專利公開、技術(shù)溢出與專利私人價值

李晨樂 葉靜怡

一、引言

專利保護是鼓勵創(chuàng)新的重要制度安排。專利制度有兩個社會目標(biāo)：一是通過授予專利權(quán)以鼓勵研發(fā)投資，二是通過公開專利申請的信息以促進技術(shù)知識傳播。專利公開能夠產(chǎn)生技術(shù)溢出，增加社會公共知識儲備，既避免重復(fù)研發(fā)投資，又為后繼創(chuàng)新提供必要的知識基礎(chǔ)。專利公開的正外部性通常是累積創(chuàng)新框架下專利設(shè)計模型的重要假設(shè)前提。[1-2]實證研究也支持了專利制度有利于技術(shù)知識的地理擴散。[3-4]

既有研究側(cè)重專利技術(shù)溢出的社會收益，卻忽略了專利技術(shù)溢出的私人成本。當(dāng)技術(shù)溢出為競爭對手獲得時，可能會加劇競爭，侵蝕原專利商業(yè)回報，甚至降低創(chuàng)新者研發(fā)投資和專利申請積極性。Cohen(2000)[5]對1994年美國制造業(yè)企業(yè)調(diào)查表明，“信息公開”和“易被模仿”均是企業(yè)不愿申請專利的主要原因。Aoki(1999)[6]則指出專利技術(shù)溢出對專利申請激勵的負(fù)向影響程度與專利保護強度相關(guān)。專利技術(shù)溢出對原專利私人價值是否有負(fù)向影響？影響程度是否有異質(zhì)性？上述問題的研究能夠為評估專利制度有效性提供新的視角，為專利制度設(shè)計提供重要政策參考。但目前關(guān)于專利技術(shù)溢出的實證研究并不豐富，基于中國專利數(shù)據(jù)的實證研究則更為匱乏。

本文試圖在專利技術(shù)溢出研究領(lǐng)域做出新探索?；?993—2009年中國微觀專利數(shù)據(jù)分析，以同技術(shù)領(lǐng)域?qū)＠暾埰骄_時間為技術(shù)溢出的代理變量，以授權(quán)專利是否維持為專利私人價值代理變量，實證檢驗源于專利公開的技術(shù)溢出對專利私人價值的影響，并且進一步探討企業(yè)、高校、個人三類專利技術(shù)溢出的異質(zhì)性。研究發(fā)現(xiàn)：第一，同領(lǐng)域?qū)＠夹g(shù)溢出對專利私人價值有顯著負(fù)向影響，且專利技術(shù)溢出的負(fù)向影響隨著技術(shù)領(lǐng)域規(guī)模的擴大而增強。第二，在規(guī)模較大的技術(shù)領(lǐng)域中，企業(yè)專利技術(shù)溢出的負(fù)效應(yīng)強于高校技術(shù)溢出。第三，企業(yè)、高校、個人分樣本回歸表明，專利技術(shù)溢出對企業(yè)專利維持率有顯著負(fù)向影響，對高校、個人專利則沒有顯著影響，說明專利技術(shù)溢出的負(fù)效應(yīng)在市場化導(dǎo)向更強的專利中更為顯著。專利技術(shù)溢出程度與專利高度、寬度、保護強度密切相關(guān)，專利制度設(shè)計應(yīng)在鼓勵研發(fā)和鼓勵技術(shù)知識傳播兩個社會目標(biāo)之間取得平衡。

二、文獻綜述與研究假說

(一)專利公開與專利技術(shù)溢出

專利制度的一個重要社會目標(biāo)為通過公開專利的技術(shù)細(xì)節(jié)以促進技術(shù)知識傳播，經(jīng)濟學(xué)中通常把專利公開產(chǎn)生的技術(shù)知識傳播稱為一種技術(shù)溢出效應(yīng)(spillovers)，或者信息的正外部性。[1-2]為了保證專利信息向社會公布，許多國家尤其是發(fā)達經(jīng)濟國家的專利制度都明確規(guī)定專利申請自申請日起滿18個月予以公布(專利申請法定公開)，并且允許申請人早于18個月公開其專利申請(提前公開)。

