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      光纖用四氯化硅中金屬雜質(zhì)的檢測(cè)方法

      2013-09-07 01:56:02李春華陳黎明上海市計(jì)量測(cè)試技術(shù)研究院
      上海計(jì)量測(cè)試 2013年2期
      關(guān)鍵詞:四氯化硅質(zhì)譜儀高純

      李春華 陳黎明 / 上海市計(jì)量測(cè)試技術(shù)研究院

      0 引言

      光纖通信具有傳輸頻帶寬、通信容量大、中繼距離長(zhǎng)、保密性強(qiáng)、抗干擾性好、有色金屬材料節(jié)省等優(yōu)點(diǎn),得到各國(guó)廣泛的關(guān)注。隨著近幾年通信信息產(chǎn)業(yè)的快速發(fā)展,全球?qū)νㄐ殴饫w的需求量迅猛增長(zhǎng)。通信中大規(guī)模使用的光纖是石英光纖,其原材料主要是四氯化硅。2008年以來(lái),我國(guó)光纖通信技術(shù)發(fā)展飛速,但是光纖制備提純和檢測(cè)技術(shù)與發(fā)達(dá)國(guó)家相比存在相當(dāng)大的差距,尤其是光纖制備技術(shù)[1]。

      作為制作光纖的主要原料,高純四氯化硅占光纖總質(zhì)量的85% ~ 95%;另外,大規(guī)模集成電路和超大規(guī)模集成電路也需要高純四氯化硅作為原料,因此,四氯化硅制備提純技術(shù)和檢測(cè)技術(shù)亟待開(kāi)發(fā)與應(yīng)用[2]。

      光纖原料的純度直接影響光纖的損耗特性,是控制光纖產(chǎn)品質(zhì)量的關(guān)鍵。為保證光纖具有低損耗,要求原料中雜質(zhì)含量不超過(guò)10-9的數(shù)量級(jí),也就是要求質(zhì)量分?jǐn)?shù)在99.999 999 9%以上。提純的目的就是最大限度地除去這些引起光纖吸收損耗的雜質(zhì)。四氯化硅的提純方法主要有精餾法、吸附法、部分水解法及絡(luò)合法等[3]。四氯化硅的檢測(cè)也同這4種提純方法息息相關(guān)。

      1 檢測(cè)試劑和儀器

      1.1 試劑

      氫氟酸(超純酸,純度38%,多摩TAMAPURE- AA10);硝酸(超純酸,純度65%,多摩TAMAPURE- AA10);標(biāo)準(zhǔn)溶液 clms-2,clms-3(SPEX)。

      1.2 儀器

      聚四氟乙烯蒸發(fā)瓶(帶蓋),聚四氟乙烯蒸發(fā)裝置(自制,如圖1),電子天平,高分辨電感耦合等離子體質(zhì)譜儀(型號(hào):element2 Thermofisher scientific)。

      2 實(shí)驗(yàn)

      2.1 前處理方案

      光纖用四氯化硅中含有的雜質(zhì)如表1所示。根據(jù)四氯化硅和雜質(zhì)的沸點(diǎn)不同,實(shí)驗(yàn)采用加熱揮發(fā)的方法去除主含量四氯化硅,保留雜質(zhì)。

      2.2 前處理步驟

      1)打開(kāi)高純氬氣的開(kāi)關(guān),流量控制在0.2 L/min,使整個(gè)蒸發(fā)裝置充滿(mǎn)高純氬氣,其中高純氬氣的含水量不能超過(guò)3×10-9V/V。

      圖1 聚四氟乙烯蒸發(fā)裝置

      表1 四氯化硅及其雜質(zhì)的沸點(diǎn)

      2)首先稱(chēng)量聚四氟乙烯蒸發(fā)瓶(帶蓋)的質(zhì)量m1,然后快速移取一定量的四氯化硅,蓋緊蒸發(fā)瓶,在電子天平上準(zhǔn)確稱(chēng)量聚四氟乙烯和四氯化硅的質(zhì)量m2。

