王銀河,陰曉俊,姚春龍,劉新華,戰(zhàn)俊生,朱德金
(沈陽(yáng)儀表科學(xué)研究院 沈陽(yáng)匯博光學(xué)技術(shù)公司,遼寧 沈陽(yáng) 110043)
非球面光學(xué)反光鏡按照面型分類包括橢圓、拋物面、雙曲面等類型,廣泛應(yīng)用于數(shù)字投影系統(tǒng)[1]、冷光源[2]、電影光源[3,4]、照明光源[5]等,其幾何外形結(jié)構(gòu)如圖1所示。其中應(yīng)用于數(shù)字投影系統(tǒng)中的橢球反光鏡,如圖2所示,是一種較為精密的反光鏡元件。實(shí)際加工過程中,需要對(duì)未知橢球曲面方程進(jìn)行重構(gòu)求解,以便進(jìn)行數(shù)據(jù)誤差分析及再加工。曲面重構(gòu)的主要方法是通過采集曲面的坐標(biāo)數(shù)據(jù)信息及數(shù)據(jù)擬合,得到非球面曲面方程。曲面的數(shù)據(jù)采集及擬合一方面有助于光學(xué)系統(tǒng)輔助設(shè)計(jì),另一方面作為制造過程的誤差分析,模擬模型的光學(xué)特性變化,可以提升產(chǎn)品制造精度及性能。
圖1 非球面反光鏡示意圖Fig.1 Schematic of aspherical reflector
圖2 數(shù)字投影系統(tǒng)中非球面反光鏡Fig.2 Spherical reflector in digital projection systerm
非球面反光鏡制造過程主要采用模壓成型及機(jī)械精密研磨成型兩種加工方式。其中,模壓成型方法主要用于小尺寸反光鏡加工,如應(yīng)用于小功率投影機(jī)光源系統(tǒng)的反光鏡;機(jī)械研磨成型加工主要用于大型非球面反光鏡的加工,加工過程也更加復(fù)雜,周期更長(zhǎng)。加工工藝如圖3、圖4所示。在這些精密反光鏡生產(chǎn)的過程中,經(jīng)常要通過精密的測(cè)試和計(jì)算來(lái)提升反光鏡的加工精度,減少制造誤差。非球面反光鏡面形檢測(cè)方法主要有接觸式測(cè)量及非接觸式的測(cè)量。測(cè)量方法包括三坐標(biāo)測(cè)量機(jī)、輪廓儀、樣板測(cè)試、幾何光學(xué)方法、光電方法測(cè)試等。其中三坐標(biāo)測(cè)量機(jī)測(cè)試方法,以其高精度的定量測(cè)量方式已在非球面檢測(cè)領(lǐng)域得到越來(lái)越廣泛的應(yīng)用[6-8],也是非球面反求工程中實(shí)用性好的一種重要方法。
圖3 反光鏡數(shù)控研磨加工示意圖Fig.3 Schematic of reflector grinding with computer numerical control
圖4 反光鏡模壓成型示意圖Fig.4 Schematic of reflector molding
1.2.1 反光鏡測(cè)試檢測(cè)路徑及基準(zhǔn)定標(biāo)
非球面檢測(cè)路徑可采用以下三種方法:子午線法、光柵式檢測(cè)路徑和圓周式檢測(cè)路徑[9]。這里采用子午線方法進(jìn)行測(cè)量。利用測(cè)試設(shè)備測(cè)量一條經(jīng)過軸對(duì)稱光學(xué)元件對(duì)稱軸的子午線,如圖5所示,沿子午線及軸線所在平面剖開橢球形成截面,測(cè)試截面與中心位置的相對(duì)坐標(biāo),如圖6所示,再通過數(shù)學(xué)方法擬合數(shù)據(jù)。使用三坐標(biāo)測(cè)量機(jī)測(cè)試非球面光學(xué)元件須先選擇一個(gè)基準(zhǔn)面,以便進(jìn)行坐標(biāo)變換及數(shù)據(jù)分析。由于在反光鏡加工過程中,上端面與反光鏡中軸垂直,所以選擇上端面作為基準(zhǔn)面比較準(zhǔn)確,如圖6所示。選擇非球面反光鏡上端面作為基準(zhǔn)水平面,沿水平端面測(cè)試反光鏡上端內(nèi)表面不同位置坐標(biāo),再根據(jù)測(cè)試數(shù)據(jù)找到圓心及中軸線。
1.2.2 數(shù)據(jù)采集
沿軸向方向,選擇一個(gè)軸截面作為測(cè)試平面,用三坐標(biāo)測(cè)試機(jī)測(cè)量截面的位置坐標(biāo)。測(cè)試坐標(biāo)的中心選擇在上端面中心,測(cè)試過程采集足夠的數(shù)據(jù)點(diǎn),一般根據(jù)反光鏡大小采集200~300個(gè)坐標(biāo)點(diǎn)即可。由于測(cè)試曲面為未知曲面,因此測(cè)試坐標(biāo)點(diǎn)均為相對(duì)空間坐標(biāo)。
圖5 橢球的子午線式測(cè)量檢測(cè)路徑Fig.5 The meridian measurement path of ellipsoid test
圖6 反光鏡三坐標(biāo)測(cè)試示意圖Fig.6 Schematic of reflector test with CMM