專利公開的社會收益在理論和實證研究領(lǐng)域都得到了關(guān)注。專利公開能夠產(chǎn)生技術(shù)溢出，降低后繼研發(fā)成本，進而促進未來創(chuàng)新，通常是最優(yōu)專利制度設(shè)計理論模型的重要假設(shè)前提。[2]實證研究一方面肯定了專利公開在促進社會技術(shù)知識傳播方面的作用，另一方面也注意到了技術(shù)溢出效果的異質(zhì)性。Cohen和Goto(2002)[7]對美國、日本制造業(yè)企業(yè)研發(fā)實驗室的調(diào)查研究表明，美國企業(yè)通常通過非專利渠道獲取信息，專利文獻作用不大；而專利顯著促進了日本的行業(yè)內(nèi)技術(shù)溢出。Moser(2011)[3]、Khan(2014)[4]指出專利機制有利于技術(shù)信息成體系地匯報、檢索、擴散，減少發(fā)明人對地區(qū)性技術(shù)傳播渠道的依賴，從而促進技術(shù)知識的地理擴散。Harhoff (2011)[8]的發(fā)明人調(diào)查為專利技術(shù)溢出效應(yīng)提供了更為直接的證據(jù)：閱讀專利文獻平均能夠節(jié)省12.2小時的研究時間，中位數(shù)時間為5.9小時；但同技術(shù)領(lǐng)域也呈現(xiàn)出極大的異質(zhì)性，電信領(lǐng)域中位數(shù)節(jié)省時間為每專利1.2小時，而有機化學(xué)領(lǐng)域為27.6小時。

也有學(xué)者關(guān)注專利技術(shù)溢出對專利私人價值可能的負(fù)向影響。技術(shù)溢出是創(chuàng)新帶來的外部性，當(dāng)技術(shù)溢出流向競爭對手時，可能會降低競爭對手開發(fā)替代品的成本，進而加劇產(chǎn)品競爭，侵蝕原發(fā)明商業(yè)回報，也可能促使競爭對手開發(fā)出新一代產(chǎn)品，使原專利過時。[6][9]Maurseth(2005)[10]以來自同技術(shù)領(lǐng)域的專利前向引用次數(shù)(forward citations)度量競爭對手獲得的專利技術(shù)溢出。他認(rèn)為，同技術(shù)領(lǐng)域內(nèi)的發(fā)明競爭更為激烈，因此相較于跨技術(shù)領(lǐng)域的引用，同技術(shù)領(lǐng)域的引用更為“危險”?；?980—1994年挪威專利申請數(shù)據(jù)的研究表明，同技術(shù)領(lǐng)域?qū)＠迷蕉?，專利維持時間越短，五年內(nèi)被同行引用過的專利放棄概率高達未被引用專利的七倍；來自不同技術(shù)領(lǐng)域的引用次數(shù)則與專利維持時間正相關(guān)，說明跨技術(shù)領(lǐng)域引用反映了專利較高的技術(shù)和經(jīng)濟價值。同樣以專利引用作為技術(shù)溢出的代理變量，Kang (2015)[11]發(fā)現(xiàn)，華為、ZTE這兩家競爭度較高的中國企業(yè)之間存在較高的專利互相引用率。

綜上所述，關(guān)于專利技術(shù)溢出的實證研究并不豐富，且多關(guān)注專利技術(shù)溢出的社會收益，對專利技術(shù)溢出的私人成本考察較少。研究方法方面，或者通過調(diào)查數(shù)據(jù)考察技術(shù)溢出，或者以專利引用作為技術(shù)溢出的度量指標(biāo)。本文基于專利公開視角在專利技術(shù)溢出領(lǐng)域做出新探索。

(二)專利私人價值：度量指標(biāo)與影響因素

專利私人價值*與私人價值相對應(yīng)，專利的社會價值則強調(diào)專利公開的社會收益，即既有專利作為“巨人的肩膀”為其他社會成員帶來的信息正外部性。[10][17]指專利保護能夠為專利權(quán)人帶來的商業(yè)回報，即在有專利權(quán)保護和無專利權(quán)保護這兩種狀況下，專利權(quán)人從其發(fā)明創(chuàng)造中所獲得的收益差異。[2][12]專利私人價值是反映專利保護有效性的重要指標(biāo)，其估計及影響因素研究受到了許多學(xué)者的關(guān)注。

Schankerman和Pakes(1986)[12]最早從專利維持*根據(jù)各國專利法的規(guī)定，專利獲得授權(quán)之后，專利持有人必須定期繳納專利維持費以保持專利的有效性，否則將“因未繳納專利費而專利權(quán)終止”。角度構(gòu)建了專利私人價值理論模型：由于專利獲得授權(quán)之后，專利持有人必須定期繳納專利維持費以保持專利的有效性，專利維持費可視為持有專利的成本，專利維持得越久，說明理性的專利權(quán)人愿意支付的維持成本越高，專利價值越高。在該模型基礎(chǔ)上，許多學(xué)者以專利維持決策作為專利私人價值的代理變量，結(jié)合各國專利費費率，對不同時期不同國家的專利價值進行了經(jīng)驗估計。研究顯示：專利價值分布偏斜度較大，少數(shù)專利價值較高；且專利價值因國別、時期、技術(shù)領(lǐng)域的不同而顯示出較大的差異性。[2]

