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      電子調(diào)強放射治療中多葉準(zhǔn)直器的研究

      2010-03-24 05:34:00王麗艷勾成俊吳章文
      核技術(shù) 2010年9期
      關(guān)鍵詞:電子束端面寬度

      李 敏 王麗艷 勾成俊 吳章文 侯 氫

      (四川大學(xué)原子核科學(xué)技術(shù)研究所,輻射物理及技術(shù)教育部重點實驗室 成都 610064)

      X光調(diào)強治療[1,2](intensity modulated radiation therapy, IMRT)已獲廣泛應(yīng)用,它可大大減少射線對正常組織或器官的傷害,治療效果明顯好于傳統(tǒng)放療技術(shù)。但光子的穿透能力強,治療乳腺癌、頭頸部腫瘤等淺表腫瘤宜用電子束治療,為達(dá)到所需復(fù)雜劑量分布的較好適形效果,宜利用IMRT設(shè)備進行電子調(diào)強治療[3–5](modulated electron radiation therapy, MERT)。在某一深度上的劑量要求可通過電子束強度優(yōu)化和電子束能量調(diào)節(jié)得到。但IMRT光子多葉準(zhǔn)直器PMLC(photon multileaf collimator)不復(fù)適用,應(yīng)使用電子多葉準(zhǔn)直器EMLC[6–8](electron multileaf collimator),且其葉片材料和幾何形狀應(yīng)作優(yōu)化。圖1是Varian公司2100C直線加速器治療機頭結(jié)構(gòu)的示意圖[7,9]。本文通過模擬計算對 EMLC葉片的材料、尺寸和形狀作優(yōu)化設(shè)計。

      1 材料與方法

      1.1 模擬方法

      本文用PENELOPE[10](PENetration and Energy Loss of Positrons and Electrons)程序包模擬計算。PENELOPE是用FORTRAN 77語言編寫的用于光子和電子輸運的蒙特卡洛程序包,由三個主要程序和一個數(shù)據(jù)庫組成。程序包包括模擬程序包(主程序)、幾何程序包(描述介質(zhì)問題)和材料程序包(MATERIAL程序和若干相關(guān)子程序)。通過PENELOPE可模擬計算電子、正電子和光子在任意物質(zhì)、任意幾何體(包括有二次曲面的復(fù)雜幾何體)中的穿透行為和能量損失等。

      圖1 瓦里安2100C直線加速器治療機頭結(jié)構(gòu)Fig.1 Schematic of a Varian Clinac 2100C treatment head.

      1.2 EMLC葉片的材料與厚度

      EMLC模擬計算的葉片材料為Pb、W、Cu和Fe[11,12],電子束能量為6、14和22 MeV。先計算開野(無阻擋材料)時,三種能量電子束在水中的中心軸深度劑量分布,再對1–2 cm厚度區(qū)間的Pb、W、Cu和Fe材料,計算每種能量的電子束穿越每0.25 cm材料后的中心軸深度劑量分布。材料選擇原則是射線漏射比例,漏射包括穿過材料的剩余電子和電子在材料中產(chǎn)生的軔致輻射和次級電子。起始電子數(shù)均為 3×107。水體模中心軸記錄能量的體積元大小為0.2 cm×0.2 cm×0.2 cm。

      1.3 EMLC葉片端面的形狀

      EMLC葉片端面形狀如圖2有直立端面、斜端面和弧形端面。直立端面平行于電子束中心軸,斜端面偏離電子束中心軸3.75°,弧形端面半徑為1.5 cm。電子束能量為6、12和20 MeV,射野10 cm×10 cm,起始電子數(shù)均為 1.5×107。決定端面形狀優(yōu)劣的重要依據(jù)是射野邊緣處劑量分布的半影。水體模記錄能量的體積元大小為0.1 cm×0.1 cm×0.1 cm。

      圖2 EMLC葉片端面形狀 (a) 直立端面 (b) 3.75°斜面 (c) 半徑1.5 cm的圓柱弧形端面Fig.2 Geometry of the EMLC leaves.(a) Plane (b) 3.75° bevel (c) cylinder arc surface of 1.5-cm radius.

