循環(huán)伏安法電沉積聚8-羥基喹啉-苯酚復(fù)合薄膜

劉小勤，黃鳳祥，*，曾冬銘，黃發(fā)軍，劉中興

（1.江西瑞林稀貴金屬科技有限公司，江西 南昌　330031；

2.中南大學(xué)有色金屬資源化學(xué)教育部重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室，湖南 長(zhǎng)沙　410083；

3.中南大學(xué)化學(xué)化工學(xué)院，湖南 長(zhǎng)沙　410083；4.特能寶化學(xué)原料有限公司，廣東 佛山　528000）

【研究報(bào)告】

循環(huán)伏安法電沉積聚8-羥基喹啉-苯酚復(fù)合薄膜

劉小勤1，黃鳳祥1，*，曾冬銘2，3，黃發(fā)軍3，劉中興4

（1.江西瑞林稀貴金屬科技有限公司，江西 南昌330031；

2.中南大學(xué)有色金屬資源化學(xué)教育部重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室，湖南 長(zhǎng)沙410083；

3.中南大學(xué)化學(xué)化工學(xué)院，湖南 長(zhǎng)沙410083；4.特能寶化學(xué)原料有限公司，廣東 佛山528000）

采用循環(huán)伏安法在鍍鎳工件表面制備聚8?羥基喹啉-苯酚復(fù)合薄膜。研究了8?羥基喹啉和苯酚的濃度比、單體總濃度、氫氧化鈉濃度、掃描速率和循環(huán)次數(shù)對(duì)復(fù)合薄膜耐蝕性的影響。分別采用鹽水浸泡試驗(yàn)（時(shí)間1周）、三氯化鐵縫隙試驗(yàn)、Tafel極化曲線法對(duì)比研究了聚8?羥基喹啉-苯酚復(fù)合薄膜、聚8?羥基喹啉薄膜和空白工件的耐蝕性。采用紅外光譜儀、掃描電鏡對(duì)所得復(fù)合薄膜的表面成分和形貌進(jìn)行表征。電沉積復(fù)合膜的最佳工藝條件為：8?羥基喹啉和苯酚的濃度比1∶30，單體總濃度0.021 mol/L，NaOH濃度0.8 mol/L，掃描速率100 mV/s，循環(huán)次數(shù)6，室溫。在最佳工藝條件下制備的聚8?羥基喹啉-苯酚復(fù)合薄膜的腐蝕電位、腐蝕速率分別為?0.277 0 V和4.54 × 10?4g/（m2·h），耐蝕性優(yōu)于聚8?羥基喹啉膜，遠(yuǎn)優(yōu)于空白鍍鎳工件。

8-羥基喹啉；苯酚；聚合；電沉積；循環(huán)伏安法；鎳；耐蝕性

我國(guó)的鍍鎳始于19世紀(jì)末［1］，鎳材化學(xué)性質(zhì)穩(wěn)定，硬度較高，耐磨性較好，被廣泛應(yīng)用于電鍍行業(yè)。但電鍍過(guò)程中，鎳會(huì)按梗球無(wú)規(guī)則的密堆積模式來(lái)沉積［2］，通常會(huì)引起鍍層出現(xiàn)孔隙，耐蝕性能下降；即使增大鍍層厚度也不能避免微觀針孔的存在［3］。故工業(yè)上往往需要在鍍鎳后進(jìn)行封孔處理，以提高鍍層耐蝕性，延長(zhǎng)工件使用壽命。

電沉積技術(shù)目前已被廣泛用于制備合金材料［4-6］、納米材料［7-8］、聚合物材料［9-10］、太陽(yáng)能電池材料［11-13］及混凝土修復(fù)材料［14-16］。其中混凝土修復(fù)是以混凝土中的鋼筋為陰極，混凝土界面處的電解質(zhì)溶液為陽(yáng)極，在電場(chǎng)作用下，正、負(fù)離子發(fā)生遷移，并發(fā)生電化學(xué)反應(yīng)，于混凝土裂縫或缺陷處生成難溶性產(chǎn)物，從而達(dá)到修復(fù)裂縫或缺陷的效果，鍍鎳件封孔處理的原理與其類似。