      3)打開(kāi)蒸發(fā)瓶的蓋子,迅速把蒸發(fā)裝置的蓋子密封,然后打開(kāi)加熱板,調(diào)節(jié)溫度至55℃。

      4)蒸發(fā)至干,關(guān)閉電加熱板,蓋緊蒸發(fā)瓶的蓋子,取出,自然冷卻至室溫。

      5)加入氫氟酸硝酸(體積比1 : 1)的混合液,輕輕搖晃蒸發(fā)瓶,使混酸接觸蒸發(fā)瓶的大部分內(nèi)壁。

      2.3 儀器參數(shù)

      對(duì)高分辨電感耦合等離子體質(zhì)譜儀進(jìn)行各項(xiàng)參數(shù)優(yōu)化(如表2所示)。

      表2 高分辨電感耦合等離子體質(zhì)譜儀工作優(yōu)化參數(shù)

      3 結(jié)果與分析

      3.1 前處理的選擇

      光纖用四氯化硅的雜質(zhì)檢測(cè),前處理是關(guān)鍵?,F(xiàn)今有三種前處理方法,第一種是水解法,該方法前處理時(shí)間較長(zhǎng),水解反應(yīng)會(huì)產(chǎn)生氯化氫等腐蝕性氣體。第二種是絡(luò)合劑法,在四氯化硅中加入絡(luò)合劑,該方法可以防止B、P等雜質(zhì)的損失,更加準(zhǔn)確地檢測(cè)B、P等雜質(zhì)含量。但是加入的絡(luò)合劑有可能帶入其他金屬雜質(zhì),影響了其他金屬元素的準(zhǔn)確性。第三種方法,就是本文介紹的加熱揮發(fā)法,該方法從四氯化硅的提純工藝衍生而來(lái),在高純氬氣的環(huán)境下,使四氯化硅緩慢揮發(fā),沒(méi)有新雜質(zhì)的引入。揮發(fā)的四氯化硅同時(shí)被尾氣吸收裝置吸走,減少了對(duì)環(huán)境的污染,而且該方法前處理的時(shí)間較少,易操作。加熱板溫度選擇55℃,是因?yàn)樵摐囟茸罱咏瑫r(shí)又不超過(guò)四氯化硅的沸點(diǎn),還遠(yuǎn)遠(yuǎn)低于其他雜質(zhì)的沸點(diǎn)。在該溫度下,四氯化硅揮發(fā)較快,而其他雜質(zhì)的損失較少[4]。高純氬氣的流量選擇在0.2 L/min,因?yàn)榱髁啃∮?.2 L/min,揮發(fā)的四氯化硅不能全部被高純氬氣帶走,而是附著在揮發(fā)裝置的內(nèi)壁,污染揮發(fā)裝置。大于0.2 L/min的流量不會(huì)明顯增加揮發(fā)時(shí)間,同時(shí)還造成高純氬氣的浪費(fèi)。如果流量大于1.0 L/min的話,還會(huì)影響雜質(zhì)檢測(cè)的準(zhǔn)確性。

      3.2 電感耦合等離子體質(zhì)譜儀的選擇

      相比常規(guī)的四極桿電感耦合等離子體質(zhì)譜儀,不論是標(biāo)準(zhǔn)模式(STD)還是碰撞/反應(yīng)池模式(CRC),高分辨電感耦合等離子體質(zhì)譜儀都有較大的優(yōu)勢(shì)[5]。不但靈敏度高,1 ng/mL的銦靈敏度可達(dá)1×106cps以上,而且分辨力高。通過(guò)調(diào)節(jié)分辨力,可以使待測(cè)元素與多原子離子干擾分離。圖2為Fe元素(100 ng/L)在中分辨條件下的質(zhì)譜圖,由圖2可知,F(xiàn)e元素與干擾ArO可以完全分離。圖3為K元素(100 ng/L)在高分辨下的質(zhì)譜圖,由圖3可以看出K與干擾ArH可以實(shí)現(xiàn)完全分離。

