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      藍寶石拋光去除率試驗的正交設(shè)計方法

      2012-06-28 02:57:38孫振杰費玖海
      電子工業(yè)專用設(shè)備 2012年4期
      關(guān)鍵詞:拋光液藍寶石型號

      孫振杰,費玖海,劉 濤

      (中國電子科技集團公司第四十五研究所,北京065201)

      在藍寶石拋光過程中,影響拋光效果的因子有很多,比如壓力、轉(zhuǎn)速、拋光時間、拋光液的類型以及拋光墊的型號等,而且每個因子的水平數(shù)也很多,此時如果對這些因子的每個水平可能構(gòu)成的所有組合條件均逐一進行試驗,即進行全因子試驗,試驗次數(shù)就相當(dāng)多。例如考察4個因子,每個因子有3個水平,則進行全面試驗共需進行34=81次試驗;又例如,考察7個因子,每個因子有2個水平,則進行全面試驗共需進行27=128次,可見全因子試驗次數(shù)多,所需費用高,所耗時間長,在實際工作中往往是辦不到的。那么怎樣做到盡量減小試驗規(guī)模,同時保證試驗誤差較小,保證試驗結(jié)果的可靠性呢?正交試驗設(shè)計方法可解決這個難題。

      1 正交試驗

      正交試驗設(shè)計是一種通過部分試驗并分析試驗結(jié)果了解全面試驗情況的一種試驗方法。正交試驗設(shè)計具有試驗次數(shù)少,所安排的試驗點具有代表性以及得到的試驗結(jié)論可靠合理等優(yōu)點。20世紀40年代,正交試驗設(shè)計法首先應(yīng)用于農(nóng)業(yè)中,20世紀50年代推廣到工業(yè)領(lǐng)域,取得了顯著的效果。我國從20世紀60年代開始應(yīng)用這一方法,20世紀70年代得到推廣。

      運用正交試驗法,很重要的一步在于明確試驗?zāi)康?,并根?jù)這個目的選定試驗中需要考察的因子及其水平。基于正交試驗法研究影響藍寶石拋光去除率因子的目的主要是:明確藍寶石拋光工藝中哪些拋光參數(shù)(或拋光條件)對藍寶石拋光去除率影響顯著,并尋找最佳工藝流程和工藝參數(shù),最終使拋光去除率達到3~5 μm/h。

      2 試驗設(shè)計

      2.1 試驗方案

      前面講到進行全因子試驗存在諸多弊端,因此在工程實踐中通常采用加入中心點之后的二水平試驗設(shè)計。由于影響藍寶石拋光去除率的因子較多,通常先采用部分實施因子試驗。其試驗的目的主要是篩選因子,根據(jù)之前的工藝調(diào)研和經(jīng)驗,可能影響藍寶石拋光去除率的因子比較多,主要包括:壓力、轉(zhuǎn)速、時間、拋光液類型、拋光液濃度、拋光液流量及拋光墊型號等,本試驗要從以上眾多因子中篩選出影響拋光去除率的顯著因子。為減小試驗規(guī)模,篩選因子的試驗因子水平一般都取2,并同時加入若干次中心點重復(fù)試驗,在相當(dāng)程度上可以取代三水平的試驗。我們根據(jù)以往藍寶石拋光試驗的經(jīng)驗,確定了試驗各個因素的水平值,如表1所示。

      表1 試驗因子和水平

      2.2 試驗分析

      在整個試驗的分析過程中,按照試驗設(shè)計分析五步法,并通過計算機Minitab軟件進行分析,得出關(guān)于去除率數(shù)據(jù)方差分析結(jié)果如表3所示。

      從ANOVA表中可以清楚地看出:

      1)主效應(yīng)項中,p-value為0.013,表示選定的模型總的效果是顯著有效的;

      2)在彎曲一欄中,p-value為0.065,表示響應(yīng)變量(去除率)沒有明顯的彎曲趨勢;

      3)從各項主效應(yīng)項的顯著性來看,因子壓力、轉(zhuǎn)速、時間和拋光墊型號對應(yīng)的p-value都小于顯著性水平0.05,因此可以判定,這四項是顯著的,而其余各項皆不顯著。另外,從因子效應(yīng)的Pareto圖(如圖1)可以更直觀的看出各因素對去除率的影響主次依次排列為:拋光墊型號>壓力>時間>轉(zhuǎn)速>拋光液流量>拋光液型號>拋光液濃度;而壓力、轉(zhuǎn)速、時間、拋光墊型號為顯著因子(大于 4.30)。

      通過部分因子試驗篩選出了影響拋光去除率的顯著因子:拋光墊型號、壓力、時間和轉(zhuǎn)速;接下來為了尋找顯著因子之間的最佳組合方式,我們將對之前篩選出的顯著因子尋找最佳參數(shù)組合,以達到最優(yōu)的拋光效果。

