王超++曹多禮
摘 要: 在國(guó)外學(xué)者關(guān)于多焦點(diǎn)拋物面天線設(shè)計(jì)思想的基礎(chǔ)上,針對(duì)多波束天線設(shè)計(jì)中各饋源位置已知的情況,提出了一種改進(jìn)的多焦點(diǎn)拋物面天線設(shè)計(jì)方法。利用其對(duì)反射面進(jìn)行賦形,設(shè)計(jì)了饋源位于±270 mm,±150 mm,0 mm的五焦點(diǎn)拋物面天線,通過優(yōu)化基礎(chǔ)拋物面加權(quán)系數(shù),使得邊緣波束與中心波束之間的增益差與標(biāo)準(zhǔn)反射面相比減少了0.76 dBi和0.2 dBi,使得覆蓋區(qū)域內(nèi)每個(gè)波束的增益趨于平均,并且滿足低旁瓣的要求。
關(guān)鍵詞: 多焦點(diǎn)拋物面天線設(shè)計(jì)方法; 反射面賦形; 饋源位置; 加權(quán)系數(shù)優(yōu)化
中圖分類號(hào): TN823+.2?34 文獻(xiàn)標(biāo)識(shí)碼: A 文章編號(hào): 1004?373X(2015)22?0008?04
為了滿足不斷增加的寬帶接入和通信服務(wù)的多樣化需求,可以與2個(gè)及2個(gè)以上站點(diǎn)通信的高增益多波束天線受到了各國(guó)的普遍重視[1]。一般地,要設(shè)計(jì)基于單偏置反射面的高增益多波束天線,有兩種方法:一種是圓環(huán)反射面天線;另一種是多焦點(diǎn)拋物反射面天線。前者在不同的波束方向產(chǎn)生相同相位,但它的孔徑效率很低。而多焦點(diǎn)反射面天線相比其有較高的孔徑效率,可以用一個(gè)相對(duì)簡(jiǎn)單的天線結(jié)構(gòu)進(jìn)行寬角掃描,其焦點(diǎn)的位置可以影響天線的方向圖和天線結(jié)構(gòu),因此可以通過調(diào)整焦點(diǎn)位置來優(yōu)化反射面天線性能。但是焦點(diǎn)排列的設(shè)計(jì)靈活性有限,其孔徑效率會(huì)隨著焦點(diǎn)的增多而下降。本文基于國(guó)外學(xué)者關(guān)于多焦點(diǎn)拋物反射面天線的設(shè)計(jì)思想,針對(duì)一些多波束天線設(shè)計(jì)中各饋源位置已知的情況,提出了一種改進(jìn)的多焦點(diǎn)拋物反射面天線設(shè)計(jì)方法,通過賦形反射面增大邊緣波束增益,從而使得覆蓋區(qū)域內(nèi)各個(gè)波束的增益趨于平均,并且滿足低旁瓣的要求[2]。
1 反射面賦形原理
多焦點(diǎn)反射面天線是由2個(gè)及2個(gè)以上拋物面的加權(quán)平均構(gòu)成,其中每個(gè)拋物面都被稱為基本拋物面。這些拋物面的軸向各不相同,其都是由拋物線旋轉(zhuǎn)得到,這些拋物線在坐標(biāo)系中的x坐標(biāo)值不變,即x=xc。但是文獻(xiàn)[3]中的方法只是針對(duì)各基本拋物面軸向角[δi]已知的情況,在大多數(shù)應(yīng)用中軸向角都是未知的,而各個(gè)饋源的位置則很容易得到,因此傳統(tǒng)多焦點(diǎn)反射面設(shè)計(jì)方法就不適用。本文針對(duì)各饋源位置已知的情況,提出了一種改進(jìn)的多焦點(diǎn)反射面設(shè)計(jì)方法,賦形原理如圖1所示。圖2為五焦點(diǎn)拋物反射面的示意圖。
這種多焦點(diǎn)反射面天線的設(shè)計(jì)步驟如下:
(1) 用焦距為[f0]的環(huán)形表面來近似設(shè)計(jì)的反射面。
(2) 設(shè)定一個(gè)基礎(chǔ)拋物面的焦點(diǎn)為[FFi,f0],將參考拋物面向與焦點(diǎn)F相反的方向旋轉(zhuǎn)[δi],得到拋物面[zi′(xc,y)],其對(duì)稱軸[OF′]與直線[z=f0]的焦點(diǎn)為[F′](-[Fi],[f0])。其中:
