彭達(dá)球，黃曉江，施蕓城

(東華大學(xué) 理學(xué)院，上海 201620)

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基于玻璃基底的透明導(dǎo)電金膜的光學(xué)性質(zhì)

彭達(dá)球，黃曉江，施蕓城

(東華大學(xué) 理學(xué)院，上海 201620)

摘要：采用直流濺射法，通過(guò)調(diào)節(jié)濺射時(shí)間和濺射電流，在玻璃基底上成功制備出不同厚度的透明導(dǎo)電金膜. 通過(guò)橢圓偏振儀測(cè)量了透明導(dǎo)電金膜的厚度及其對(duì)可見(jiàn)光的透過(guò)率，利用四探針、掃描電子顯微鏡分別測(cè)量和表征了透明導(dǎo)電金膜的方塊電阻和表面形貌. 研究結(jié)果表明，隨著透明導(dǎo)電金膜厚度的增加，方塊電阻減小，金膜表面連續(xù)性變好，且透明導(dǎo)電金膜厚度為10～13 nm時(shí)，透明導(dǎo)電金膜的導(dǎo)電性和透過(guò)性的兼顧最佳. 通過(guò)實(shí)際中透明導(dǎo)電金膜厚度隨濺射條件的變化，結(jié)合理論膜厚計(jì)算公式可知，直流濺射沉積透明導(dǎo)電金膜為島狀生長(zhǎng)模式. 使用橢圓偏振儀測(cè)量了不同入射角度和入射方向上透明導(dǎo)電金薄膜的橢偏參量，發(fā)現(xiàn)在各向同性的玻璃基底上生長(zhǎng)的透明導(dǎo)電金膜的光學(xué)性質(zhì)表現(xiàn)為各向異性.

關(guān)鍵詞：直流濺射； 透明導(dǎo)電金膜； 橢圓偏振儀； 島狀生長(zhǎng)模式

透明導(dǎo)電薄膜是一種對(duì)可見(jiàn)光(λ=400～760 nm)的平均光透射率高(Tavg>80%)且電阻率低(ρ<10-3Ω·cm)的光電特性薄膜[1]. 自1907年利用鎘(Cd)制備出氧化鎘(CdO)透明導(dǎo)電薄膜[2]以來(lái)，透明導(dǎo)電薄膜的研究備受重視.目前，透明導(dǎo)電薄膜主要包括金屬系、氧化物膜系、非氧化化合物膜系、高分子膜系、復(fù)合膜系等，其中研究和應(yīng)用最為廣泛的是透明導(dǎo)電金屬薄膜和透明導(dǎo)電氧化物薄膜[3-4]. 隨著研究的深入，不同類(lèi)型的透明導(dǎo)電薄膜被研發(fā)出來(lái)的同時(shí)，基底材料也一直是科研人員研究的熱點(diǎn). 由于透明導(dǎo)電薄膜具有優(yōu)異的透光性，基底材料的光學(xué)性質(zhì)和各向同(異)性會(huì)對(duì)透明導(dǎo)電薄膜產(chǎn)生何種影響，暫時(shí)還沒(méi)有找到相關(guān)文獻(xiàn)報(bào)道，本文以此為出發(fā)點(diǎn)進(jìn)行研究.

玻璃是一種各向同性的透明介質(zhì)，能極大程度上發(fā)揮透明導(dǎo)電薄膜的透光率優(yōu)勢(shì). 金(Au)具有良好的導(dǎo)電性，并且化學(xué)性質(zhì)穩(wěn)定，金膜在現(xiàn)代電子行業(yè)中應(yīng)用廣泛[5]. 但是前人研究金膜的焦點(diǎn)更多的是關(guān)注其電學(xué)性質(zhì)[5-6]，對(duì)金膜的光學(xué)性質(zhì)研究甚少.

本文采用直流濺射在玻璃基底上沉積透明導(dǎo)電金膜，通過(guò)調(diào)節(jié)濺射時(shí)間以及濺射電流，制備不同厚度的金膜. 利用掃描電子顯微鏡(SEM)觀察金膜的表面形貌，采用四探針測(cè)量金膜的方塊電阻，并使用橢圓偏振儀測(cè)量金膜的厚度以及在不同入射角度和入射方向(以入射光線(xiàn)繞薄膜法線(xiàn)旋轉(zhuǎn)角度標(biāo)定)上透明導(dǎo)電金膜的光學(xué)性質(zhì).

