韓 亮 寧 濤 李 想 趙玉清
摘要:利用永磁鐵結構的偏轉聚焦系統(tǒng)產(chǎn)生的非均勻磁場,改進了目前e型電子槍電子束偏轉聚焦特性,同時縮小了槍體體積,減小了功耗,采用邊界元法與等效磁荷法,模擬了偏轉聚焦系統(tǒng)的非均勻磁場,再利用龍格一庫塔法模擬出電子在該系統(tǒng)中的運動軌跡,為獲得良好的聚焦特性,電子發(fā)射速度和發(fā)射位置應進行優(yōu)化選擇,同時電子束保持水平出射,研究結果表明:電子槍陽極板端點與陰極燈絲中心點保持水平可滿足電子水平出射;非均勻分布的磁場對e型電子槍中電子束具有良好的聚焦作用;所設計的偏轉聚焦系統(tǒng)在電子束流為50~100mA時,束斑小于3mm,