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      衛(wèi)生陶瓷低溫?zé)晒に囇芯?

      2016-11-28 06:58:12翟新崗李秀軍王維華趙曉娜
      陶瓷 2016年10期
      關(guān)鍵詞:衛(wèi)生陶瓷釉料釉面

      翟新崗 李秀軍 袁 鵬 王維華 趙曉娜

      (德州市樂(lè)華陶瓷潔具有限公司 山東 德州 253000)

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      衛(wèi)生陶瓷低溫?zé)晒に囇芯?

      翟新崗 李秀軍 袁 鵬 王維華 趙曉娜

      (德州市樂(lè)華陶瓷潔具有限公司 山東 德州 253000)

      通過(guò)優(yōu)化坯料配方和選用合適的原料,在保證產(chǎn)品吸水率小于0.5%的前提下,成功地將衛(wèi)生陶瓷的燒成溫度由1 240 ℃降低到1 200 ℃左右;通過(guò)在釉料中引入鈉長(zhǎng)石和超細(xì)硅酸鋯等原料,經(jīng)多次配方優(yōu)化調(diào)整,成功研發(fā)出燒成溫度在1 190~1 210 ℃衛(wèi)生陶瓷中溫釉。研究結(jié)果表明,衛(wèi)生陶瓷采用低溫?zé)晒に嚕a(chǎn)品的各項(xiàng)性能指標(biāo)均未下降,部分指標(biāo)還略有提高,窯爐能耗降低5%以上,綜合經(jīng)濟(jì)效益顯著。

      衛(wèi)生陶瓷 低溫?zé)?節(jié)能

      前言

      近幾年來(lái),隨著天然氣價(jià)格的逐步提高,衛(wèi)生陶瓷的燒成成本日益提高。與此同時(shí),政府部門的環(huán)保監(jiān)管力度越來(lái)越嚴(yán),陶瓷企業(yè)的環(huán)保壓力日漸增大。眾所周知,陶瓷工業(yè)是高能耗行業(yè)之一。為了保護(hù)環(huán)境,節(jié)約能源,提高生產(chǎn)效率和增加企業(yè)效益,衛(wèi)生陶瓷行業(yè)采用低溫?zé)晒に囀潜匾?,也是發(fā)展的必然趨勢(shì)。

      根據(jù)文獻(xiàn)[1]所述,衛(wèi)生陶瓷燒成溫度在1 210 ℃以下的,都可稱為低溫?zé)伞=?jīng)長(zhǎng)時(shí)間試驗(yàn)研究和反復(fù)試產(chǎn)驗(yàn)證,本公司最終成功研制出了衛(wèi)生陶瓷低溫?zé)晒に嚕簾蓽囟葟? 240 ℃降低到1 200 ℃左右,產(chǎn)品的各項(xiàng)性能指標(biāo)與降溫前一致,個(gè)別指標(biāo)還有所提升;釉面質(zhì)量和耐污性均得到明顯改善;窯爐能耗降低5%。本公司和國(guó)內(nèi)其他潔具產(chǎn)區(qū)的實(shí)踐說(shuō)明,衛(wèi)生陶瓷低溫?zé)晒に囀强尚械?,產(chǎn)品質(zhì)量是有保證的。

      現(xiàn)將研發(fā)過(guò)程敘述如下,供業(yè)內(nèi)同行參考,共同促進(jìn)衛(wèi)生陶瓷行業(yè)節(jié)能降耗工作。限于作者水平有限,不當(dāng)之處,敬請(qǐng)專家學(xué)者批評(píng)指正。

      1 實(shí)驗(yàn)

      1.1 低溫?zé)傻拈_(kāi)發(fā)目標(biāo)

      立足于本公司現(xiàn)有的大部分原料和窯爐基本條件,低溫?zé)晒に囈_(dá)到的預(yù)期目標(biāo)是:產(chǎn)品的燒成溫度(指使用進(jìn)口測(cè)溫環(huán)測(cè)量的溫度,下同)從1 240 ℃降低到1 200 ℃以下;產(chǎn)品的各項(xiàng)性能指標(biāo),比如吸水率、收縮率、耐荷重性、熱穩(wěn)定性、瓷坯抗折強(qiáng)度、變形度、釉面白度和光澤度、釉面耐磨性等,均不能下降;原料成本不能增加。

      1.2 實(shí)驗(yàn)思路

      1.2.1 坯料配方調(diào)整

      衛(wèi)生陶瓷要實(shí)現(xiàn)低溫?zé)?,必須同步?shí)現(xiàn)坯和釉的低溫?zé)?。其中,合理的坯料配方是低溫?zé)晒に嚦晒Φ年P(guān)鍵。衛(wèi)生陶瓷的大部分理化指標(biāo)以及泥漿的成形性能等都取決于坯料配方。