由于測(cè)試的數(shù)據(jù)均為相對(duì)位置坐標(biāo),須根據(jù)測(cè)試中的空間位置關(guān)系,轉(zhuǎn)換為接近于曲面方程坐標(biāo)系下坐標(biāo)點(diǎn)(xi,yi,zi),再根據(jù)測(cè)試的數(shù)據(jù)建立坐標(biāo)系,采用三維繪圖軟件重構(gòu)圖形如圖7所示。
曲線擬合:基于最小二乘的數(shù)學(xué)擬合方法在實(shí)際計(jì)算中應(yīng)用較多[10-12]。高斯—牛頓算法最小二乘擬合[13,14]的出發(fā)點(diǎn)就是 先通過模型進(jìn)行線性近似,求出近似模型的最小二乘估計(jì),然后再進(jìn)行迭代程序。利用泰勒基數(shù)展開近似非線性方程,將其表示成線性形式,計(jì)算出參數(shù)沿著殘差減小方向上的新估測(cè)值。
設(shè)有t個(gè)回歸因子和n個(gè)待定系數(shù)B,則非線性模型表示為:
圖7 根據(jù)坐標(biāo)點(diǎn)三維模型重構(gòu)Fig.7 3-D model reconstruction based on the coordinates
在參數(shù)擬合計(jì)算中,通過測(cè)量數(shù)據(jù)點(diǎn)(xj,yj)來(lái)估計(jì)待定系數(shù)bi(i=1,2,…,n),把現(xiàn)有的回歸模型參數(shù)b0i作為近似值,將最優(yōu)bi與b0i的差值記為Δbi,這樣參數(shù)bj的優(yōu)化問題就轉(zhuǎn)化為確定修正因子Δbi即
B0按照泰勒級(jí)數(shù)展開并取其一次項(xiàng),并按照未知數(shù)Δbi合并同類項(xiàng),得到新方程組[14],解此方程可求的參數(shù)的修正值為Δbj,再由式(2)得到修正值。需要經(jīng)過多次迭代計(jì)算,使Δbj趨近于零。按照橢圓曲線方程編制程序進(jìn)行最小二乘數(shù)據(jù)擬合計(jì)算。
利用上述三坐標(biāo)測(cè)試方法采集了一組橢球反光鏡內(nèi)曲面坐標(biāo)點(diǎn)。反光鏡的具體尺寸如下:曲面外徑為173mm,高度為53mm,根據(jù)2.2中最小二乘擬合方法進(jìn)行計(jì)算。通過上述數(shù)據(jù)擬合,計(jì)算得到橢圓方程a=161.47,b=109.44,c=118.72,將坐標(biāo)平移后測(cè)試的坐標(biāo)點(diǎn)轉(zhuǎn)換成標(biāo)準(zhǔn)橢球方程坐標(biāo)系下的數(shù)據(jù),測(cè)試坐標(biāo)點(diǎn)與擬合橢圓曲線如圖8所示。
曲面擬合誤差:通過沿Y方向計(jì)算測(cè)試點(diǎn)坐標(biāo)與標(biāo)準(zhǔn)方程的誤差對(duì)比,如圖9所示,除反光鏡的邊緣位置點(diǎn)出現(xiàn)明顯偏離外,偏差值均在±0.02mm的范圍內(nèi),符合反光鏡測(cè)試及制造精度要求。
將測(cè)試構(gòu)造的反光鏡轉(zhuǎn)換為三維實(shí)體模型,F(xiàn)1、F2分別為第1、2焦點(diǎn),f1、f2為第1、2焦距。進(jìn)行光線追跡,通過光線追跡分析,若構(gòu)造曲面與擬合曲面偏差較小,則在F2焦點(diǎn)處接收光能量具有最高值。參考擬合曲面所得到方程及焦點(diǎn)位置,將光源置于焦點(diǎn)F1處,在F2附近移動(dòng)接收面,通過接收面接收到光線數(shù)量及能量分布變化,分析模型f2誤差,如圖10所示。模擬的設(shè)置如下:f1=42.7mm;f2=280mm,接收面半徑為5mm。通過移動(dòng)接收屏,記錄接收的平均光能量值及入射光線數(shù),尋找最高能量值點(diǎn)坐標(biāo)值,確認(rèn)f2值的偏差。圖11中最高點(diǎn)位置坐標(biāo)為274mm,參考坐標(biāo)為280mm,F(xiàn)2偏差為6mm。
圖8 平移后坐標(biāo)點(diǎn)與擬合曲線Fig.8 Coordinates and fitted equation after shift
圖9 坐標(biāo)點(diǎn)與擬合曲線方程Y方向偏差Fig.9 Deviation of Ybetween coordinates and fitted equation
圖10 光線追跡示意圖Fig.10 Schematic of ray-tracing
圖11 面F2不同位置處接收能量關(guān)系Fig.11 Energy at different locations on F2
利用三坐標(biāo)測(cè)試設(shè)備進(jìn)行反光鏡曲面數(shù)據(jù)采集,采用數(shù)學(xué)擬合的方法得到近似曲面方程。通過對(duì)擬合方程與測(cè)試坐標(biāo)點(diǎn)數(shù)據(jù)的對(duì)比分析,誤差較??;通過對(duì)擬合曲面及測(cè)試坐標(biāo)點(diǎn)重構(gòu)曲面的光線追跡分析,第二焦點(diǎn)雖有較小偏差,但光能量變化不大。采用上述反光鏡測(cè)試擬合方法,對(duì)于提升精密反光鏡加工精度,減少加工誤差,是一種行之有效的方法。
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