2 五焦點(diǎn)拋物反射面天線仿真
本文設(shè)計(jì)的五焦點(diǎn)拋物反射面天線口徑D=1.3 m,頻率為20 GHz,饋源采用30 mm口徑的基模喇叭[4]。參考拋物面焦徑[f0=1.6 m],偏置量[H=300 mm],通過計(jì)算可得半張角[5?6][θ*=21.209 231°],[θf=31.828 89°]。
設(shè)置xc=0,5個(gè)焦點(diǎn)位置(即饋源位置)y軸分量[Fi]分別為:270 mm,150 mm,0 mm,-150 mm,-270 mm,分別將5個(gè)饋源編號(hào)為1~5號(hào)饋源。由第1節(jié)中式(1)~式(5)可以得到各基本拋物面軸向角[δi]分別為:-9.578 4°,-5.355 8°,0°,5.355 8°,9.578 4°。各焦距[fi]為:1 577.7 mm,1 593 mm,1 600 mm,1 593 mm,1 577.7 mm。
由式(6)可以得到基礎(chǔ)拋物面在各自基礎(chǔ)坐標(biāo)系下的表達(dá)式,根據(jù)第1節(jié)中的推理,其可以經(jīng)過坐標(biāo)平移和旋轉(zhuǎn)得到各基礎(chǔ)拋物面在標(biāo)準(zhǔn)坐標(biāo)系下的表達(dá)式,由式(7)加權(quán)平均得到最后的五焦點(diǎn)拋物反射面[7]。為了改善最大角度掃描時(shí)的方向圖特性,本文反射面邊緣根據(jù)最大軸向角9.578 4°掃描時(shí)的口徑相位分布來確定,因此初始加權(quán)系數(shù)定義為:
[wi=1-k11-(δi9.578 4)2] (8)
式中[k1]取0.5,則初始加權(quán)系數(shù)為(1,0.656 33,0.5,0.656 33,1)。
使用Matlab仿真得到賦形反射面的表面圖形,選取4 356個(gè)離散點(diǎn)來描述五焦點(diǎn)反射面的表面形狀,將其輸入到Grasp中,然后分別對(duì)5個(gè)饋源進(jìn)行仿真。由于反射面關(guān)于原點(diǎn)對(duì)稱,5個(gè)饋源位置也關(guān)于z軸對(duì)稱,因此饋源作用于反射面后的輻射方向圖也是對(duì)稱的[8],這里只給出3~5號(hào)饋源的輻射方向圖,如圖3~如圖3~圖5所示,5號(hào)饋源照射反射面后的二次方向圖增益為43.13 dBi,旁瓣為20 dBi,歸一化旁瓣為-23.13 dBi,3 dB波束寬度為[0.87°],波束指向?yàn)閇+8.625°]。4號(hào)饋源照射反射面后的二次方向圖增益為45.56 dBi,旁瓣為22.22 dBi,歸一化旁瓣為-23.34 dBi,3 dB波束寬度為0.74°,波束指向?yàn)閇+4.875°]。3號(hào)饋源照射反射面后的增益為46.63 dBi,旁瓣為24.92 dBi,歸一化旁瓣為-21.71 dBi,3 dB波束寬度為0.74°,波束指向?yàn)?°。邊緣的5號(hào)(1號(hào))饋源產(chǎn)生波束與中心波束相比,增益相差了3.5 dBi,4號(hào)(2號(hào))饋源產(chǎn)生的波束與中心波束相比,增益相差了1.07 dBi。將5號(hào)(1號(hào))饋源所對(duì)應(yīng)的波束增益定為優(yōu)化目標(biāo),其相應(yīng)的加權(quán)系數(shù)為優(yōu)化變量,增大優(yōu)化變量,使得優(yōu)化目標(biāo)增大,從而減小各個(gè)波束之間的增益差。
