密度和均勻的應(yīng)力分布,因此可以增加體系的流動(dòng)性,降低體系的黏度,而且還具有較大的表面積[14]。

      據(jù)報(bào)道,黃偉壯[15]等研究了不同類型的硅微粉在改善CCL耐熱性上的差異,發(fā)現(xiàn)球形硅微粉相較于無定型硅微粉、類球形結(jié)晶型硅微粉能夠更好地改善CCL的耐熱性。

      3.4 以硅微粉為主的填料的高填充量技術(shù)

      填料用量過低會(huì)導(dǎo)致性能不能滿足要求[15],但隨著填充量的增多,體系黏度會(huì)急劇增加,材料的流動(dòng)性、滲透性變差,球形硅微粉在樹脂中分散困難,易出現(xiàn)團(tuán)聚[16][17]。

      據(jù)報(bào)道,日立化成公司[14]和松下電工公司[14]都研究了以硅微粉為主的填料的高填充量技術(shù),期望解決所遇到的填料凝集、沉淀,從而造成樹脂黏度增大、流動(dòng)性差、成形加工中不均勻分布的問題。

      3.5 表面處理技術(shù)

      填料表面處理技術(shù),就是在填料表面包覆一層不同性質(zhì)的有機(jī)物[18]。通過表面處理改性,可以減小球形硅微粉之間的相互作用,有效防止團(tuán)聚,降低整個(gè)體系的黏度,改善體系的流動(dòng)性,還可以增強(qiáng)球形硅微粉與PTFE(聚四氟乙烯)樹脂基體的相容性,使顆粒在膠水中均勻分散[i18]。

      據(jù)報(bào)道,三菱瓦斯化學(xué)公司則是研究了硅微粉表面處理技術(shù),通過這項(xiàng)技術(shù),可實(shí)現(xiàn)環(huán)氧改性氰酸酯樹脂—玻纖布基CCL的銅箔與樹脂絕緣層黏接性的提高。楊珂珂[19]等研究了球形硅微粉的表面改性技術(shù),發(fā)現(xiàn)改性球形硅微粉具有更好的耐熱性和應(yīng)用性能。

      4 硅微粉填料的發(fā)展趨勢(shì)

      未來,球形硅微粉的制備技術(shù),高填充技術(shù)以及表面處理技術(shù)仍然會(huì)是硅微粉填料的重要發(fā)展方向。研究球形硅微粉的制備技術(shù)用以降低生產(chǎn)成本,使其被更加廣泛地應(yīng)用。當(dāng)填充量不足以滿足越來越高的性能需求時(shí),對(duì)高填充技術(shù)的研究勢(shì)在必行。表面處理技術(shù)在整個(gè)CCL用無機(jī)填料領(lǐng)域都至關(guān)重要,現(xiàn)階段研究和應(yīng)用的各種偶聯(lián)劑,均能在一定程度上提高性能,但仍有很大的空間。

      此外,CCL用無機(jī)填料也會(huì)由單一填料的應(yīng)用走向混合填料的研究和應(yīng)用,以期望能同時(shí)提升CCL的多項(xiàng)性能。

      5 總結(jié)

      CCL用無機(jī)填料的研究與應(yīng)用已經(jīng)進(jìn)入到一個(gè)百花齊放的時(shí)期,隨著5G的普及和電子產(chǎn)品微型化、多功能化的發(fā)展趨勢(shì),無機(jī)填料必然會(huì)在其中承擔(dān)越來越多、越來越重要的責(zé)任。

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