本課題組前期已通過(guò)電沉積技術(shù)在鎳基體上制備聚8?羥基喹啉薄膜，并取得良好的防腐效果［17-19］。進(jìn)一步研究發(fā)現(xiàn)，聚苯酚薄膜也具有較好的防腐作用［20-21］，若將其與聚 8?羥基喹啉共沉積形成復(fù)合膜，則可能發(fā)揮兩者各自的優(yōu)點(diǎn)，優(yōu)勢(shì)互補(bǔ)。一方面8?羥基喹啉的分子較苯酚大，后者可以填補(bǔ)聚8?羥基喹啉形成過(guò)程中的細(xì)小縫隙；另一方面，8?羥基喹啉具有與苯酚相似的活性羥基，成膜機(jī)理可能類似，而且兩者的沉積電位比較接近，從而為一定條件下的共沉積提供了可行性。

1　實(shí)驗(yàn)

1. 1溶液的配制

取一定量的8-羥基喹啉、苯酚和氫氧化鈉，加入蒸餾水中，配制得到不同濃度的混合溶液。

1. 2預(yù)處理

基體材料為5.00 cm × 0.80 cm × 0.05 cm的鍍鎳工件，該鍍鎳工件為不銹鋼片直接鍍鎳但未經(jīng)鈍化處理的半成品，由特能寶化學(xué)原料有限公司提供。先將鍍鎳工件置于5%（質(zhì)量分?jǐn)?shù)）HCl溶液中浸泡10 min除銹，用去離子水洗后，再在5% NaOH溶液中浸泡10 min除油，去離子水洗并吹干后待用。

1. 3電沉積

采用鄭州世瑞思儀器科技有限公司的RST5200電化學(xué)工作站進(jìn)行循環(huán)伏安法電沉積試驗(yàn)。采用三電極體系，飽和甘汞電極（SCE）為參比電極，鍍鎳工件（有效面積2.00 cm × 0.80 cm）為工作電極，鉑電極為對(duì)電極。電解質(zhì)為1.1配制的混合溶液。試驗(yàn)均在室溫下進(jìn)行。

1. 4性能測(cè)試

1. 4.1鹽溶液浸泡試驗(yàn)

按照J(rèn)B/T 6074-1992《腐蝕試樣的制備、清洗和評(píng)定》和GB/T 19746-2005《金屬和合金的腐蝕-鹽溶液周浸試驗(yàn)》來(lái)進(jìn)行。將試樣部分封閉，保留1.00 cm × 0.80 cm的測(cè)試面積，烘干后稱量，再置于3.5% NaCl溶液中浸泡1周后去掉腐蝕試樣表面殘留的腐蝕產(chǎn)物，經(jīng)超聲清洗干凈后，烘干并稱重。同種工件測(cè)3個(gè)試樣，取腐蝕速率的平均值。根據(jù)式（1）計(jì)算試樣的腐蝕速率v。

v = （m0? ml） / （A · t）（1）

式中，m0為工件原始質(zhì)量（g），m1為工件腐蝕后的質(zhì)量（g），A為被測(cè)試樣的面積（m2），t為工件浸泡時(shí)間（h）。

1. 4. 2三氯化鐵縫隙試驗(yàn)

按照J(rèn)B/T 6074-1992《腐蝕試樣的制備、清洗和評(píng)定》和GB/T 10127-2002《不銹鋼三氯化鐵縫隙腐蝕試驗(yàn)方法》來(lái)進(jìn)行。用符合GB/T 622-2006《化學(xué)試劑鹽酸》規(guī)定的優(yōu)級(jí)純鹽酸和蒸餾水配制成0.05 mol/L的鹽酸水溶液。把100 g分析純FeCl3·6H2O溶于900 mL 0.05 mol/L鹽酸水溶液中，得到試驗(yàn)溶液。將工件部分封閉，留出1.00 cm × 0.80 cm的測(cè)試面積，烘干后稱量，再置于上述試驗(yàn)溶液中浸泡12 h后去掉腐蝕試樣表面殘留的腐蝕產(chǎn)物，經(jīng)超聲清洗干凈后，烘干并稱重。同種工件測(cè)3個(gè)試樣，取腐蝕速率的平均值。按式（1）計(jì)算試樣的腐蝕速率。