      1.4 EMLC葉片的寬度

      EMLC葉片寬度過寬不利于子野形狀的準(zhǔn)確模擬;過窄,則葉片間難以銜接,且某些單獨突進射野的葉片因背散射而造成子野邊緣劑量增加,對治療不利。因此,參考光子MLC,將0.5和1 cm兩寬度的EMLC作比較選擇。把單個EMLC葉片放入射野中,觀察電子束通過這葉片在水體模的劑量分布情況,比較水體模射野中心軸上某深度處的背散射劑量值。電子束能量同§1.3。均選用10 cm×10 cm射野,起始電子數(shù)1.5×107,水體模記錄能量的體積元大小為0.1 cm×0.1 cm×0.1 cm。

      2 結(jié)果與討論

      2.1 EMLC的材料與厚度

      材料對電子阻擋效果,可由水下某深度處的劑量值作比較,鎢、鉛、銅、鐵對6、14和22 MeV電子束的阻擋效果(水下0.75、2.25和3.25 cm的劑量值與開野劑量比值)與厚度的關(guān)系見圖3。2.0 cm厚的W對電子束的阻擋能力最好。6 MeV時,用2 cm厚W作遮擋材料,水下0.75 cm深度處的劑量是開野時的0.14%,而用Fe、Cu、Pb,該比值分別為0.34%、0.34%和0.30%;14 MeV時,2 cm厚W對應(yīng)水下2.25 cm深度處的劑量是開野時的0.88%,F(xiàn)e、Cu、Pb分別是1.87%、1.91%和1.76%;22 MeV時,2 cm厚W對應(yīng)水下3.25 cm深度處的劑量是開野時的1.98%,F(xiàn)e、Cu、Pb分別是4.28%、4.25%和3.76%。6 MeV時,用1.00、1.25、1.50和1.75 cm厚的同種材料W對應(yīng)水下0.75 cm深度處的劑量分別是開野時的0.39%、0.30%、0.24%和0.18%,隨厚度增加呈明顯下降。同樣14 MeV時,1.00、1.25、1.50、1.75和2.00 cm厚度的W對應(yīng)水下2.25 cm深度處的劑量分別是2.21%、1.75%、1.39%、1.10%和0.88%;22 MeV時,1.00、1.25、1.50、1.75和2.00 cm厚度W對應(yīng)水下3.25 cm深度處的劑量分別是4.78%、3.80%、3.06%、2.44%和1.98%。均表明隨厚度增加W阻擋能力有更好體現(xiàn)。

      圖3 6、14和22 MeV時各種材料對射線的阻擋能力(a) 水下0.75 cm深度處;(b) 水下2.25 cm深度處;(c) 水下3.25 cm深度處Fig.3 Dose ratio at the depths of (a) 0.75 cm, (b) 2.25 cm and (c) 3.25 cm in the water phantom,using W, Pb, Cu and Fe as material of MLC to E-beams of different energies.

      如前所述,選擇材料要看射線漏射比,22 MeV電子束穿過2 cm厚的Fe、Cu、Pb、W材料后的出射電子數(shù)分別為 6.317×104、6.263×104、5.645×104、2.895×104,W產(chǎn)生的漏射最少, Fe產(chǎn)生的漏射電子是W的2.182倍。

      光子穿透能力比電子強很多,圖4是14 MeV電子束經(jīng)2 cm厚Fe、Cu、Pb、W材料后在水中的深度劑量分布。14 MeV電子在水中最大劑量在~4 cm深度處,在8 cm處其大部分能量已沉積,故深于8 cm的劑量主要由光子貢獻。由圖4,電子經(jīng)過W材料產(chǎn)生的軔致輻射影響最小,其次是Pb,然后是Cu和Fe,且影響差別較大。所以這幾種候選材料中,W作EMLC葉片材料最優(yōu),以下計算中只考慮2 cm厚的W作多葉準(zhǔn)直器葉片的情形。

      2.2 EMLC葉片端面的形狀

      觀察電子束通過直立端面、斜端面或弧形端面的EMLC葉片后在水體模中形成的劑量半影[7,13],以比較葉片端面形狀的優(yōu)劣。評價半影大小的指標(biāo)為P80/20,即水下某一深度處80%劑量到20%劑量的寬度。射野為10 cm×10 cm,入射電子束能量為6、12和20 MeV,以分別得到水下0.8、2.0和3.0 cm深度處的平面劑量(圖 5)。此劑量分布系中心軸對稱,僅作一邊的分布比較即可。水下 0.8 cm處(6 MeV入射電子束),直立端面、斜端面和弧形端面的 EMLC對應(yīng)的半影 P80/20分別是 8.2、9.5和 9.1 mm;2 cm處(12 MeV),對應(yīng)的半影P80/20分別是7.8、8.2和8.1 mm;3 cm處(20 MeV),對應(yīng)的半影P80/20分別是7.5、9.6和7.4 mm。可見直立端面的EMLC好于弧型端面,弧型端面的EMLC又好于斜面端面的。且直立端面易于機械加工,是較優(yōu)的EMLC端面形狀選擇。

      圖4 14 MeV能量電子經(jīng)2 cm厚度不同材料后在水中的深度劑量分布Fig.4 Depth dose distribution in the water phantom using 14 MeV E-beam penetrating different materials in 2 cm thickness.