也有學(xué)者以專利維持時間作為專利私人價值為代理變量，考察專利特征指標(biāo)與專利私人價值的相關(guān)性。包括專利族(patent family)*專利族表明同一項發(fā)明在多少個國家申請了專利，見國家知識產(chǎn)權(quán)局網(wǎng)站定義：由至少一個共同優(yōu)先權(quán)聯(lián)系的一組專利文獻，稱一個專利族。在同一專利族中每件專利文獻被稱作專利族成員，同一專利族中每件專利互為同族專利。在同一專利族中最早優(yōu)先權(quán)的專利文獻稱基本專利。http://www.sipo.gov.cn/wxfw/zlwxzsyd/zlwxjczs/zlwxyxxmcjs/200807/t20080701_409517.html。、專利權(quán)利數(shù)(patent claims)、技術(shù)領(lǐng)域數(shù)目等專利寬度代理變量[13]，專利引用(citations)、專利發(fā)明人數(shù)目等技術(shù)質(zhì)量代理變量，是否通過PCT申請、是否用于防御性動機等企業(yè)專利戰(zhàn)略變量[2]。

張古鵬等基于中國專利維持?jǐn)?shù)據(jù)的研究則發(fā)現(xiàn)，中國專利私人價值除了存在技術(shù)領(lǐng)域異質(zhì)性之外，還呈現(xiàn)出以下特征：第一，與美國、日本、歐洲國家在華申請的發(fā)明專利相比，國內(nèi)申請的發(fā)明專利私人價值較低，反映與主要發(fā)達國家存在技術(shù)差距；但由于國內(nèi)企業(yè)模仿、侵權(quán)行為的存在，中外專利價值差異有所縮小。第二，高校等研究機構(gòu)專利的私人價值低于企業(yè)，反映出高校等科研主導(dǎo)型研發(fā)機構(gòu)的研發(fā)活動與市場脫節(jié)。[14-16]

綜上所述，專利私人價值領(lǐng)域已有較為豐富的研究，本文從專利技術(shù)溢出視角進一步擴展和深化該領(lǐng)域研究。

(三)本文研究視角與研究假說

本文基于中國專利數(shù)據(jù)，從專利公開視角研究專利技術(shù)溢出對專利私人價值的影響。我國專利法也規(guī)定，發(fā)明專利申請自申請日起18個月予以公布(法定公開)，并且允許申請人早于18個月公開其專利申請(提前公開)。本文假設(shè)專利公開時間的差異會造成技術(shù)溢出程度的差異*John和Popp (2001)[17]的研究表明，盡管存在其他專利技術(shù)溢出方式，例如與專利技術(shù)相關(guān)的科技論文、學(xué)術(shù)會議、員工流動等，專利公開仍是專利技術(shù)溢出的主要渠道。基于1976—1996年美國專利數(shù)據(jù)研究發(fā)現(xiàn)，與公開較晚(大于24個月)的專利相比，公開較早(小于12個月)的專利并沒有呈現(xiàn)出更高的引用衰減率和更快的擴散速度，說明專利引用概率的差異主要取決于專利公開日期，而不是專利申請日期。，專利公開得越早，其他研究人員獲得技術(shù)信息的時間就越早，技術(shù)溢出程度就越大。待檢驗假說如下：

假說1：專利技術(shù)溢出對專利私人價值有負(fù)向影響，即專利公開越早，專利私人價值越低。

假說2：企業(yè)專利技術(shù)溢出對專利私人價值的負(fù)向影響強于高校專利技術(shù)溢出。

假說3：專利技術(shù)溢出對企業(yè)專利私人價值的負(fù)向影響強于高校專利。

企業(yè)專利和高校專利在申請動機和技術(shù)特征方面都存在差異。[16]企業(yè)作為盈利性機構(gòu)，專利申請的市場化應(yīng)用動機較強，而高校以科研和教學(xué)為主，更可能為了完成科研項目和申請科研基金資助。技術(shù)特征方面，高校專利相對側(cè)重基礎(chǔ)研究，而企業(yè)側(cè)重應(yīng)用研究，與市場聯(lián)系更為緊密。因此，本文預(yù)期企業(yè)專利技術(shù)溢出會呈現(xiàn)出更強的負(fù)效應(yīng)。

三、計量模型、變量選擇與數(shù)據(jù)