1. 4. 3Tafel極化曲線分析

郭東萍等［22］已證實(shí)，極化曲線的分析結(jié)果與貼濾紙法孔隙率測(cè)試結(jié)果一致，故本文皆以Tafel極化曲線測(cè)試結(jié)果來(lái)篩選電沉積聚8?羥基喹啉和聚苯酚復(fù)合薄膜封孔的最佳工藝。實(shí)驗(yàn)采用RST5200電化學(xué)工作站，飽和甘汞電極為參比電極，經(jīng)電沉積處理的鍍鎳工件為工作電極，鉑電極為對(duì)電極，介質(zhì)為3.5% NaCl溶液，掃描速率為0.5 mV/s，均在室溫下測(cè)定。通過(guò)對(duì)Tafel曲線陰極段和陽(yáng)極段進(jìn)行線性擬合，即可得到對(duì)應(yīng)的腐蝕電位（φcorr）和腐蝕電流密度（ jcorr）；腐蝕電位越正，腐蝕電流密度越小，說(shuō)明腐蝕速率越小，工件的耐蝕性越好，即膜的封孔效果越佳。

1. 4. 4表面形貌和紅外光譜分析

采用荷蘭FEI公司的Quanta-200掃描電鏡（SEM）觀察膜層的表面形貌。采用FTIR-650傅里葉紅外光譜儀（FT-IR）分析膜層組分。

2　結(jié)果與討論

2. 1循環(huán)伏安法電沉積曲線分析

采用苯酚和8?羥基喹啉濃度之比為30∶1（總濃度為0.021 mol/L），氫氧化鈉濃度為0.8 mol/L的溶液，以50 mV/s的掃描速率從0.15 V線性掃描到0.85 V，掃描3圈，在鍍鎳件表面得到淺黃色透明的薄膜，圖1所示為對(duì)應(yīng)的循環(huán)伏安曲線。

圖1　電沉積制備聚8-羥基喹啉-苯酚復(fù)合膜的循環(huán)伏安圖Figure 1　Cyclic voltammograms for electrodeposition of poly-8-hydroxyquinoline-phenol composite film

從圖1可以看出，第1個(gè)循環(huán)氧化峰的位置并不明顯，位于0.45 V附近，還原峰在0.228 V附近，后2個(gè)循環(huán)氧化峰位于0.308 V附近，還原峰的位置與第1個(gè)循環(huán)相同。氧化峰與還原峰的電位相隔0.08 V，說(shuō)明反應(yīng)具有一定的可逆性，正向掃描時(shí)，工件上發(fā)生氧化反應(yīng)，聚合物形成并沉積在其表面；負(fù)向掃描時(shí)，工件上發(fā)生還原反應(yīng)，部分薄膜可能消解。

對(duì)比使用循環(huán)伏安法單獨(dú)電沉積聚8?羥基喹啉的研究結(jié)果［18-19］，本實(shí)驗(yàn)中氧化峰和還原峰的位置都有不同程度的負(fù)移，這表明共沉積的反應(yīng)過(guò)程不同于8?羥基喹啉的單獨(dú)聚合，共聚合反應(yīng)更容易發(fā)生。

2. 2紅外圖譜分析

對(duì)2.1電沉積所得試樣進(jìn)行紅外分析，并與8?羥基喹啉單體和聚8?羥基喹啉膜［19］進(jìn)行比較，結(jié)果見(jiàn)圖2。

圖2　不同試樣的FT-IR譜Figure 2　FT-IR spectra for different samples

從圖2可知，8?羥基喹啉在3 375.15 cm?1和3 298.58 cm?1處存在特征峰，分別對(duì)應(yīng)于分子間氫鍵峰O···H和N···H。聚合后，分子間O···H依然存在，分子間N···H由于空間位阻而大大減弱，分子內(nèi)由氮原子和與其相對(duì)的下一個(gè)單體結(jié)構(gòu)上的氫原子構(gòu)成的氫鍵作用則增強(qiáng)，由于空間位阻比較大，因此單聚物膜和復(fù)合膜的N···H鍵振動(dòng)頻率都向高頻移動(dòng)，二者的O···H鍵分別與各自的N···H鍵重合在3 466.00 cm?1和3 467.29 cm?1處。這與A. Mollahosseini［23］和L. Y. Bao［24］的研究結(jié)果相似。8?羥基喹啉在1 620.28、1 576.22、1 507.47和1 469.31 cm?1處的4個(gè)峰都對(duì)應(yīng)苯環(huán)的特征峰，然而單聚物中僅1 692.45 cm?1和1 455.09 cm?1處較明顯，復(fù)合薄膜則表現(xiàn)在1 653.57、1 460.57和1 380.97 cm?13處，同時(shí)單體1 202.63 cm?1處的芳香醚鍵峰在單聚物和復(fù)合薄膜中都被削弱了，這進(jìn)一步證明了聚合物的生成。因?yàn)槊焰I─O─與相鄰的2個(gè)苯環(huán)產(chǎn)生共軛效應(yīng)，產(chǎn)生1 455.09 cm?1處的合頻峰；復(fù)合薄膜在單聚的基礎(chǔ)上還加入了聚苯酚結(jié)構(gòu)單元，所以峰的位置進(jìn)一步偏移到1 460.57 cm?1處。另外，單聚物中的848.79 cm?1和復(fù)合膜中844.51 cm?1處表明相鄰芳香氫的數(shù)目為2，而單體中的778.98 cm?1處表明相鄰芳香氫的數(shù)目為3，這也證實(shí)了聚合物的生成。