1試驗(yàn)部分

1.1沉積材料及儀器

試驗(yàn)所用基底材料為帆船牌CAT.NO. 7105的載玻片，尺寸為25.5 mm×76.2 mm×1.0 mm，靶材采用純度為99.9%的金. 試驗(yàn)所用鍍膜儀為北京中科科儀公司生產(chǎn)的SBC-12型直流濺射儀.

1.2沉積過(guò)程

本試驗(yàn)采用直流濺射法沉積金膜，直流濺射儀沉積參數(shù)如表1所示.

表1　直流濺射沉積參數(shù)

沉積金膜的工藝：(1) 固定濺射時(shí)間為80 s，通過(guò)控制直流濺射儀的針閥，調(diào)節(jié)濺射電流為4～8 mA，獲得不同厚度的金膜；(2) 固定濺射電流為6 mA， 通過(guò)調(diào)節(jié)濺射時(shí)間旋鈕控制濺射時(shí)間為50～90 s.

1.3試驗(yàn)儀器

采用JSM-5600 LV型SEM觀察金膜樣品的表面形貌；利用SDY-4型四探針測(cè)量金膜的方塊電阻；利用SE800E UV-VIS-NIR型光譜橢圓偏振儀測(cè)量金膜厚度以及不同入射角度和入射方向上金膜的橢偏參量變化.

2結(jié)果與討論

2.1金膜的導(dǎo)電性及透光率

使用直流濺射法制備金膜時(shí)，金膜厚度(d)的計(jì)算式[7]為

d=kiVt

(1)

其中：k為一個(gè)常數(shù)，與直流濺射系統(tǒng)的真空度、靶材與基底間距有關(guān)；i為濺射電流；V為固定的直流濺射工作電壓；t為濺射時(shí)間.

由式(1)可知，當(dāng)濺射時(shí)間恒定時(shí)，金膜的理論厚度與濺射電流成正比關(guān)系；同樣地，當(dāng)濺射電流恒定時(shí)，金膜的理論厚度與濺射時(shí)間成正比關(guān)系. 利用橢圓偏振儀測(cè)量不同濺射時(shí)間和濺射電流下的金膜厚度，以及利用四探針測(cè)量不同厚度金膜的方塊電阻，結(jié)果如表2所示.

表2　不同濺射電流和濺射時(shí)間下的金膜厚度及方塊電阻

從表2可以看出，不論是保持濺射時(shí)間不變，逐漸增大濺射電流(1#)，還是保持濺射電流不變，逐漸增加濺射時(shí)間(2#)，金膜的厚度均隨之增加.

使用了SEM分別拍攝不同濺射電流(1#)和不同濺射時(shí)間(2#)情況下金膜的SEM照片，結(jié)果如圖1和2所示.

(a) 1#-1　(b) 1#-2 　(c) 1#-3

(d) 1#-4　(e) 1#-5　

(a) 2#-1　(b) 2#-2　(c) 2#-3

(d) 2#-4　(e) 2#-5　

從圖1和2可以看出，隨著濺射電流和濺射時(shí)間的增加，金膜的表面連續(xù)性變好. 結(jié)合表2可知，金膜表面連續(xù)性越好，其方塊電阻越低，則金膜的導(dǎo)電性能越優(yōu).

對(duì)于金膜而言，因?yàn)榻鹪又凶杂呻娮訚舛群艽?，光進(jìn)入金膜時(shí)，會(huì)引起金原子內(nèi)部的自由電子振動(dòng)，光子在與電子的碰撞中逐漸消耗能量. 如果金膜厚度太厚，能夠極大地提高金膜的導(dǎo)電性，但是卻嚴(yán)重地犧牲了金膜的透光性；金膜厚度太薄，會(huì)使金膜連續(xù)性變差而產(chǎn)生斷層，從而嚴(yán)重降低金膜的導(dǎo)電性. 為了探究金膜厚度對(duì)金膜透射率的影響，從表2中選取5組厚度梯度的金膜，測(cè)量其在可見(jiàn)光范圍內(nèi)的透射率，其透射率曲線(xiàn)如圖3所示.

圖3　不同厚度金膜的透射率曲線(xiàn)Fig.3　The transmittance curves of gold film ofdifferent thickness

從圖3可以看出，在波長(zhǎng)為400～500 nm時(shí)，透明導(dǎo)電金膜的透射率在75%以上，變化較??；在波長(zhǎng)為500 nm左右時(shí)，透射率出現(xiàn)一個(gè)較小的峰；在波長(zhǎng)為500～760 nm時(shí)，透明導(dǎo)電金膜的透射率整體呈現(xiàn)減小的趨勢(shì). 同時(shí)，從圖3中還可以看出，隨著金膜厚度的增加，其對(duì)可見(jiàn)光的透射率呈現(xiàn)減小的趨勢(shì).

