酸性蝕刻液循環(huán)再生系統(tǒng)
Circulating & Recycling System of Acidity Etched Liquid
由深圳市潔馳科技有限公司開發(fā)的酸性蝕刻液循環(huán)再生系統(tǒng),適用于線路板酸性蝕刻液的再生。
主要技術(shù)內(nèi)容
一、基本原理
采用陰、陽離子膜電解-電沉積氧化法對低氧化還原電位(ORP)的酸性蝕刻液進行氧化處理,降低蝕刻液的銅離子含量并回收銅,基本原理為:1)陰離子膜電解法取代氧化劑。低ORP的酸性蝕刻液經(jīng)陰離子膜電解槽的陽極,蝕刻液中一價銅離子在陽極失去電子生成二價銅離子,降低了蝕刻液中一價銅離子的含量,提高蝕刻液的氧化能力,取代蝕刻工序所使用的氧化劑,使氯元素得以回用至蝕刻液中。2)陽離子膜電沉積法循環(huán)利用蝕刻液。高銅含量的蝕刻液經(jīng)陽離子膜電沉積槽回收銅后,蝕刻液中銅含量降低,返回蝕刻液儲槽循環(huán)利用。
二、技術(shù)關(guān)鍵
1.該技術(shù)解決了單一離子膜電解過程中膜性能不穩(wěn)定、循環(huán)時間不長的難題,實現(xiàn)酸性蝕刻工序的清潔生產(chǎn)和廢水的零排放,產(chǎn)生了有高附加值的金屬電解銅,從而降低了酸性蝕刻液的生產(chǎn)成本。
2.采用陰離子膜電解法,一價銅離子在陽極被氧化成二價銅離子,ORP升高,ORP高達(dá)900MV的酸性蝕刻液可循環(huán)利用,無需再使用強氧化劑氯酸鈉。
3.采用陽離子膜電沉積法,蝕刻廢液可循環(huán)利用。
典型規(guī)模 廢酸性蝕刻液處理量:100~200噸/月。
主要技術(shù)指標(biāo)
再生蝕刻液技術(shù)指標(biāo):回用率100%;蝕刻因子≥3.0;蝕刻速率1.5~2.5mil/min;pH2.0~2.3;ORP540~600mV;銅含量110~160g/L;回收銅純度>99.90%。
主要設(shè)備及運行管理
一、主要設(shè)備
陰離子膜電解系統(tǒng)、陽離子膜電沉積系統(tǒng)、蝕刻液存儲及組分調(diào)節(jié)膜處理系統(tǒng)。
二、運行管理
本設(shè)備安裝不需要PCB廠停機,設(shè)備安裝完畢,公司配技術(shù)服務(wù)人員2~3人,負(fù)責(zé)蝕刻液的組分分析、調(diào)配及設(shè)備的運轉(zhuǎn)與維護,保證生產(chǎn)線連續(xù)、正常生產(chǎn)。
投資效益
一、投資情況
總投資350萬元,其中設(shè)備投資320萬元;主體設(shè)備壽命8年;運行費用410萬元/年。
二、經(jīng)濟效益
1.不改變原有的工藝流程、管理程序;印制線路板廠只需將廢液排入酸性蝕刻液處理系統(tǒng),再生后的蝕刻液可回用于生產(chǎn),降低了成本。
2.廢液經(jīng)處理后可產(chǎn)銅,具有一定的收益。
三、環(huán)境效益
該設(shè)備實現(xiàn)了蝕刻液的在線處理,減少了二次污染,達(dá)到了清潔生產(chǎn)的要求。
該技術(shù)2011年9月通過技術(shù)鑒定,并被中國環(huán)境保護產(chǎn)業(yè)協(xié)會評為2013年國家重點環(huán)境保護實用技術(shù)。
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