(一)計量模型

為了驗證上述假說，本文使用如下方程檢驗專利技術(shù)溢出對專利私人價值的影響：

Renewij,t=β1PUBij,t-1+β2Xij,t+μj+vt+εij,t

(1)

其中：i表示專利，j表示申請人，t為專利申請年份；Renew為專利私人價值代理變量，PUB為專利技術(shù)溢出代理變量，X表示專利特征、技術(shù)領(lǐng)域特征等控制變量；μj、vt分別為申請人、申請年份固定效應(yīng)；εij，t為隨機擾動項。采用固定效應(yīng)模型控制不可觀測的申請人異質(zhì)性。

(二)變量選擇

1.因變量。

本文以授權(quán)專利在樣本期內(nèi)是否維持(Renew)作為專利私人價值的代理變量。*專利私人價值另一個度量指標(biāo)為專利維持時間，即專利自申請日或授權(quán)日起至專利權(quán)終止或樣本觀測期末這一時間跨度。鑒于專利維持時間數(shù)據(jù)具有右截斷特征，通常用生存模型(survival analysis)分析。但由于本文數(shù)據(jù)量較大，專利申請主體數(shù)量較多，生存模型中無法控制申請人固定效應(yīng)，因此仍以授權(quán)專利是否維持(Renew)作為基準(zhǔn)回歸的因變量。穩(wěn)健性檢驗中將專利維持時間(Age)作為因變量。具體地，如果該專利截至樣本觀測期末(2011年12月31日)沒有“因未繳專利費而放棄”，Renew取1，反之取0。根據(jù)文獻綜述部分的論述，授權(quán)后維持的專利私人價值高于授權(quán)后放棄的專利。

2.自變量。

本文基于專利公開視角刻畫專利技術(shù)溢出。由于技術(shù)的學(xué)習(xí)與模仿更可能發(fā)生在技術(shù)相似度較高的領(lǐng)域[10]，借鑒Bloom(2013)[18]以相近技術(shù)領(lǐng)域企業(yè)研發(fā)投入加權(quán)平均值構(gòu)建技術(shù)溢出“池”的變量構(gòu)造方法，本文以同技術(shù)領(lǐng)域同年度專利申請*此處既包括未授權(quán)專利，也包括已授權(quán)專利。穩(wěn)健性檢驗則基于授權(quán)專利樣本構(gòu)建技術(shù)溢出變量。平均公開時間(PUB)作為技術(shù)溢出程度的代理變量，其中專利申請公開時間為專利自申請日期至專利公開日期之間的時間跨度。某技術(shù)領(lǐng)域某年度專利公開得越晚，社會獲得技術(shù)信息就越遲，技術(shù)溢出越小。技術(shù)領(lǐng)域方面，參考專利質(zhì)量指標(biāo)相關(guān)研究文獻，將四位IPC碼*在專利審查過程中，專利局根據(jù)國際專利分類標(biāo)準(zhǔn)(international patent classification，IPC)確定專利所屬的技術(shù)領(lǐng)域。IPC的分類體系由高到低依次為部(1個字母)、大類(2個數(shù)字)、小類(1個字母)，主組(1～3個數(shù)字)、小組(2～4個數(shù)字)，參考WIPO網(wǎng)站，http://www.wipo.int/classifications/ipc/en/。另外，一個專利可能屬于多個技術(shù)領(lǐng)域，本文以第一個技術(shù)領(lǐng)域為分類標(biāo)準(zhǔn)。作為同技術(shù)領(lǐng)域的分類標(biāo)準(zhǔn)。[13]

為了檢驗企業(yè)、高校、個人專利技術(shù)溢出效應(yīng)的差異，將技術(shù)溢出變量進一步分解為企業(yè)專利技術(shù)溢出(FmPUB)、高校專利技術(shù)溢出(SchPUB)、個人專利技術(shù)溢出(IndPUB)，依次為同技術(shù)領(lǐng)域同年度企業(yè)專利申請、高校專利申請、個人專利申請的平均公開時間。