由固體物理知識(shí)[8-9]可知，當(dāng)光通過(guò)薄膜后，透射光強(qiáng)度I的變化為

I=I0·(1-r)2·e-(a+s)d

(2)

其中：I0為入射光強(qiáng)度；r為反射系數(shù)；a為吸收系數(shù)；s為散射系數(shù).因?yàn)榻鹪拥妮d流子濃度很高，在可見(jiàn)光波段的吸收系數(shù)隨著波長(zhǎng)的增加而增加，透射光強(qiáng)度則隨著吸收系數(shù)的增加而減小，所以透射率隨波長(zhǎng)的增加而減??；同時(shí)吸收系數(shù)與載流子濃度有關(guān)，當(dāng)金膜厚度越厚，載流子濃度增加，透射光強(qiáng)度減小，所以金膜厚度越厚，金膜的透光率越小. 文獻(xiàn)[4]研究表明，透明導(dǎo)電金膜的方塊電阻為1～102Ω/sq，透光率為60%～80%. 綜上可知，金膜厚度為10～13 nm時(shí)，金膜的導(dǎo)電性和透光性均非常優(yōu)良，滿(mǎn)足透明導(dǎo)電薄膜的基本特性.

2.2直流濺射的成膜機(jī)理討論

從表2還可以發(fā)現(xiàn)，測(cè)量的金膜實(shí)際厚度與濺射時(shí)間、濺射電流的關(guān)系并非式(1)理論給出的線(xiàn)性關(guān)系. 薄膜厚度增加至12 nm左右時(shí)，薄膜生長(zhǎng)速度比薄膜厚度小于12 nm時(shí)要慢. 造成這種變化趨勢(shì)的原因可以從金膜的生長(zhǎng)機(jī)理來(lái)討論，由于金原子和基底之間的浸潤(rùn)性較差，在直流濺射的過(guò)程中，金靶中的金原子被激發(fā)形成濺射原子，濺射到基底表面時(shí)，金原子相互之間的鍵合力主導(dǎo)薄膜生長(zhǎng)，此時(shí)的薄膜生長(zhǎng)方式稱(chēng)為島狀生長(zhǎng)(Volmer-Weber)模式[10]. 在薄膜形成伊始，金原子相互之間的鍵合力使得薄膜生長(zhǎng)速度很快，并且形成一個(gè)個(gè)小島，此時(shí)垂直于基底表面的薄膜生長(zhǎng)速度占據(jù)主導(dǎo)地位.而隨著小島的慢慢變大，基底表面的金原子開(kāi)始擴(kuò)散遷移，當(dāng)擴(kuò)散遷移到一定程度后，與周?chē)噜彽男u碰撞結(jié)合，這樣每個(gè)小島之間也慢慢地連接起來(lái)而形成連續(xù)的薄膜.隨著薄膜的進(jìn)一步生長(zhǎng)，平行于基底表面的薄膜生長(zhǎng)速度大于垂直方向的薄膜生長(zhǎng)速度，薄膜厚度的增加趨勢(shì)也就開(kāi)始減緩.

2.3金膜的光學(xué)性質(zhì)

橢圓偏振儀以橢圓偏振光為基礎(chǔ)，測(cè)量入射光與樣品相互作用(包括反射、散射和透射)后光波的偏振態(tài)(即橢偏參量Ψ和φ)的變化，通過(guò)測(cè)量結(jié)果計(jì)算可以得出薄膜材料的光學(xué)性質(zhì)，具體表達(dá)式[11-17]為

tanΨ=|rp|/|rs|

(3)

φ=δp-δs

(4)

其中：tanΨ為反射光的p分量和s分量的振幅系數(shù)rp與rs之比；Ψ為偏振角；φ為兩偏振分量的相位差；δp和δs分別表示p分量和s分量在反射前后的相位延遲.

由2.1節(jié)可知，在濺射電流為6 mA和濺射時(shí)間為80 s時(shí)，玻璃基底上金膜的透明性和導(dǎo)電性均非常好，因此，本文選擇該透明導(dǎo)電金膜樣品作為研究對(duì)象，研究其在可見(jiàn)光范圍內(nèi)的光學(xué)性質(zhì). 為探究玻璃基底對(duì)金膜光學(xué)性質(zhì)的影響，分別選用未沉積金膜的干凈玻璃(GN)和沉積金膜的玻璃(GA)作對(duì)比試驗(yàn). 玻璃是一種透明的基底材料，測(cè)量玻璃的橢偏參量時(shí)，需要使用小光斑，并且使用小的入射角. 所以，控制橢圓偏振儀機(jī)械臂，固定入射角度為50°，測(cè)量在可見(jiàn)光范圍(400～760 nm)內(nèi)GN和GA的橢偏參量隨波長(zhǎng)的變化曲線(xiàn)，如圖4所示.