      按照試驗設(shè)計五步法流程,重新修改擬合模型中的“選項”,即刪除不顯著項后對新的改進模型重新進行分析。再次利用Minitab軟件對去除率數(shù)據(jù)進行方差分析結(jié)果如表4所示。對于刪減后的模型是否比原來有所改進,我們把兩個模型計算的多元全相關(guān)系數(shù)R-Sq和修正的多元全相關(guān)系數(shù)R-Sq(調(diào)整)以及標(biāo)準差的估計量s匯總成表(見表 5)。

      表2 試驗正交表排列

      表3 ANOVA(方差分析)表

      圖1 標(biāo)準化效應(yīng)的Pareto圖

      可以看出,由于模型項數(shù)減小了三項,R-Sq通常都會降低,但關(guān)鍵是看修正的R-Sq(調(diào)整)是否有所提高。本試驗中,R-Sq(調(diào)整)由94.20%提高到98.10%,且刪減模型后R-Sq與R-Sq(調(diào)整)之差減?。籗值由0.24降為0.18,可見刪除不顯著因子之后,模型變好,回歸的效果也更好。

      新模型中各項數(shù)據(jù)沒有明顯異常,可以認為新模型是合理的模型。根據(jù)計算結(jié)果提供的數(shù)值,可以寫出最后確定的回歸方程:Rem=1.481+0.036P+0.013W-0.263T-0.638Pad其中:Rem為去除率;P為壓力;W為轉(zhuǎn)速;T為時間;Pad為拋光墊;(精拋拋光墊 Pad=1,粗拋拋光墊 Pad=-1)。

      表4 刪除不顯著項后的ANOVA(方差分析)表

      表5 全模型與刪減模型效果比較表

      通過Minitab軟件生成因子的主效應(yīng)圖,如圖2所示,從圖中可以看出:壓力、轉(zhuǎn)速、時間和拋光墊型號對于去除率的影響很顯著;而且從圖中還可以看出去除率隨各因素變化的趨勢,在試驗參數(shù)范圍內(nèi),壓力、轉(zhuǎn)速越大,去除率越大;時間越大,去除率越?。粚τ趻伖鈮|類型的影響,精拋拋光墊的去除率更高,粗拋拋光墊的去除率偏低;而拋光液流量、濃度及類型對去除率影響不顯著。

      圖2 去除率主效應(yīng)圖

      通過Minitab優(yōu)化器可求出試驗區(qū)域內(nèi)自動搜尋最優(yōu)解,結(jié)果如下圖3所示。

      圖3 響應(yīng)變量優(yōu)化器輸出結(jié)果圖

      由圖3可知,因子最優(yōu)組合如表6所示。

      表6 因子最佳參數(shù)組合

      本試驗預(yù)計的最優(yōu)結(jié)果是 3.6 μm/h,而3~5 μm/h的去除率就可以滿足基本的工藝使用要求,與實際目標(biāo)很接近,達到目標(biāo)要求。為了確保按最佳條件進行拋光時能獲得預(yù)期效果,在最佳點處經(jīng)過多次現(xiàn)場拋光試驗,結(jié)果表明試驗得到最佳參數(shù)組合進行拋光,實際拋光去除率與分析得到的預(yù)測值(3.6 μm)比較接近,說明以上分析與預(yù)測是準確可靠的。

      3 試驗總結(jié)

      影響藍寶石拋光去除率的因素還有很多,例如:室溫、拋光過程中拋光盤溫度等。該試驗中,根據(jù)經(jīng)驗將這些因素設(shè)定為經(jīng)驗值再進行分析。通過以上分析可以認為,對去除率影響顯著的主要因素有:壓力、轉(zhuǎn)速、時間、拋光墊;而拋光液濃度、流量及類型對去除率影響不顯著,可能是因為本試驗設(shè)置的濃度及流量值,相對拋光過程的化學(xué)反應(yīng)速度而言,已經(jīng)達到飽和,因此提高濃度及流量已經(jīng)對去除率影響不明顯。

      人們常說“設(shè)備研制開始于工藝,用之于工藝”。利用正交試驗的方法科學(xué)的設(shè)計工藝試驗的方案,可以用最小的試驗次數(shù)和試驗成本研究設(shè)備使用的各項工藝參數(shù)對產(chǎn)品質(zhì)量或生產(chǎn)效率的影響,并得到合理近似的數(shù)學(xué)模型,有利于我們科學(xué)的評估設(shè)備性能的優(yōu)劣,正確判斷設(shè)備是否能夠達到實際工藝線的要求。從這個意義上來講,正交試驗設(shè)計對設(shè)備研制也具有積極的意義。

      [1]馬林,何楨主編.六西格瑪管理(第二版)[M].北京:中國人民大學(xué)出版社.2007:296-355.

      [2]《健壯設(shè)計手冊》編委會編著.健壯設(shè)計手冊[M].北京:國防工業(yè)出版社.2002:185-191.

      [3][美]D.C.蒙哥馬利著,汪仁官等譯.實驗設(shè)計與分析(第三版)[M].北京:中國統(tǒng)計出版社,1998:298-340.

      [4]何少華,文竹青,婁濤.試驗設(shè)計與數(shù)據(jù)處理[M].長沙:國防科技大學(xué)出版社.2002:62-65.

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