      圖5 直立端面(―)、斜端面(---)和弧形端面(··)的EMLC葉片和不同能量電子束的水下劑量分布Fig.5 Respective doses in the water phantom by 6, 12 and 20 MeV E-beams using EMLC leaves in end shapes of plane (―), 3.75°bevel (---) and r=1.5-cm cylinder arc (··).

      2.3 EMLC葉片的寬度

      葉片周圍電子或散射光子對葉片下對應(yīng)深度處的劑量有影響[14,15], 用 2 cm 厚的直立端面鎢EMLC葉片,葉片寬度0.5和1 cm,電子束能量6和20 MeV,算得的水下0.8和3.0 cm深度處的劑量值見表1。6 MeV時,0.5 cm厚度對應(yīng)水下0.8 cm處的劑量是1 cm厚度的2.78倍;20 MeV時,0.5 cm厚度對應(yīng)水下3.0 cm處的劑量是1 cm厚度的2.21倍;EMLC葉片0.5 cm時,20 MeV對應(yīng)劑量是6 MeV的1.41倍;EMLC葉片1 cm時,20 MeV對應(yīng)劑量是6 MeV的1.12倍。EMLC葉片寬度1 cm比0.5 cm有很大優(yōu)勢,因為葉片較窄時,周圍電子及散射光子對葉片下對應(yīng)深度處的劑量影響更大一些。如果葉片再寬,形成的子野形狀邊緣有較粗的鋸齒結(jié)構(gòu),不利于精確適形,最終確定EMLC葉片的寬度為1 cm。

      表1 0.5與 1 cm寬度葉片和6與20 MeV電子束分別在水下0.8與3.0 cm深度處的劑量值Table 1 The dose of 6 and 20 MeV E-beam at 0.8 and 3.0 cm depths, respectively, in the water phantom with EMLC leaves of 0.5 and 1 cm widths

      3 結(jié)論

      通過用PENELOPE模擬計算,最終選擇2 cm厚度的W作為EMLC葉片的材料,足以擋住絕大部分電子,并產(chǎn)生相對較少的軔致輻射;電子束通過直立端面的 EMLC葉片時相對斜面和弧形端面產(chǎn)生較小的劑量半影,并在射野邊緣時有更好平坦度,所以選擇直立端面作為 EMLC葉片的端面形狀;電子束通過0.5 cm寬度EMLC葉片使射野邊緣的劑量明顯增加,寬度太大又不利于子野形狀的準(zhǔn)確控制,最后選擇1 cm作為EMLC葉片的寬度。這一結(jié)果僅通過理論模擬計算得出,還有待進一步實驗驗證。

      1 Steve Webb.Sutton Surrey(UK): Institute of Physics Publishing, 2001, 298–330

      2 Intensity modulated radiation therapy collaborative working group.Int J Radiat Oncol Biol Phys, 2001, 51(4):880–914

      3 Karlsson M G, Karlsson M, Zackrisson B.Phys Med Biol,1998,43: 1159–1169

      4 Ma C M, Pawlicki T, Lee M, et al.Phys Med Biol, 2000,45: 2293–2311

      5 Gauer T, Albers D, Cremers F, et al.Phys Med Biol, 2006,51: 5987–6003

      6 Karlsson M G, Karlsson M, Ma C M.Med Phys, 1999,26(10): 2161–2167

      7 Deng J, Lee M C, Ma C M.Med Phys, 2002, 29(11):2472–2483

      8 Lee M C, Deng J, Li J S, et al.Phys Med Biol, 2001,46:2177–2199

      9 Vatanen T, Traneus E, Lahtinen T.Phys Med Biol, 2008,53: 391–404

      10 PENELOPE.An algorithm and computer code for Monte Carlo simulation of electron-photon showers, Barcelona,Spain, March 1996

      11 McCaffrey J P, Mainegra-Hing E, Shen H.Med Phys,2009, 36(12): 5586–5594

      12 Vatanen T, Traneus E, Lahtinen T.Phys Med Biol, 2009,54: 2407–2419

      13 Vatanen T, Traneus E, Lahtinen T, et al.Phys Med Biol,2009, 54: 7211–7226

      14 Low D A, Starkschall G, Bujnowski S W, et al.Med Phys,1992, 19: 115–124

      15 Gauer T, Sokoll J, Cremers F, et al.Phys Med Biol, 2008,53: 1071–1085

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