鄒定明 陸永平 金立奎 曾祥剛 李 偉
(珠海方正科技高密電子有限公司,廣東 珠海 519179)
某公司交付客戶12 層高密度互連(high density interconnector,HDI)板,客戶反饋剝離強(qiáng)度不能達(dá)到要求(≥1.05 N/mm),實(shí)際值最小為1.009 N/mm。針對(duì)此異常,公司內(nèi)需深入研究,找出影響剝離強(qiáng)度的因子,并根據(jù)測(cè)試結(jié)果,重新制定最佳方案,保證后續(xù)產(chǎn)品剝離強(qiáng)度達(dá)到客戶要求。研究重點(diǎn)在于銅箔類(lèi)型和壓合條件的影響。
實(shí)驗(yàn)板設(shè)計(jì)為4 層高密度互連(high density interconnector,HDI)板,厚度0.5 mm,如圖1 所示。具體流程如圖2所示,其中,AOI為自動(dòng)化光學(xué)檢測(cè)(automated optical inspection)。
圖1 實(shí)驗(yàn)板疊構(gòu)
圖2 實(shí)驗(yàn)板流程設(shè)計(jì)
采用掃描電子顯微鏡(scanning electronic microscope,SEM)(日立,型號(hào)S-3400N)分別測(cè)量4 種銅箔,其表面粗糙度結(jié)果見(jiàn)表1。由表1 可見(jiàn),A型銅箔粗糙度最大,其次為C型,B、D型銅箔粗糙度較小。
表1 SEM對(duì)比銅箔表面粗糙度
采用SEM 進(jìn)行能譜(energy dispersive spectroscopy,EDS)元素分析,結(jié)果如圖3 和表2所示。由表2 可知,4 種銅箔元素含量差異不大,因此可排除元素問(wèn)題。
表2 元素質(zhì)量百分比
圖3 銅箔元素EDS分析
采用3D 測(cè)量激光顯微鏡(奧林巴斯,型號(hào)OLS4100),進(jìn)行銅箔粗糙度量測(cè),數(shù)據(jù)見(jiàn)表3。由表3 可見(jiàn),A、C 型2 種銅箔粗糙度較好,B、D型2種銅箔粗糙度較差。
表3 4種銅箔粗糙度數(shù)據(jù) 單位:μm
銅厚電鍍加厚至22~27 μm,取樣方式為每面5 個(gè)點(diǎn)(四角+中心),實(shí)際剝離強(qiáng)度結(jié)果見(jiàn) 表4。由表4 可見(jiàn),A、C 型2 種銅箔剝離強(qiáng)度達(dá)1.05 N/mm 以上,B、D 型2 種銅箔出現(xiàn)個(gè)別點(diǎn)不合格。
表4 不同銅箔剝離強(qiáng)度量測(cè)數(shù)據(jù) 單位:N·mm-1
壓機(jī)剝離強(qiáng)度對(duì)比見(jiàn)表5。由表5 可見(jiàn),不同壓機(jī)剝離強(qiáng)度差異不大。
表5 不同壓機(jī)剝離強(qiáng)度量測(cè)數(shù)據(jù)單位:N·mm-1
壓機(jī)整體共疊在制板15 塊,取樣上、中、下各1 塊,測(cè)量數(shù)據(jù)見(jiàn)表6。由表6 可見(jiàn),同一壓機(jī)同開(kāi)檔不同層別位置的剝離強(qiáng)度差異不大。
表6 不同壓機(jī)開(kāi)檔位置剝離強(qiáng)度量測(cè)數(shù)據(jù) 單位:N·mm-1
銅箔拉力條下,100%殘銅率與65%殘銅率的剝離強(qiáng)度量測(cè)數(shù)據(jù)見(jiàn)表7。由表7 可見(jiàn),兩者相差0.35 N/mm,且拉力條下65%殘銅率剝離強(qiáng)度不穩(wěn)定。
表7 不同銅箔拉力條下殘銅率剝離強(qiáng)度量測(cè)數(shù)據(jù) 單位:N·mm
HDI 板銅箔剝離強(qiáng)度與銅箔本身材料、設(shè)計(jì)相關(guān)。根據(jù)綜合測(cè)試結(jié)果,選擇A 銅箔,在銅箔拉力位置內(nèi)層設(shè)計(jì)為實(shí)銅,有效解決了剝離強(qiáng)度不足的問(wèn)題,滿足客戶需求,提升制程能力,為后續(xù)其他產(chǎn)品在涉及銅箔粗糙度及設(shè)計(jì)銅牙大小方面提供了技術(shù)性支持。在高速PCB 產(chǎn)品的生產(chǎn)過(guò)程中需要嚴(yán)格管控銅箔粗糙度,粗糙度越大對(duì)信號(hào)傳輸?shù)膿p耗也越大。對(duì)信號(hào)傳輸要求較高的產(chǎn)品,內(nèi)層一般使用低粗糙度銅箔及低粗糙度藥水,外層使用粗糙度較高的銅箔,提升表面元器件焊盤(pán)結(jié)合力。