      坯料配方調(diào)整的方向?yàn)椋簻p少原配方中葉臘石和瓷石用量,適量增加鉀長(zhǎng)石用量,并選用高性價(jià)比的鉀長(zhǎng)石(見(jiàn)表1),從而提高泥漿中鉀含量;為保證產(chǎn)品強(qiáng)度,略微增加了鋁含量約0.5%。配方調(diào)整后希望達(dá)到的目標(biāo)是:通過(guò)增加配方中鉀鈉含量來(lái)降低坯體燒成溫度;保證較高的鉀含量可使燒成易于控制,減少產(chǎn)品變形;保持較高的含鋁量可以使瓷坯中莫來(lái)石晶相含量增加并發(fā)育完全,從而提高瓷坯的機(jī)械強(qiáng)度、熱穩(wěn)定性等物理指標(biāo)。

      表1 鉀長(zhǎng)石化學(xué)成分(質(zhì)量%)

      在試驗(yàn)過(guò)程中也嘗試引入燒滑石、硅灰石等含鈣、鎂的原料,但原料成本相對(duì)增加較大。因?yàn)橥ㄟ^(guò)提高坯料中鉀含量已能實(shí)現(xiàn)低溫?zé)?,產(chǎn)品吸水率等指標(biāo)均達(dá)標(biāo),因此坯體配方中沒(méi)有再額外引入富含鈣鎂的原料。調(diào)整后坯體配方成本并沒(méi)有增加,與調(diào)整前基本持平。坯體配方調(diào)整前后化學(xué)成分對(duì)比見(jiàn)表2。

      表2 調(diào)整前后的坯體配方化學(xué)成分對(duì)比(質(zhì)量%)

      1.2.2 釉料配方調(diào)整

      如前所述,坯料配方調(diào)整比較順利,本項(xiàng)目的難點(diǎn)在于低溫釉料配方調(diào)整。既要保證低溫?zé)珊蟮挠悦姘锥群凸鉂啥?,還要保證釉面耐磨性和耐污性,以及熱穩(wěn)定性,難度相對(duì)較大。本研究沒(méi)有采取一步到位,而是分階段研制了3種釉料配方,配合窯爐分階段逐步降溫,分3次把溫度降低到1 200 ℃,以保證生產(chǎn)的穩(wěn)定和產(chǎn)品品質(zhì)。

      釉料配方調(diào)整要達(dá)成的目標(biāo)是:適當(dāng)增加助熔劑含量,引入反應(yīng)活性高的原料,以降低釉熔體的高溫粘度,提高釉面光澤度,可獲得光亮平滑的釉面質(zhì)量;同時(shí)要保證釉面的耐磨性、白度、高溫流動(dòng)性、抗裂性、耐污性等理化指標(biāo)均符合內(nèi)控標(biāo)準(zhǔn)。

      釉料配方調(diào)整的思路是:通過(guò)引入超細(xì)硅酸鋯,在保證釉面白度不變的前提下,釉料中硅酸鋯加入量可減少30%以上,釉料高溫粘度降低;加大滑石和氧化鋅用量,降低釉料熔融溫度,提高釉面亮度和細(xì)膩度;增加石英粉用量,保證釉面強(qiáng)度和耐污性;控制釉料中氧化鈣含量,減少釉面析晶。調(diào)整后釉料配方成本略有降低,因?yàn)楣杷徜喖尤肓坑酗@著減少。釉料所用原料的化學(xué)組成見(jiàn)表3。

      表3 釉用原料的化學(xué)組成(質(zhì)量%)

      1.3 研發(fā)工藝路線

      漿料試驗(yàn)路線:50 kg小試——200 kg小試——500 kg中試——5 t中試——35 t大試。

      釉料試驗(yàn)路線:200 g小試——5 kg小試——50 kg中試——500 kg中試——3 t大試。

      不管是坯料和釉料,為保證生產(chǎn)的穩(wěn)定性,確保不出現(xiàn)重大質(zhì)量事故和批量缺陷,均需反復(fù)進(jìn)行多次中試。中試確認(rèn)無(wú)問(wèn)題后,又間隔不同時(shí)間分別進(jìn)行了3次大試,前后時(shí)間達(dá)半年之久。最后試驗(yàn)結(jié)果達(dá)到預(yù)期目標(biāo),遂正式投入大生產(chǎn)。

      1.4 工藝過(guò)程

      1.4.1 泥漿加工工藝要點(diǎn)

      泥漿所用原料為:鉀長(zhǎng)石、瓷石、山西粘土、河南粘土、永春瓷土、福建高嶺土、廣東黑泥、高鋁砂、紫木節(jié)、河北瓷土等。所用電解質(zhì)為水玻璃、純堿和高效減水劑。由于本公司所處位置水質(zhì)較差,電解質(zhì)總加入量偏高,在0.80%以上。

