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      鎂合金復(fù)合微弧氧化工藝的研究

      2014-09-18 06:31:06顧云飛王彩麗邵忠財(cái)
      電鍍與環(huán)保 2014年4期
      關(guān)鍵詞:納米粉體微弧成膜

      顧云飛, 王彩麗, 邵忠財(cái)

      (1.沈陽(yáng)興華航空電器有限責(zé)任公司,遼寧 沈陽(yáng) 110144;2.沈陽(yáng)理工大學(xué),遼寧 沈陽(yáng) 110168)

      鎂合金復(fù)合微弧氧化工藝的研究

      顧云飛1, 王彩麗2, 邵忠財(cái)2

      (1.沈陽(yáng)興華航空電器有限責(zé)任公司,遼寧 沈陽(yáng) 110144;2.沈陽(yáng)理工大學(xué),遼寧 沈陽(yáng) 110168)

      開(kāi)發(fā)添加Al2O3納米粉體的復(fù)合微弧氧化電解液體系。確定最佳的工藝條件為:硅酸鈉與焦磷酸鈉(質(zhì)量比7∶3)12g/L,氫氧化鈉7g/L,Al2O33g/L,復(fù)合添加劑A1(氟化鈉2g/L,丙三醇10mL/L,鎢酸鈉1g/L),溶液溫度35℃,氧化時(shí)間20min。

      鎂合金;微弧氧化;Al2O3納米粉體

      0 前言

      微弧氧化(MAO)是一種直接在 Mg,Al,Ti,Ta,Nb,Zr等有色金屬表面原位生長(zhǎng)陶瓷層的新技術(shù)。該技術(shù)具有工藝簡(jiǎn)單、清潔無(wú)污染、材料適應(yīng)性寬等特點(diǎn)。形成的陶瓷質(zhì)氧化膜的硬度、耐磨性和耐蝕性都優(yōu)于普通陽(yáng)極氧化膜的。因此,微弧氧化技術(shù)是鋁合金、鎂合金表面處理的理想選擇。但由于陶瓷膜表面多孔,大多數(shù)產(chǎn)品要進(jìn)行后處理,這樣不僅影響效率,還使成本增加。為解決微弧氧化表面多孔的問(wèn)題,進(jìn)一步提高微弧氧化膜的耐蝕性,本文在微弧氧化電解液中加入彌散分布的Al2O3納米粉體,并對(duì)復(fù)合微弧氧化的溶液組成和工藝進(jìn)行了研究。

      1 實(shí)驗(yàn)

      1.1 復(fù)合微弧氧化基礎(chǔ)電解液的研究

      根據(jù)文獻(xiàn)[1-3],目前微弧氧化所用的電解液主要 有 NaAlO2,Na2SiO3,(NaPO3)6,Na4P2O7,Na3PO4,大體上分為單體系和復(fù)合體系兩大類。本文研究的是鎂合金復(fù)合微弧氧化,即在微弧氧化電解液中加入Al2O3納米粉體進(jìn)行優(yōu)化處理。將單體系主鹽 NaAlO2,Na2SiO3,(NaPO3)6,Na4P2O7,Na3PO4分為5組,然后加入Al2O3(2g/L)進(jìn)行實(shí)驗(yàn)。根據(jù)主鹽和配比不同,將復(fù)合體系分為Si-P,Al-P,Si-Al三類。經(jīng)對(duì)比實(shí)驗(yàn),選擇電解液穩(wěn)定、成膜較厚的Si-P復(fù)合體系溶液作為基礎(chǔ)電解液,即硅酸鈉7g/L+焦磷酸鈉3g/L+ 氫氧化鈉5g/L。研究添加Al2O3納米粉體的復(fù)合微弧氧化工藝,以及其他添加劑對(duì)復(fù)合微弧氧化膜的影響。溶液溫度為35℃,氧化時(shí)間為20min。

      1.2 復(fù)合添加劑的研究

      在上一步實(shí)驗(yàn)的基礎(chǔ)上,研究了復(fù)配后的添加劑對(duì)微弧氧化的影響。實(shí)驗(yàn)發(fā)現(xiàn):多價(jià)的陰離子對(duì)鎂的腐蝕有一定的抑制作用,特別是XOn-y型的陰離子(如MoO2-4,WO2-4,MnO-4等的還原產(chǎn)物),可在鎂的表面形成一層穩(wěn)定的保護(hù)膜,對(duì)鎂合金起到很好的緩蝕和鈍化作用。而金屬含氧酸鹽與有機(jī)酸鹽或表面活性劑的配合添加,能獲得更佳的效果。