考慮到技術(shù)溢出可能存在時滯，上述技術(shù)溢出變量均取滯后一期。

3.控制變量。

(1)控制專利申請?zhí)崆肮_決策變量(EP)。如果發(fā)明專利自申請日起480天*盡管嚴(yán)格按照專利法的規(guī)定，應(yīng)以18個月作為提前公開、法定公開的劃分標(biāo)準(zhǔn)，但考慮到實踐中可能存在的誤差，以480天作為劃分標(biāo)準(zhǔn)。內(nèi)已公開(提前公開)，則EP取1；如果發(fā)明專利大于480天才公開，則為法定公開，EP取0。將EP作為控制變量原因如下：第一，公開決策與專利技術(shù)溢出相關(guān)，自身專利公開得越早，其他研發(fā)人員獲取信息越快，技術(shù)溢出越大，對自身專利價值的負(fù)向影響可能越大。第二，專利申請?zhí)崆肮_決策可能受申請人專利戰(zhàn)略影響。對于比較成熟的市場，會傾向于提前公開以加快審批流程，搶占市場；對于前景不明的市場，則有可能選擇法定公開以延長審批時間，保持觀望狀態(tài)。[19]第三，已有基于中國發(fā)明專利數(shù)據(jù)的實證研究表明，與法定公開專利相比，提前公開專利授權(quán)率更高，技術(shù)質(zhì)量更好。[20]綜上，專利公開決策與個體專利技術(shù)溢出程度、申請人專利策略、專利技術(shù)質(zhì)量相關(guān)，而這些因素也可能影響專利維持決策，因此將其作為控制變量。

(2)專利特征控制變量。根據(jù)文獻綜述部分對專利私人價值相關(guān)性指標(biāo)的討論，以及數(shù)據(jù)可得性，對控制技術(shù)領(lǐng)域數(shù)目(IPC4s)、發(fā)明人數(shù)目(Inv.s)、專利說明書頁數(shù)(Pages)、專利申請權(quán)利數(shù)目(Claims)這些變量取對數(shù)?？刂七^程專利(Process)、產(chǎn)品專利(Product)為虛擬變量，其對照組為兼具過程和產(chǎn)品特征的專利。

(3)技術(shù)領(lǐng)域特征控制變量。包括同技術(shù)領(lǐng)域同年度發(fā)明專利申請數(shù)(IPs)、實用新型專利申請數(shù)(UMs)，以反映該技術(shù)領(lǐng)域知識存量及技術(shù)特征。相對于發(fā)明專利，實用新型專利更可能創(chuàng)新程度較低或者產(chǎn)品生命周期較短。[21]使用技術(shù)領(lǐng)域赫芬達爾-赫希曼指數(shù)(HHI)控制發(fā)明專利申請人“壟斷程度”，即各申請人專利申請量占同技術(shù)領(lǐng)域同年度發(fā)明專利申請總量百分比的平方和。技術(shù)領(lǐng)域特征變量均取滯后一期。

(4)其他控制變量。包括30個OST層面技術(shù)領(lǐng)域虛擬變量*4位IPC碼將發(fā)明創(chuàng)造劃分為600多個技術(shù)領(lǐng)域，法國科技觀察站(observatoire des sciences et des techniques,OST)和法國專利局將4位IPC分類整合為31個技術(shù)類別，該分類在專利質(zhì)量研究中得到了廣泛使用。[2]、專利申請年份虛擬變量。

(三)數(shù)據(jù)來源與描述統(tǒng)計

本文數(shù)據(jù)來自國家知識產(chǎn)權(quán)局中國專利數(shù)據(jù)庫(2012年光盤版)。樣本包括1993—2009年*2012年光盤版收錄了1985—2011年所有公開專利的信息。本文使用數(shù)據(jù)為1993—2009年申請的專利，原因如下：第一，1992年專利法改革將發(fā)明專利保護期由15年延長至20年，本文取1992年之后發(fā)明專利保護期統(tǒng)一為20年的時間段。第二，專利申請法定公開一般需要等待18個月，部分2000、2011年申請的專利可能因尚未公開而未收入光盤，因此本文樣本截至2009年。來自中國內(nèi)地申請主體的906 416件發(fā)明專利申請，其中企業(yè)申請占43.22%，高校等公共研究機構(gòu)占24.65%，個人申請占32.13%。樣本中專利來自193 837位申請主體，每位申請人的專利申請量差異較大，規(guī)模最大的申請人共申請了25 042件專利，58%的申請人只申請過1件專利。專利申請授權(quán)率為50.73%。截至2011年12月31日，授權(quán)專利中有效專利所占比重為71.87%。

如表1所示，技術(shù)領(lǐng)域?qū)＠暾埰骄_時間為12個月，早于18個月的法定公開時間。高校專利申請平均公開時間早于企業(yè)、個人專利。已經(jīng)獲得授權(quán)的專利申請中，有66%選擇了提前公開。各技術(shù)領(lǐng)域?qū)＠暾堃?guī)模也存在較大差異。樣本觀測期內(nèi)共有9 340個技術(shù)領(lǐng)域-年份分組，其中791個分組內(nèi)只有1件專利申請，而申請量最多的達11 506件。