2. 3工藝條件對(duì)電沉積復(fù)合薄膜的影響

2. 3. 1濃度配比

8?羥基喹啉和苯酚在成膜過(guò)程中發(fā)揮的作用不同，因此二者的濃度配比會(huì)影響聚合膜的組成。其余參數(shù)同2.1，改變2種單體的濃度配比時(shí)，所得聚合膜在3.5% NaCl溶液中的腐蝕參數(shù)列于表1。

表1　單體濃度配比不同時(shí)聚合膜在NaCl溶液中的腐蝕參數(shù)Table 1　Corrosion parameters of polymer films prepared at various monomer concentration ratios in NaCl solution

從表1可知，當(dāng)8?羥基喹啉和苯酚的濃度之比為1∶30時(shí)，其腐蝕電位與15∶1時(shí)接近，但前者的腐蝕電流密度小1個(gè)數(shù)量級(jí)。市場(chǎng)上8?羥基喹啉的價(jià)格是苯酚的20多倍，從成本方面考慮，選擇8?羥基喹啉和苯酚的濃度之比為1∶30。

雖然8?羥基喹啉的濃度只占苯酚的1/30，但所得聚合8?羥基喹啉-苯酚復(fù)合膜的防腐性能優(yōu)于相同條件下的聚苯酚膜（［8?羥基喹啉］∶［苯酚］= 0時(shí)）。這可能是因?yàn)??羥基喹啉起微觀修飾的作用。增大8?羥基喹啉的濃度，膜的防腐性能并未呈單向遞增或遞減的變化趨勢(shì)，說(shuō)明聚8?羥基喹啉和聚苯酚在防腐性能方面并沒(méi)有哪一個(gè)處于絕對(duì)的優(yōu)勢(shì)，只有將兩者摻雜，優(yōu)勢(shì)互補(bǔ)才能得到防腐性能較佳的聚合膜。

2. 3. 2單體總濃度

單體總濃度與電沉積過(guò)程的反應(yīng)速率直接相關(guān)，故而會(huì)影響沉積膜的形成過(guò)程和結(jié)果。其余參數(shù)同2.3.1，單體總濃度不同時(shí)，復(fù)合膜在NaCl溶液中的腐蝕參數(shù)見(jiàn)表2。

表2　單體總濃度不同時(shí)聚合膜在NaCl溶液中的腐蝕參數(shù)Table 2　Corrosion parameters of polymer films prepared at various total monomer concentrations in NaCl solution

從表2可知，單體總濃度為0.021 mol/L時(shí)，膜的腐蝕電位最正，腐蝕電流密度最低，表明此時(shí)膜的耐蝕性最好。這是因?yàn)閱误w總濃度超過(guò)0.021 mol/L時(shí)，反應(yīng)較快，不利于形成平整均勻的聚合膜，膜的耐蝕性能下降；單體總濃度過(guò)小時(shí)，又會(huì)導(dǎo)致反應(yīng)過(guò)慢，相同時(shí)間內(nèi)成膜少，同樣不利于封孔處理。

單獨(dú)電沉積聚8?羥基喹啉膜時(shí)，單體的最佳濃度為0.002 mol/L［18-19］，加入苯酚復(fù)合后，8?羥基喹啉的濃度低于0.002 mol/L，這說(shuō)明苯酚影響了反應(yīng)過(guò)程，故單體最佳濃度不再與8?羥基喹啉單聚的情況一致。