      本文在這些研究的基礎(chǔ)上,開(kāi)發(fā)了復(fù)合電解液的微弧氧化工藝,并研究了 WO2-4與有機(jī)酸鹽、表面活性劑復(fù)配后的添加劑對(duì)微弧氧化的影響。添加劑的配合方案,如表1所示。利用篩選出的基礎(chǔ)電解液進(jìn)行實(shí)驗(yàn),用A1~A6代表各復(fù)配后的添加劑。將這些添加劑進(jìn)行分類重組,找到了符合鎂合金復(fù)合微弧氧化的添加劑,每組選出3個(gè)較優(yōu)的復(fù)合添加劑進(jìn)行正交分析。

      表1 復(fù)合添加劑

      2 結(jié)果與討論

      2.1 添加劑的研究與分析

      在 Na2SiO37g/L,Na4P2O73g/L,NaOH 5 g/L,Al2O32g/L的電解液中,分別加入表1所示的復(fù)合添加劑A1~A6進(jìn)行實(shí)驗(yàn)。

      圖1為復(fù)合添加劑對(duì)膜層腐蝕失重的影響。由圖1可知:腐蝕速率較小的是A1,A3,A5。

      圖1 復(fù)合添加劑對(duì)膜層腐蝕失重的影響

      表2為添加劑實(shí)驗(yàn)結(jié)果。由表2可知:添加了A1,A3,A4的膜的厚度較大,但是添加了A4的膜的腐蝕速率較快;添加劑了A5與A4的膜的厚度相差不大。另外,起弧—終止電壓都降低,說(shuō)明添加劑降低了起弧電壓。綜合各個(gè)因素,確定添加劑為A1,A3,A5。

      表2 添加劑實(shí)驗(yàn)結(jié)果

      圖2為添加劑加入前后氧化膜的SEM圖。由圖2可知:添加劑加入前氧化膜表面的微孔較多;添加劑加入后氧化膜表面的微孔明顯減少。添加劑使孔徑變小,膜層更加致密,提高了膜層的耐蝕性。

      圖2 添加劑加入前后氧化膜的SEM圖

      2.2 添加Al2O3納米粉體的研究

      在上述最優(yōu)體系中添加不同質(zhì)量濃度的Al2O3納米粉體,為正交實(shí)驗(yàn)選擇最優(yōu)的質(zhì)量濃度范圍。并研究Al2O3的加入對(duì)膜厚和腐蝕失重的影響,結(jié)果如圖3所示。

      圖3 Al2O3對(duì)膜厚和腐蝕失重的影響

      由圖3可知:添加的Al2O3過(guò)少,復(fù)合膜的厚度較小,耐蝕性較差;若添加量過(guò)大,則電解液不穩(wěn)定,易燒蝕,膜層性能較差。Al2O3在2~4g/L時(shí),腐蝕失重較小,且膜層也較厚,所以Al2O3取2~4g/L為最佳。

      2.3 正交實(shí)驗(yàn)結(jié)果與分析

      根據(jù)以上分析,選出最優(yōu)的體系進(jìn)行正交實(shí)驗(yàn),優(yōu)化配方。采用四因素三水平的正交實(shí)驗(yàn)設(shè)計(jì),如表3所示。表3中,A代表硅酸鈉與焦磷酸鈉(質(zhì)量比7∶3),B代表復(fù)合添加劑,C代表pH調(diào)節(jié)劑氫氧化鈉,D代表Al2O3。

      Si-P體系中正交優(yōu)化出的最優(yōu)配方是:硅酸鈉與焦磷酸鈉(質(zhì)量比7∶3)10g/L,Al2O33g/L,氫氧化鈉7g/L,酒石酸鉀鈉1g/L,雙氧水6mL/L,鎢酸鈉1g/L。

      表3 因素水平表

      2.3.1 主成膜劑對(duì)膜層的影響

      為更加準(zhǔn)確地確定各因素的質(zhì)量濃度,還需要幾個(gè)補(bǔ)充實(shí)驗(yàn)進(jìn)行單因素分析。當(dāng)優(yōu)化出第一個(gè)條件后,用這個(gè)優(yōu)化出的最優(yōu)值來(lái)優(yōu)化第二個(gè)條件,依此類推?,F(xiàn)先將因素A(主成膜劑)分別對(duì)三個(gè)指標(biāo)進(jìn)行單因素分析,即主成膜劑對(duì)膜厚和腐蝕失重的影響,結(jié)果如圖4所示。

      圖4 主成膜劑對(duì)膜層性能的影響

      由圖4可知:當(dāng)主成膜劑的質(zhì)量濃度增加時(shí),膜層的耐蝕性先變好后變差。這可能是因?yàn)樘沾赡さ氖杷蓪幼兒?。主成膜劑的質(zhì)量濃度為12g/L時(shí),腐蝕失重最小,并且厚度較大,所以主成膜劑取12 g/L為最好。