表1 變量說明與描述統(tǒng)計

四、計量結(jié)果

(一)專利技術(shù)溢出與專利維持率

表2為方程(1)回歸結(jié)果，回歸中均控制了申請人固定效應(yīng)，專利申請年份虛擬變量、OST技術(shù)領(lǐng)域虛擬變量。

第1列為全樣本回歸。結(jié)果顯示，平均而言，同領(lǐng)域?qū)＠暾埞_時間每延長一個月，授權(quán)專利維持概率上升0.006，并在10%的水平上顯著。本文以同技術(shù)領(lǐng)域前年度專利申請平均公開時間作為專利技術(shù)溢出的代理變量，同領(lǐng)域?qū)＠_得越晚，專利技術(shù)溢出越小，上述結(jié)果說明專利技術(shù)溢出對專利維持率有顯著的負(fù)向影響。

技術(shù)溢出效應(yīng)可能因技術(shù)領(lǐng)域規(guī)模不同而異，本部分逐步剔除專利申請數(shù)量較小的技術(shù)領(lǐng)域-年份分組，對方程(1)進行分樣本回歸。第2～4列依次為專利申請量大于180件(上25%分位)、565件(上50%分位)、1 918件(上75%分位)的分樣本回歸。結(jié)果顯示，剔除了申請量較少的技術(shù)領(lǐng)域-年份分組之后，專利公開時間(PUB)的系數(shù)仍然顯著，且隨著技術(shù)領(lǐng)域規(guī)模的增大對專利維持概率的影響也增強。上75%分位子樣本中，平均專利公開時間每減少一個月，專利維持概率下降近0.034。專利申請量較多的技術(shù)領(lǐng)域可能具有更大的市場潛力，專利持有者之間的商業(yè)競爭也更激烈，專利技術(shù)溢出對專利維持率的負(fù)向影響因而更大。

在全樣本和各分位數(shù)子樣本中，專利申請公開決策變量(EP)系數(shù)均顯著為負(fù)，即相對于法定公開專利，提前公開專利在授權(quán)后更容易被放棄。這可能是由于專利申請較早公開，更早披露了專利的技術(shù)信息，從而給競爭對手產(chǎn)生正外部性，降低了自身專利的商業(yè)回報；也可能與專利申請人較早搶占市場的專利戰(zhàn)略有關(guān)。

專利特征控制變量方面，專利申請技術(shù)領(lǐng)域數(shù)目、發(fā)明人數(shù)目、說明書頁數(shù)、專利權(quán)數(shù)四個變量系數(shù)基本顯著為正，說明專利技術(shù)質(zhì)量、技術(shù)復(fù)雜度與專利私人價值整體上呈現(xiàn)出正相關(guān)關(guān)系。與兼具產(chǎn)品、過程專利特征的對照組相比，過程專利變量(Process)系數(shù)均顯著為正，產(chǎn)品專利變量(Product)系數(shù)則不顯著。

技術(shù)領(lǐng)域特征控制變量方面，同領(lǐng)域前年度發(fā)明專利申請量(IPs)系數(shù)基本顯著為負(fù)。專利申請量較多的技術(shù)領(lǐng)域在技術(shù)創(chuàng)新和市場開發(fā)方面競爭度都可能較高，因此專利維持率較低。實用新型專利申請量(UMs)系數(shù)為正但基本不顯著。發(fā)明專利“申請人集中度(HHI)”系數(shù)為正，上50%和上75%分位樣本中顯著，反映出申請人壟斷程度較高的技術(shù)領(lǐng)域?qū)＠S持率高。

綜上所述，同領(lǐng)域?qū)＠骄_得越晚，專利維持率越高，即專利技術(shù)溢出對專利私人價值有顯著的負(fù)向影響，且專利技術(shù)溢出的負(fù)效應(yīng)隨著技術(shù)領(lǐng)域規(guī)模的擴大而增強。上述結(jié)果支持了假說1。

(二)企業(yè)、高校、個人技術(shù)溢出與專利維持率

為了識別不同來源的技術(shù)溢出對專利私人價值的影響，表3匯報了企業(yè)專利技術(shù)溢出、高校專利技術(shù)溢出、個人專利技術(shù)溢出的回歸結(jié)果。