(a) GN

(b) GA

從圖4(a)可以看出，在可見(jiàn)光波段內(nèi)GN的橢偏參量幾乎保持恒定值. 因?yàn)椴Ａ峭该骰?，不同波長(zhǎng)的入射光經(jīng)過(guò)玻璃基底近似鏡面反射后，反射光的兩個(gè)分量的大小不會(huì)發(fā)生變化，而反射前后的相位差約為180°. 從圖4(b)可以看出，GA的Ψ值隨波長(zhǎng)先減后增，而φ值則是略微減小的. 在玻璃基底上沉積金膜后，因?yàn)榻鹉さ某赡し绞綖閸u狀生長(zhǎng)模式，金膜表面較為粗糙，所以入射光反射后產(chǎn)生一定程度的相位延遲，此時(shí)的相位差不再為180°，且金膜對(duì)入射光吸收散射后，反射光的兩個(gè)方向的分量損失不同，所以?xún)蓚€(gè)分量的振幅之比也產(chǎn)生相應(yīng)的變化.

為進(jìn)一步探究玻璃基底對(duì)透明導(dǎo)電金膜的光學(xué)性質(zhì)的影響，首先以步進(jìn)5°調(diào)節(jié)橢圓偏振儀的機(jī)械臂從50°到70°，獲得不同入射角度下GN和GA的橢偏參量隨波長(zhǎng)的變化曲線(xiàn). 選取3個(gè)波長(zhǎng)，分析在這3個(gè)波長(zhǎng)值下，橢圓偏振儀測(cè)量的5個(gè)不同入射角度對(duì)應(yīng)的橢偏參量Ψ和φ的變化情況，如圖5所示.

(a) GN的橢偏參量Ψ

(b) GN的橢偏參量φ

(c) GA的橢偏參量Ψ

(d) GA的橢偏參量φ

從圖5(a)和5(b)可以看出，在不同的波長(zhǎng)值時(shí)，GN的橢偏參量沒(méi)有太大變化.但是GN的橢偏參量Ψ隨著入射角度的增加，大體呈上升趨勢(shì)；入射角度為50°和55°時(shí)，GN的橢偏參量φ約為180°，而入射角度為60°～70°時(shí)，GN的橢偏參量φ約為0°. 因?yàn)椴Ａщm然是各向同性基底，但是玻璃基底表面并不光滑，隨著入射角度變化，入射光的偏振性相應(yīng)地改變，相位則產(chǎn)生相應(yīng)的延遲或提前，所以會(huì)產(chǎn)生相位差0°和180°的較為規(guī)則的變化. 從圖5(c)和5(d)中可看出，GA的橢偏參量均大體呈下降趨勢(shì). 在玻璃上沉積金膜后，因?yàn)榻鹉け砻娴拇植谝鸬姆瓷涔鈸p耗，使得反射光的兩個(gè)方向的分量損耗程度不同， 而且隨著入射角度變化，入射光通過(guò)金膜的光程隨之變化，使得反射光與入射光的相位差也發(fā)生了變化.

其次，固定橢圓偏振儀的機(jī)械臂的角度為50°，即入射角度為50°，旋轉(zhuǎn)樣品，規(guī)定樣品長(zhǎng)邊為0°，每次旋轉(zhuǎn)增加30°，旋轉(zhuǎn)一圈，測(cè)量并記錄這12個(gè)旋轉(zhuǎn)角度下的樣品的橢偏參量隨波長(zhǎng)的變化曲線(xiàn). 同樣地選取3個(gè)波長(zhǎng)，分析不同入射方向上GN和GA的橢偏參量的變化，如圖6所示.

