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      ZnSe晶體生長(zhǎng)技術(shù)的發(fā)展現(xiàn)狀

      2015-12-10 07:54:09武夢(mèng)鴿袁昕汪洋崔亮賀世杰
      山東工業(yè)技術(shù) 2015年24期

      武夢(mèng)鴿+袁昕+汪洋+崔亮+賀世杰

      摘 要:本文簡(jiǎn)述了ZnSe晶體的溶液生長(zhǎng)法、熔體生長(zhǎng)法、氣相輸運(yùn)法等制備方法以及ZnSe晶體研究現(xiàn)狀和發(fā)展趨勢(shì),分析了這些制備方法的優(yōu)缺點(diǎn)并詳述了ZnSe晶體的生長(zhǎng)過(guò)程和工藝參數(shù)的設(shè)置,對(duì)獲得高質(zhì)量的ZnSe晶體具有十分重要的指導(dǎo)意義。

      關(guān)鍵詞:ZnSe晶體;熔體生長(zhǎng)法;氣相輸運(yùn)法

      DOI:10.16640/j.cnki.37-1222/t.2015.24.035

      1 引言

      ZnSe具有較高的發(fā)光效率以及較低的吸收系數(shù),是一種很好的發(fā)光材料。它具有直接躍遷型能帶結(jié)構(gòu),在室溫下其禁帶寬度為2.67eV,當(dāng)溫度降至4.2K時(shí)其禁帶寬度可達(dá)2.828eV。透光范圍隨溫度變化較小,一般在0.5μm~22μm范圍內(nèi)。近年來(lái),廣泛應(yīng)用于藍(lán)光半導(dǎo)體激光器件、非線性光熱器件和紅外器件等領(lǐng)域[1-3]。因此。制備高性能ZnSe晶體成為目前一項(xiàng)主要研究任務(wù)。

      近些年來(lái),制備ZnSe晶體的方法有很多種,如Bridgman法、區(qū)熔法、水熱法、化學(xué)氣相輸運(yùn)法(CVT)、物理氣相輸運(yùn)法( PVT )。國(guó)內(nèi)外專(zhuān)家學(xué)者不斷改進(jìn)這些方法和工藝,努力制備出高質(zhì)量的ZnSe晶體。

      2 ZnSe晶體的制備方法

      2.1 溶液生長(zhǎng)法

      從溶液中生長(zhǎng)晶體的主要方法是水熱法,其又稱(chēng)為高溫溶液法,其中包括溫差法、降溫法、升溫法及等溫法。目前主要采用溫差水熱結(jié)晶,依靠容器內(nèi)的溶液維持溫差對(duì)流形成飽和狀態(tài)[4,5]。

      2.2 熔體生長(zhǎng)法

      ZnSe是淡黃色的面心立方閃鋅礦型結(jié)構(gòu)。常壓下1000℃左右升華,約在9.8MPa高壓的惰性保護(hù)氣氛下熔點(diǎn)為1515℃。由于其在常壓下升華,只有在高壓高溫條件下才能得到ZnSe熔體,其一般通過(guò)使用電阻加熱方式獲得高溫。主要包括布里奇曼法和區(qū)熔生長(zhǎng)。

      (1)布里奇曼法 該法是一種常用的晶體生長(zhǎng)方法。首先將用于晶體生長(zhǎng)用的材料裝在圓柱型的坩堝中,然后緩慢地下降,并通過(guò)一個(gè)具有一定溫度梯度的加熱爐,爐溫控制在略高于材料的熔點(diǎn)附近。

      (2)區(qū)熔生長(zhǎng) 區(qū)熔法又稱(chēng)Fz法,即懸浮區(qū)熔法。區(qū)熔法是利用熱能在半導(dǎo)體棒料的一端產(chǎn)生一熔區(qū),再熔接晶體籽晶。調(diào)節(jié)溫度使熔區(qū)緩慢地向棒的另一端移動(dòng),通過(guò)整根棒料,生長(zhǎng)成一根晶體,晶向與籽晶的相同。