如列1、列2所示，全樣本和上25%分位數(shù)子樣本中，企業(yè)和高校專利技術(shù)溢出系數(shù)均為正，說明企業(yè)、高校專利平均公開得越晚，專利維持率越高，但企業(yè)技術(shù)溢出變量系數(shù)不顯著，高校專利技術(shù)溢出系數(shù)在10%的水平上顯著。隨著技術(shù)領(lǐng)域規(guī)模的增大，企業(yè)技術(shù)溢出變量系數(shù)和顯著性都增強，在上50%分位數(shù)和上75%分位數(shù)樣本中(列3、列4)，企業(yè)專利平均公開時間每縮短一個月，專利維持概率分別下降0.009、0.018，高校專利技術(shù)溢出系數(shù)小于企業(yè)專利，且不顯著。在各個樣本中，個人專利技術(shù)溢出系數(shù)均為負(fù)或不顯著。企業(yè)作為盈利性機構(gòu)，其專利技術(shù)與市場結(jié)合更為緊密，因此規(guī)模更大、市場競爭更為激烈的領(lǐng)域，企業(yè)技術(shù)溢出的負(fù)效應(yīng)更強。

控制變量方面，專利公開決策系數(shù)仍顯著為負(fù)。專利質(zhì)量和技術(shù)領(lǐng)域特征控制變量的方向和顯著性與表3差別不大。

綜上所述，在上50%分位數(shù)和上75%分位數(shù)樣本中，企業(yè)專利技術(shù)溢出呈現(xiàn)出與高校技術(shù)溢出、個人技術(shù)溢出明顯不同的特征，企業(yè)專利技術(shù)溢出的負(fù)效應(yīng)強于高校、個人專利技術(shù)溢出。假說2部分得到支持。

表3 企業(yè)、高校、個人技術(shù)溢出與專利維持率

(三)專利技術(shù)溢出效應(yīng)企業(yè)、高校、個人分樣本回歸

表2、表3分析了技術(shù)溢出對專利維持率的總體影響，現(xiàn)考察專利技術(shù)溢出對專利私人價值的異質(zhì)性影響。將樣本分為企業(yè)、高校、個人三個子樣本*表4～表6中的企業(yè)、高校、個人分樣本回歸均剔除了只有一個觀測值的技術(shù)領(lǐng)域-年份分組。，比較三個子樣本下專利技術(shù)溢出相關(guān)變量估計系數(shù)的差異情況。

如表4所示，總體而言，專利技術(shù)溢出對企業(yè)專利私人價值有顯著負(fù)向影響，同領(lǐng)域?qū)＠_得越早，企業(yè)專利維持率越低。高校、個人專利子樣本中，專利公開時間變量則不顯著。*針對企業(yè)、高校、個人專利，也根據(jù)技術(shù)領(lǐng)域規(guī)模進行了分樣本回歸。PUB在企業(yè)專利的上25%、50%、75%分位數(shù)樣本回歸中，系數(shù)依次為0.006、0.004、0.011，均在5%或者10%的水平上顯著。PUB在高校、個人專利的分位數(shù)子樣本中均不顯著。結(jié)果備索。相對于企業(yè)申請人，高校等公共研究機構(gòu)更可能是為了完成科研項目和職稱晉升的目的而申請專利，專利市場化應(yīng)用的動機較弱，因此專利技術(shù)溢出加劇同業(yè)競爭進而降低專利私人價值的影響機制并不顯著。企業(yè)、高校、個人專利技術(shù)溢出在三個子樣本中基本沒有表現(xiàn)出較強的負(fù)效應(yīng)。

綜上，假說3部分得到了支持。

表4 技術(shù)溢出效應(yīng)企業(yè)、高校、個人分樣本回歸

五、穩(wěn)健性檢驗

(一)已授權(quán)專利技術(shù)溢出

第三部分以專利申請公開時間反映技術(shù)溢出程度。專利申請不一定獲得授權(quán)，可能撤回或者被專利審查機構(gòu)駁回?？紤]到授權(quán)專利的技術(shù)質(zhì)量高于撤回或者駁回的專利[20]，本部分以授權(quán)專利的平均公開時間作為技術(shù)溢出的代理變量。

如表5所示，剔除未授權(quán)的專利申請后，同領(lǐng)域?qū)＠骄_時間對專利維持率仍有顯著影響：同領(lǐng)域?qū)＠骄砉_一個月，專利維持率上升0.004*在上25%、50%、75%分位數(shù)子樣本中，該系數(shù)依次為0.005、0.007、0.023，且在1%或5%的水平上顯著(結(jié)果可向作者索取)。。企業(yè)技術(shù)溢出系數(shù)與高校、個人專利明顯不同，企業(yè)專利公開得越晚，專利維持率越高，而高校、個人專利公開時間系數(shù)則方向相反或不顯著。

企業(yè)、高校、個人分樣本回歸結(jié)果與表4相差不大，基于授權(quán)專利構(gòu)建的專利技術(shù)溢出變量在企業(yè)樣本中有顯著影響，在高校、個人樣本中則不顯著。企業(yè)、高校和個人技術(shù)溢出變量則基本不顯著。