2. 3. 3氫氧化鈉濃度

氫氧化鈉濃度決定溶液的pH，室溫下苯酚在水中的溶解度較小，8?羥基喹啉則幾乎不溶于水，但兩者都可溶于酸、堿溶液，故溶液的pH決定了2種單體在溶液中的溶解量，也影響兩者在溶液體系中的電離和存在狀態(tài)。另一方面，Na+、OH?會(huì)跟單體離子一起參與電遷移，從而減弱了電遷移所承擔(dān)的有效傳質(zhì)分量。研究了溶液中 NaOH濃度不同時(shí)，所得聚合膜在NaCl溶液中的耐蝕性，具體腐蝕參數(shù)列于表3，其余工藝參數(shù)同2.3.2。

表3　氫氧化鈉濃度不同時(shí)聚合膜在NaCl溶液中的腐蝕參數(shù)Table 3　Corrosion parameters of polymer films prepared at various sodium hydroxide concentrations in NaCl solution

從表3可知，氫氧化鈉濃度為0.8 mol/L時(shí)，膜的腐蝕電位最正，腐蝕電流密度最低。堿性較弱時(shí)，8?羥基喹啉分子電離的量不夠，成膜不完整，耐蝕性能不佳；堿性過(guò)高時(shí)，由于 Na+和OH?分子量小，比單體離子更容易發(fā)生電遷移，故而大大減弱了電遷移所承擔(dān)的有效傳質(zhì)分量，導(dǎo)致膜的沉積量不夠，耐蝕性也下降。該結(jié)果與循環(huán)伏安法電沉積聚8?羥基喹啉膜的研究結(jié)果［18-19］一致。

2. 3. 4掃描速率

掃描速率影響膜的致密性，從而影響膜的耐蝕性。其余條件同 2.3.3，不同掃描速率下所得聚合膜在 NaCl溶液中的腐蝕參數(shù)見(jiàn)表4。

表4　掃描速率不同時(shí)聚合膜在NaCl溶液中的腐蝕參數(shù)Table 4　Corrosion parameters of polymer films prepared at various scan rates in NaCl solution

從表4可知，掃描速率為100 mV/s時(shí)，膜的腐蝕電位最正，腐蝕速率最小。因此最佳掃描速率為100 mV/s，是采用0.002 mol/L 8?羥基喹啉單獨(dú)聚合最佳掃描速率（30 mV/s）［18-19］的3倍多。本工藝的單體濃度明顯較大，說(shuō)明單體溶液中可參與反應(yīng)的離子數(shù)增多時(shí)，掃描速率也要相應(yīng)增大，才能得到性能較好的膜。這也間接說(shuō)明苯酚參與了電沉積過(guò)程。

2. 3. 5循環(huán)次數(shù)

循環(huán)次數(shù)會(huì)影響膜的厚度，從而影響膜的耐蝕性。表5所示為掃描速率為100 mV/s，循環(huán)次數(shù)不同時(shí)所得膜在NaCl溶液中的耐蝕性，其余條件同2.3.4。

表5　循環(huán)次數(shù)不同時(shí)聚合膜在NaCl溶液中的腐蝕參數(shù)Table 5　Corrosion parameters of polymer films prepared at various cycle numbers in NaCl solution

從表5可知，循環(huán)次數(shù)為6時(shí)，膜的腐蝕電位最正，腐蝕速率最小。循環(huán)次數(shù)較小時(shí)，膜的厚度和完整性都不佳，因此耐腐蝕性能不好。循環(huán)次數(shù)達(dá)到6后，繼續(xù)增加循環(huán)次數(shù)可能會(huì)破壞膜的整體結(jié)構(gòu)，使得膜的耐蝕性能降低。與使用循環(huán)伏安法單獨(dú)電沉積聚8?羥基喹啉的研究結(jié)果［18-19］對(duì)比可知，8?羥基喹啉單獨(dú)聚合時(shí)的最佳循環(huán)次數(shù)為8，由于本工藝的單體濃度是前者的10倍多，故只需掃描6圈即可達(dá)到最佳效果。