      2.3 氣相輸運(yùn)法

      氣相輸運(yùn)法一般分為化學(xué)氣相輸運(yùn)法和物理氣相輸運(yùn)法兩種。此法一般是通過(guò)加熱等使物質(zhì)揮發(fā)或分解出氣體,通過(guò)輸運(yùn)至溫度較低的位置并與其他物質(zhì)發(fā)生反應(yīng)的材料合成方法。氣相生長(zhǎng)分為單組分體系和多組分體系生長(zhǎng)兩種。單組分氣相生長(zhǎng)要求氣相具備足夠高的蒸氣壓,利用在高溫區(qū)汽化升華、在低溫區(qū)凝結(jié)生長(zhǎng)的原理進(jìn)行生長(zhǎng)所生長(zhǎng)的大多為針狀、片狀的晶體體。多組分氣相生長(zhǎng)一般多用于薄膜生長(zhǎng),其中外延生長(zhǎng)是一種晶體浮生于另一種晶體上。其制備工藝具有反應(yīng)效率高、純度高和合成溫度低等特點(diǎn)。

      3 ZnSe晶體基本性質(zhì)

      ZnSe晶體的生長(zhǎng)技術(shù)還需要進(jìn)一步的改進(jìn),急需解決的問(wèn)題是晶體生長(zhǎng)過(guò)程中溫度場(chǎng)的控制、物質(zhì)傳輸控制、工藝條件控制以及晶體質(zhì)量等,這些問(wèn)題的解決都需要深刻理解ZnSe晶體的性質(zhì)[7]。ZnSe的熔點(diǎn)是1530℃,它在常壓下1000℃直接從固體升華,只有在高溫高壓下才可以將其從固體變?yōu)槿垠w,因而給制備加工ZnSe晶體帶來(lái)很大的困難。ZnSe作為一種典型的紅外材料與光電功能材料,其分子式為ZnSe,分子量為144.33,其主要有常溫穩(wěn)定相立方閃鋅礦結(jié)構(gòu)和高溫穩(wěn)定相六方纖鋅礦結(jié)構(gòu)兩種晶型,兩者大約在1425°溫度下會(huì)發(fā)生相轉(zhuǎn)變。其中比較常見(jiàn)的閃鋅礦ZnSe結(jié)構(gòu)屬于立方晶系。

      4 結(jié)論

      為了獲得高質(zhì)量的ZnSe晶體,需要針對(duì)ZnSe的基本性質(zhì),根據(jù)各種制備方法的優(yōu)缺點(diǎn),針對(duì)熔體法制備的ZnSe晶體,可以獲得大尺寸工業(yè)生產(chǎn),但其純度有待改進(jìn)。針對(duì)氣相法制備的ZnSe晶體,純度較高,但尺寸有待于進(jìn)一步增加,如果能解決這兩個(gè)關(guān)鍵的純度和尺寸的問(wèn)題,即降低了成本,又獲得了高質(zhì)量的ZnSe晶體,滿(mǎn)足了工業(yè)化需求,將會(huì)解決這里材料的關(guān)鍵問(wèn)題。

      參考文獻(xiàn):

      [1]S.Fujiwara,H.Morishita,T.Kotani,K.Matsumoto,T.Shirakawa. Growth of large ZnSe single crystal by CVT method[J]. Journal of Crystal Growth, 1998,186:60-66.

      [2]C.S.Fang, Q.T.Gu, J.Q.Wei, Q.W.Pan. et al. Growth of ZnSe single crystal[J]. Journal of crystal Growth, 2000, 209: 542-546.

      [3]A.Urbiata, P. Femaade, J.Piqueras, et al. Scanning Electron Microscopy Characterization of ZnSe Single Crystals Grown by Solid-phase Recrystallization [J]. Materials Science and Engineering B, 2000, 78(2):105-108.

      [4]王占國(guó).半導(dǎo)體材料研究的新進(jìn)展[J].半導(dǎo)體技術(shù),2002,27(03):8-14.

      [5]宮華.水熱法制備硒化鋅半導(dǎo)體材料及其性能研究.碩士學(xué)位論文.西安:長(zhǎng)安大學(xué),2004

      [6]趙秀琴,劉俊.硒化鋅晶體的水熱控制生長(zhǎng)[J].化學(xué)世界,2008(10):584~586

      [7]魯泥藕,余懷之,霍承松等.大功率激光窗口ZnSe的制備原理及方法[J].功能材料,2004,35(01):246-248.

      基金項(xiàng)目 :國(guó)家大學(xué)生創(chuàng)新項(xiàng)目(201510702022)endprint

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