上述穩(wěn)健性檢驗支持了表2～表4的基本結(jié)果，即同領(lǐng)域?qū)＠夹g(shù)溢出對專利維持率有顯著負(fù)向影響，且專利技術(shù)溢出對企業(yè)專利維持率的負(fù)向影響更顯著。

表5 穩(wěn)健性檢驗：已授權(quán)專利技術(shù)溢出

續(xù)前表

(二)專利維持時間與技術(shù)溢出

第三部分以專利維持決策0—1變量反映專利私人價值，作為穩(wěn)健性檢驗，本部分以專利維持時間(Age)*本文所選用的專利維持時間自授權(quán)日起算。對于已失效的專利，計算方法為專利權(quán)放棄日期減去授權(quán)日期；仍有效的專利維持時間為樣本觀測期末(2011年12月31日)減去授權(quán)日期。根據(jù)我國專利法，專利申請公開以后才能進入實質(zhì)審查階段，因此提前公開能夠縮短專利審批時間。本文自授權(quán)日起算專利維持時間，剔除了受公開時間影響的專利審批階段。連續(xù)型變量為因變量，回歸結(jié)果見表6。

如列1所示，全樣本中，專利公開時間系數(shù)顯著為正，即同領(lǐng)域?qū)＠_得越晚，專利維持時間越長；企業(yè)專利公開時間系數(shù)也顯著為正(列2)。

對比三個子樣本，專利公開時間對企業(yè)、高校專利維持時間都有顯著的正向影響，其中企業(yè)樣本中專利公開時間系數(shù)大于高校子樣本。企業(yè)專利公開時間在三個子樣本中都顯著為正，高校、個人技術(shù)專利公開早晚對專利維持時間則沒有顯著的正向影響。與表2～表4的回歸結(jié)果基本一致。

表6 穩(wěn)健性檢驗：專利技術(shù)溢出與專利維持時間

六、結(jié)論

本文以1993—2009年中國專利數(shù)據(jù)為樣本，基于專利公開視角實證檢驗專利技術(shù)溢出對專利私人價值的影響。研究控制申請人固定效應(yīng)，以同技術(shù)領(lǐng)域前年度專利申請平均公開時滯為技術(shù)溢出的代理變量，以授權(quán)專利是否維持為專利私人價值代理變量，主要結(jié)論如下：

第一，專利技術(shù)溢出對專利私人價值有顯著負(fù)向影響，且專利技術(shù)溢出的負(fù)效應(yīng)隨技術(shù)領(lǐng)域規(guī)模的擴大而增強。同領(lǐng)域?qū)＠暾埞_時間每縮短一個月，專利維持率下降0.004；隨著技術(shù)領(lǐng)域規(guī)模的擴大，專利技術(shù)溢出變量的系數(shù)和顯著性都增大。專利公開的技術(shù)信息降低了競爭對手開發(fā)替代品的成本，從而加劇了競爭，降低原專利私人價值。

第二，在規(guī)模較大的技術(shù)領(lǐng)域中，技術(shù)溢出的負(fù)效應(yīng)主要由企業(yè)專利體現(xiàn)出來。企業(yè)專利公開得越早，專利維持率越低，而高校、個人專利公開時間的影響則不顯著。

第三，企業(yè)、高校、個人分樣本回歸表明，專利技術(shù)溢出對企業(yè)專利維持率有顯著負(fù)向影響，對高校、個人專利沒有顯著影響。相對于高校，企業(yè)作為盈利性機構(gòu)，其專利申請的市場化導(dǎo)向更強，專利技術(shù)溢出加劇競爭的負(fù)效應(yīng)也更為顯著。

專利公開的技術(shù)溢出效應(yīng)是一把雙刃劍。從專利制度鼓勵技術(shù)知識傳播的社會目標(biāo)角度看，技術(shù)溢出使既有專利較早進入公共領(lǐng)域，客觀上有利于整個社會技術(shù)知識的共享和傳播。但是，從專利制度鼓勵研發(fā)投資的社會目標(biāo)角度看，技術(shù)外溢降低了既有專利的私人價值，可能降低創(chuàng)新者研發(fā)投資和申請專利的積極性。專利技術(shù)溢出與專利寬度、高度設(shè)計，專利執(zhí)法強度密切相關(guān)[6][9][16]，專利制度在鼓勵技術(shù)知識傳播的同時，也應(yīng)加強對已授權(quán)專利的保護，從而有利于我國實現(xiàn)從以技術(shù)吸收引進為主向以自主創(chuàng)新為發(fā)展引擎的歷史轉(zhuǎn)變。

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