      2.3.2 氫氧化鈉對(duì)膜層的影響

      同理對(duì)因素C(pH調(diào)節(jié)劑氫氧化鈉)進(jìn)行分析,結(jié)果如圖5所示。

      圖5 氫氧化鈉對(duì)膜層性能的影響

      在確定氫氧化鈉的質(zhì)量濃度時(shí),主成膜劑采用12g/L,再做幾個(gè)補(bǔ)充實(shí)驗(yàn)。由圖5可知:當(dāng)氫氧化鈉的質(zhì)量濃度為7g/L時(shí),膜層的耐蝕性最好,但是膜厚不是最大。這可能是因?yàn)樵?g/L時(shí),相應(yīng)致密層厚,表面孔洞少,介質(zhì)很難進(jìn)入基體。隨著氫氧化鈉的質(zhì)量濃度的進(jìn)一步增加,雖然膜厚相應(yīng)增加,但是膜層的耐蝕性降低。這是由于孔洞增多。綜合分析,氫氧化鈉取7g/L為最佳。

      2.3.3 Al2O3對(duì)膜層的影響

      對(duì)因素D(Al2O3)進(jìn)行分析,結(jié)果如圖6所示。

      圖6 Al2O3對(duì)膜層性能的影響

      由圖6可知:當(dāng)Al2O3的質(zhì)量濃度為3g/L時(shí),膜層的耐蝕性最好。此時(shí)膜層的孔洞很少,致密層增厚,腐蝕介質(zhì)很難進(jìn)入基體,宏觀上表現(xiàn)為膜層的耐蝕性提高。而當(dāng)Al2O3的質(zhì)量濃度繼續(xù)升高時(shí),膜層的質(zhì)量反而下降。這可能是因?yàn)槿芤褐屑{米粉體的質(zhì)量濃度變高,使電解液不穩(wěn)定,導(dǎo)致膜層質(zhì)量下降。綜合分析,Al2O3取3g/L為最佳。

      2.3.4 添加劑對(duì)膜層的影響

      由于其他因素的改變也可能引起添加劑的改變,所以也對(duì)因素B(添加劑)進(jìn)行對(duì)比實(shí)驗(yàn),結(jié)果如7所示。

      圖7 添加劑的腐蝕失重對(duì)比

      由于影響膜層性能的主要因素改變,所以添加劑也需要重新確定。由圖7可知:A1的腐蝕失重最小,在最終優(yōu)化出的配方中成為最優(yōu)添加劑。復(fù)合添加劑A1:氟化鈉2g/L,丙三醇10mL/L,鎢酸鈉1g/L。

      3 結(jié)論

      通過(guò)以上對(duì)各因素的綜合分析,最終確定鎂合金復(fù)合微弧氧化的工藝條件為:Si-P復(fù)合體系,硅酸鈉與焦磷酸鈉(質(zhì)量比7∶3)12g/L,氫氧化鈉7 g/L,Al2O33g/L,復(fù)合添加劑A1(氟化鈉2g/L,丙三醇10mL/L,鎢酸鈉1g/L),溶液溫度35℃,氧化時(shí)間20min。

      [1]郭洪飛,安茂忠,徐莘,等.鎂合金微弧氧化配方的優(yōu)化及膜層耐蝕性能評(píng)價(jià)[J].電鍍與涂飾,2004,23(6):1-2.

      [2]梁軍,田軍,周金芳.磷酸鹽-氫氧化鉀溶液中鎂合金微弧氧化膜層結(jié)構(gòu)和性能研究[J].電鍍與涂飾,2005,24(12):4-5.

      [3]張永君,嚴(yán)川偉,趙桂芹,等.壓鑄鎂合金AZ91D環(huán)保型陽(yáng)極氧化電解液配方研究[J].腐蝕與防護(hù),2002,23(4):148-151.

      A Research on Composite Micro-arc Oxidation Process for Magnesium Alloy

      GU Yun-fei1, WANG Cai-li2, SHAO Zhong-cai2
      (1.Shenyang Xinghua Aviation Electric Appliance Co.,Ltd.,Shenyang 110144,China;2.Shenyang Ligong University,Shenyang 110168,China)

      A composite micro-arc oxidation electrolyte system with added Al2O3nanometer powders was developed.The optimum conditions were determined as:sodium silicate and sodium pyrophosphate(mass ratio 7∶3)12g/L,sodium hydroxide 7g/L,Al2O33g/L,compound additive A1(sodium fluoride 2g/L,glycerin 10mL/L,sodium tungstate 1g/L),temperature 35℃,reaction time 20min.

      magnesium alloy;micro-arc oxidation;Al2O3powder

      TG 174

      A

      1000-4742(2014)04-0039-04

      2012-10-29

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