從圖6(a)和6(b)可以看出，隨著玻璃基底的旋轉(zhuǎn)，在各個(gè)入射方向上GN的橢偏參量的變化很小. 因?yàn)椴Ａ且环N各向同性的介質(zhì)，在各個(gè)方向上的光學(xué)性質(zhì)相同，圖中的微小變化是因?yàn)椴ＡП砻娌还饣? 從圖6(c)和6(d)可以看出，在各個(gè)入射方向上GA的橢偏參量變化同樣不是很大，但是較之玻璃基底，變化更明顯. 因?yàn)椴ＡП砻姹旧碛幸欢ǖ拇植诙?，而金膜的成膜方式是島狀生長(zhǎng)模式，使得金膜表面的粗糙度更大，而橢圓偏振儀對(duì)于入射光的微小變化也能敏感捕捉，所以使得玻璃基底上金膜的光學(xué)性質(zhì)在不同入射方向上不同，表現(xiàn)為光學(xué)各向異性.

(a) GN的橢偏參量Ψ

(b) GN的橢偏參量φ

(c) GA的橢偏參量Ψ

(d) GA的橢偏參量φ

3結(jié)語(yǔ)

本文采用直流濺射法在玻璃基底上沉積透明導(dǎo)電金膜，通過(guò)調(diào)節(jié)濺射時(shí)間和濺射電流，獲得不同厚度的金膜. 利用SEM表征了金膜的表面形貌，四探針測(cè)量了金膜的方塊電阻，并使用橢圓偏振儀測(cè)量了金膜的厚度，以及在不同入射角度和入射方向上透明導(dǎo)電金膜的光學(xué)性質(zhì)，得到了下述結(jié)論.

(1) 金膜的厚度隨著濺射電流或者濺射時(shí)間的增加而增加. 金膜表面的連續(xù)性也隨著厚度的增加而變得更好，而金膜的方塊電阻隨著厚度的增加而減小.

(2) 通過(guò)分析直流濺射實(shí)際沉積的金膜厚度，結(jié)合理論膜厚計(jì)算公式，發(fā)現(xiàn)直流濺射下的透明導(dǎo)電金膜的成膜機(jī)理為島狀生長(zhǎng)模式.

(3) 利用橢圓偏振儀測(cè)量不同厚度金膜的透光率，發(fā)現(xiàn)金膜厚度為10～13 nm時(shí)，金膜的導(dǎo)電性和透光率均非常優(yōu)良. 使用橢圓偏振儀測(cè)量了不同入射角度和入射方向上透明導(dǎo)電金膜的橢偏參量，對(duì)比玻璃基底自身的橢偏參量變化，發(fā)現(xiàn)在玻璃基底上的透明導(dǎo)電金膜會(huì)表現(xiàn)出各向異性的特征.這是因?yàn)椴ＡП旧肀砻娲植诙容^大，同時(shí)金膜以島狀生長(zhǎng)模式沉積，這就造成了金膜表面在某種程度上更加粗糙，入射光線(xiàn)經(jīng)過(guò)金膜反射后，金膜表面結(jié)構(gòu)的粗糙造成橢圓偏振儀測(cè)量的光學(xué)性質(zhì)呈各向異性.

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文章編號(hào)：1671-0444(2016)03-0443-06

收稿日期：2015-04-23

基金項(xiàng)目：國(guó)家自然科學(xué)基金青年科學(xué)基金資助項(xiàng)目(11305035)

作者簡(jiǎn)介：彭達(dá)球(1989—)，男，湖南湘潭人，碩士研究生，研究方向?yàn)楣怆姴牧吓c器件. E-mail:pdq889@163.com 施蕓城(聯(lián)系人)，男，副教授，E-mail：sycium@dhu.edu.cn

中圖分類(lèi)號(hào)：O 484.5；TN 16

文獻(xiàn)標(biāo)志碼：A

Optical Properties of the Transparent Conductive Gold Film Based on Glass

PENGDa-qiu,HUANGXiao-jiang,SHIYun-cheng

(College of Science, Donghua University, Shanghai 201620, China)

Abstract:By using the DC (direct-current) sputtering, different thickness of transparent conductive gold films are deposited based on glass at different sputtering time and current. The thickness and its visible light transmittance, square resistance, surface morphology of the film are measured and characterized by ellipsometer, four-point probe and SEM (scanning electron microscope)，respectively. The results show that the surface of the gold film becomes more continuous and the square resistance decreases with the increase of the thickness. Its conductivity and transmittance perform good when the thickness of gold film between 10 nm and 13 nm. It is not difficult to found that the formation mechanism of the DC sputtering deposition is up to the Volmer-Weber model, according to the results that film’s thickness changes with sputtering conditions and the theoretical calculation formula. By controlling the different incident angles and incident directions of an ellipsometer, and measuring the ellipsometric parameters, the results show that the optical properties of gold film based on glass are very different on variation direction.Key words: direct-current sputtering; transparent conductive gold film; ellipsometer; Volmer-Weber model