初始的加權(quán)系數(shù)由式(8)得到,通過不斷的優(yōu)化、仿真驗(yàn)證,最后得到當(dāng)優(yōu)化系數(shù)為[1.5,0.35,0.112 66,0.35,1.5]時(shí),天線各波束方向圖最優(yōu),分別如圖6~圖8所示(因?yàn)閷?duì)稱性,第4、第5個(gè)波束方向圖不再給出)。系數(shù)優(yōu)化后,5號(hào)(1號(hào))饋源產(chǎn)生波束增益為43.26 dBi,旁瓣為20.61 dBi,歸一化旁瓣為-22.63 dBi,3 dB波束寬度為0.87;4號(hào)(2號(hào))饋源產(chǎn)生的波束增益為45.47 dBi,旁瓣為22.65 dBi,歸一化旁瓣為-22.82 dBi,3 dB波束寬度為0.74°;中間3號(hào)饋源的波束增益為46.50 dBi,旁瓣為24.91 dBi,歸一化旁瓣為-21.59 dBi,3 dB波束寬度為0.74°。5號(hào)(1號(hào))饋源產(chǎn)生的波束與中心波束相比,增益相差了3.24 dBi,4號(hào)(2號(hào))饋源產(chǎn)生的波束與中心波束相比,增益相差了1.03 dBi。
對(duì)單反射面而言,饋源橫向偏焦會(huì)使得其輻射方向圖的最大偏向產(chǎn)生偏離,增益會(huì)隨著波束的掃描而下降,波束寬度也會(huì)相應(yīng)變寬。而且波束的偏離會(huì)抬高偏離一側(cè)旁瓣電平,同時(shí)第一旁瓣包容于主瓣中會(huì)造成波瓣不對(duì)稱展寬[9]。而在波束偏離對(duì)側(cè),旁瓣電平有所降低,掃描過程中隨著掃描角增大,泄漏損失也會(huì)增加[10]。本文對(duì)標(biāo)準(zhǔn)偏置拋物反射面天線二次方向圖進(jìn)行仿真,得到增益和歸一化旁瓣隨波束指向(對(duì)應(yīng)饋源坐標(biāo)30 mm間隔)的變化圖,并將根據(jù)文中方法得到的5焦點(diǎn)拋物反射面天線的增益和歸一化旁瓣畫在同一圖中,得到的對(duì)比結(jié)果如圖9所示。
標(biāo)準(zhǔn)偏置拋物面天線和本課題仿真結(jié)果如表1所示,由表1可知,標(biāo)準(zhǔn)拋物面波束指向[±8.625],[±4.875],[0]時(shí)增益分別為42.81 dBi,45.58 dBi,46.81 dBi,歸一化旁瓣分別為-22.89 dBi,-19.95 dBi,-19.61 dBi,邊緣波束與中心波束增益差分別為4 dBi和1.23 dBi。而本課題中用到的方法仿真得到的波束增益分別為43.26 dBi,45.47 dBi,46.50 dBi,歸一化旁瓣為-22.63 dBi,-22.83 dBi,
-21.59 dBi,邊緣波束與中心波束增益差分別為3.24 dBi和1.03 dBi,其增益差與標(biāo)準(zhǔn)反射面相比減少了0.76 dBi和0.2 dBi,邊緣波束增益也比標(biāo)準(zhǔn)反射面高,但是中心波束增益降低,通過犧牲部分中心波束增益來提高邊緣波束的增益;歸一化旁瓣與標(biāo)準(zhǔn)反射面相比也相應(yīng)降低了,且都在-20 dBi以下,達(dá)到了低旁瓣的要求。
表1 波束增益與歸一化旁瓣對(duì)比
3 結(jié) 論
本文針對(duì)一般反射面設(shè)計(jì)中饋源位置優(yōu)先確定的情況,在傳統(tǒng)多焦點(diǎn)拋物反射面設(shè)計(jì)方法的基礎(chǔ)上,提出了一種改進(jìn)的多焦點(diǎn)反射面設(shè)計(jì)方法。通過加權(quán)平均的方法實(shí)現(xiàn)反射面的賦形,并通過優(yōu)化加權(quán)系數(shù)提高天線性能,得到高增益、低旁瓣的多波束天線。作為示例設(shè)計(jì)了5焦點(diǎn)拋物反射面,并將仿真結(jié)果與標(biāo)準(zhǔn)反射面對(duì)比,其邊緣波束增益較高,旁瓣電平較低,同時(shí)天線的掃描能力也得到增強(qiáng)。
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