2. 4 性能表征

2. 4. 1耐蝕性

分別對(duì)不同試樣進(jìn)行鹽水浸泡試驗(yàn)、三氯化鐵縫隙試驗(yàn)，以模擬中、酸性條件下氯離子對(duì)試樣的腐蝕情況，測(cè)定了各自在3.5% NaCl溶液中的Tafel極化曲線（圖3）并進(jìn)行擬合，結(jié)果見(jiàn)表6。從表6可知，鍍鎳工件電沉積2種膜后，其耐蝕性能均改善，其中電沉積聚8?羥基喹啉-苯酚復(fù)合膜的耐蝕性優(yōu)于聚8?羥基喹啉膜，說(shuō)明復(fù)合膜有效延緩了氯離子對(duì)基體的腐蝕。

圖3　不同試樣的Tafel曲線Figure 3　Tafel curves for different samples

表6　不同試樣的腐蝕試驗(yàn)結(jié)果Table 6　Corrosion test results of different samples

2. 4. 2表面形貌

空白工件和電沉積聚8?羥基喹啉-苯酚復(fù)合膜后工件的SEM照片見(jiàn)圖4。從圖4可知，循環(huán)伏安法電沉積聚8?羥基喹啉-苯酚復(fù)合膜后，原有的孔隙被覆蓋，薄膜平整、均一，大大減少了基體與水、氧等物質(zhì)的接觸，從而抑制了電化學(xué)腐蝕的發(fā)生，提高了工件的耐蝕性。

圖4　鍍鎳工件電沉積聚合物薄膜前、后的SEM照片F(xiàn)igure 4　SEM images of nickel-plated workpiece before and after electrodeposition of polymer thin film

3　結(jié)論

（1） 采用循環(huán)伏安法可在鍍鎳件表面成功制得淺黃色透明的聚8?羥基喹啉-苯酚復(fù)合膜。

（2） 循環(huán)伏安法電沉積聚8?羥基喹啉-苯酚復(fù)合膜的最優(yōu)工藝條件為：8?羥基喹啉和苯酚的濃度之比1∶30，單體總濃度0.021 mol/L，NaOH濃度0.8 mol/L，掃描速率100 mV/s，循環(huán)次數(shù)6。

（3） 聚8?羥基喹啉-苯酚復(fù)合薄膜的耐蝕性優(yōu)于聚8?羥基喹啉薄膜，復(fù)合薄膜表面平整、均一，有效提高了工件的耐蝕性。

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［ 編輯：周新莉 ］

Electrodeposition of poly-8-hydroxyquinoline-phenol composite film by cyclic voltammetric method

// LIU Xiao-qin， HUANG Feng-xiang*， ZENG Dong-ming， HUANG Fa-jun， LIU Zhong-xing

A poly-8-hydroxyquinoline-phenol composite film was prepared on nickel-plated workpiece by cyclic voltammetric method. The effects of concentration ratio of 8-hydroxyquinoline to phenol， total monomer concentration， sodium hydroxide concentration， scan rate， and cycle number on the corrosion resistance of composite film were studied. The corrosion resistance of poly-8-hydroxyquinoline-phenol composite film， poly-8-hydroxyquinoline film， and untreated nickel-plated workpiece were comparably studied through one-week immersion test in salt solution， ferric chloride crevice corrosion test，and Tafel curve measurement. The surface composition and morphology of the composite film obtained were characterized by infrared spectrometer and scanning electron microscope， respectively. The optimal process parameters for electrodeposition of composite film are as follows： concentration ratio of 8-hydroxyquinoline to phenol 1：30， total monomer concentration 0.021 mol/L，NaOH concentration 0.8 mol/L， scan rate 100 mV/s， cycle number 6， and room temperature. The poly-8-hydroxyquinolinephenol composite thin film obtained under the optimal conditions has a corrosion potential of ?0.277 0 V and corrosion rate of 4.54 × 10?4g/（m2·h）. Its corrosion resistance is better than that of poly-8-hydroxyquinoline film and far better than that of untreated nickel-plated workpiece.

8-hydroxyquinoline； phenol； polymerization； electrodeposition； cyclic voltammetry； nickel； corrosion resistance First-author's address： Jiangxi Nerin Precious Metals Science Technology Co.， Ltd.， Nanchang 330031， China

TQ153.19

A

1004 - 227X （2015） 01 - 0001 - 07

2014-07-28

2014-11-11

中南大學(xué)中央高校基本科研業(yè)務(wù)費(fèi)專項(xiàng)資金（2013zzts172）。

劉小勤（1988-），女，湖北隨州人，碩士，助理工程師，主要研究方向?yàn)榻饘俑g與防護(hù)。

黃鳳祥，助理工程師，（E-mail） huangfengxiang1@126.com。