      圖2 Fe元素譜圖

      3.3 檢測(cè)方法的檢出限和線性相關(guān)系數(shù)

      在優(yōu)化的儀器條件下,采用標(biāo)準(zhǔn)加入法對(duì)光纖用四氯化硅進(jìn)行檢測(cè),并計(jì)算出儀器檢出限(LD)與定量下限。其中,儀器檢出限(LD)為3倍噪聲信號(hào)對(duì)應(yīng)的濃度,儀器檢出限為0.41 ~ 48.15 ng/L(元素不同檢出限不同)。綜合考慮定量下限,本實(shí)驗(yàn)采用空白本底對(duì)應(yīng)濃度的3倍作為定量下限,符合國(guó)際純粹和應(yīng)用化學(xué)聯(lián)合會(huì)(IUPAC)和美國(guó)EPA SW-846中定量限的規(guī)定。表3列出了各元素的儀器檢出限和定量下限。

      圖3 K元素譜圖

      表3 各元素的儀器檢出限、定量下限和線性相關(guān)系數(shù)

      用美國(guó)SPEX公司的CLMS-2,CLMS-3配制濃度為0.1、0.2、0.5、1.0、2.0 ng/mL的標(biāo)準(zhǔn)溶液,用直線線性方式繪制標(biāo)準(zhǔn)曲線,用加標(biāo)回收的方式計(jì)算回收率,各元素回收率在85.1~115.4之間,滿(mǎn)足行業(yè)要求。

      4 結(jié)語(yǔ)

      在高純氬氣環(huán)境下,采用加熱揮發(fā)的前處理方式可以較好地去除光纖用四氯化硅的基體,保留金屬雜質(zhì)元素,而且反應(yīng)時(shí)間短,操作較容易。高分辨電感耦合等離子體質(zhì)譜儀可以有效地減少多原子干擾,提高四氯化硅中各金屬元素的分辨力,降低檢出限,回收率為85.1 ~ 115.4。上述前處理步驟和儀器測(cè)試步驟都需要在1 000級(jí)以上的潔凈室內(nèi)完成。當(dāng)標(biāo)準(zhǔn)曲線的最低點(diǎn)遠(yuǎn)遠(yuǎn)大于方法定量下限時(shí),標(biāo)準(zhǔn)曲線的最低點(diǎn)作為方法定量下限。同時(shí),樣品的測(cè)試范圍一定要在標(biāo)準(zhǔn)曲線的范圍之內(nèi)(0.1~ 2.0 ng/mL),大于定量上限的樣品需要稀釋?zhuān)∮诙肯孪薜臉悠沸枰獫饪s。

      [1]方旭升,劉勇,陳吉,等. 多晶硅生產(chǎn)原料中添加四氯化硅的工藝研究[J]. 現(xiàn)代化工,2012(7):85-87.

      [2]呂詠梅,羅鵬舉,姚德袆. 四氯化硅工業(yè)應(yīng)用研究進(jìn)展[J]. 氯堿化工,2008(5):25-31.

      [3]何壽林,羅全安. 光纖用高純四氯化硅連續(xù)精餾方法[P]. 中國(guó)專(zhuān)利:CN1102219222A2011.10.19.

      [4]郭峰,譚紅,何錦林,等. 改進(jìn)的揮硅- ICP- MS法測(cè)定高純四氯化硅中金屬雜質(zhì)[J]. 福建分析測(cè)試,2006(4):7-8.

      [5]陳黎明. 膜去溶進(jìn)樣高分辨電感耦合等離子質(zhì)譜儀測(cè)定半導(dǎo)體級(jí)鹽酸中雜質(zhì)元素[J]. 化學(xué)試劑,2012(10):913-915.

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