      根據(jù)坯料配方準(zhǔn)確稱量,采用自動(dòng)稱量喂料機(jī)進(jìn)行配料。硬質(zhì)料和軟質(zhì)料采用兩次加料球磨技術(shù)。料∶球∶水=1∶2∶0.35 ,出球泥漿控制250目篩余小于1.5%,然后過(guò)篩除鐵4次。

      1.4.2 釉漿加工工藝要點(diǎn)

      根據(jù)釉料配方嚴(yán)格稱量裝入球磨機(jī),料∶球∶水=1∶2∶0.5,研磨約16 h后檢測(cè)細(xì)度和粒度分布。要求325目篩余<0.2%,沉降值≥80%方可放釉。放釉后連續(xù)過(guò)3次150目篩,采用自動(dòng)濕式磁選機(jī)除鐵。按工藝控制標(biāo)準(zhǔn)調(diào)整好參數(shù)后,打入儲(chǔ)釉罐備用。

      1.4.3 成形

      成形采用石膏模微壓注漿成形,吸漿時(shí)間90~120 min,吸漿90 min后單面漿厚度達(dá)8.5 mm。生產(chǎn)泥漿容重控制在1.745~1.765 g/ml,泥漿流速(涂-4粘度計(jì)測(cè))控制在60~70 s,細(xì)度為250目篩余<1.5%,泥漿溫度為28~32 ℃。

      1.4.4 施釉

      施釉使用人工壓力噴釉,循環(huán)線連續(xù)噴釉3次。噴釉壓力為0.50~0.65 MPa,釉漿水分為30%~32%,釉漿容重為1.710~1.730 g/ml,釉漿流速(涂-4粘度計(jì)測(cè))為120~150 s,釉層厚度為0.8~1.0 mm。

      1.4.5 燒成制度

      本公司燒成采用的是寬截面148 m長(zhǎng)自動(dòng)控制隧道窯,燃料為天然氣,燒成周期為16~18 h,高溫保溫時(shí)間為50~70 min。

      2 結(jié)果與討論

      2.1 測(cè)試方法

      用篩分法測(cè)定篩余;用激光粒度分析儀測(cè)定粒度分布;用試條法測(cè)定干燥收縮、燒成收縮、燒成彎曲;采用數(shù)顯抗折儀測(cè)量干坯和瓷坯抗折強(qiáng)度;采用煮沸法檢測(cè)產(chǎn)品吸水率;用水冷法檢測(cè)熱穩(wěn)定性;用白度計(jì)測(cè)定釉面白度;用色差儀測(cè)定釉面色度;用光澤度儀測(cè)定釉面光澤度;用油性筆法測(cè)定釉面耐污性;用石膏模吸附法測(cè)定吸漿厚度和拉裂時(shí)間。按國(guó)標(biāo)《GB/T 3810.7-2006 陶瓷磚試驗(yàn)方法 第7部分:有釉磚表面耐磨性的測(cè)定》測(cè)試耐磨性;按國(guó)標(biāo)《GB 6952-2005衛(wèi)生陶瓷》測(cè)試荷重性。

      2.2 測(cè)試結(jié)果

      表4 坯釉料性能測(cè)試結(jié)果

      2.3 結(jié)果分析

      從上述對(duì)比結(jié)果可以看出:采用低溫?zé)晒に嚭?,產(chǎn)品收縮率、吸水率、燒失量、變形度等指標(biāo)均保持穩(wěn)定;干坯強(qiáng)度和瓷坯強(qiáng)度略有提高;瓷坯和產(chǎn)品熱穩(wěn)定性沒(méi)有降低;釉面白度平均提高2度;產(chǎn)品耐污性顯著提高;釉面整體質(zhì)感提升一個(gè)檔次;釉面耐磨性保持調(diào)整前水平;產(chǎn)品耐荷重性滿足國(guó)標(biāo)要求。

      通過(guò)連續(xù)4個(gè)月的實(shí)際窯爐能耗數(shù)據(jù)計(jì)算,采用低溫?zé)晒に嚭螅龈G噸瓷天然氣消耗量比之前降低5%~8%,節(jié)能效果明顯。

      3 結(jié)語(yǔ)

      事實(shí)證明,衛(wèi)生陶瓷采用低溫?zé)晒に?,并未降低產(chǎn)品質(zhì)量和產(chǎn)品檔次。只要調(diào)配好坯釉料配方,同時(shí)配合以合適的燒成制度,通過(guò)低溫?zé)商嵘a(chǎn)品質(zhì)量是完全可行的。衛(wèi)生陶瓷采用低溫?zé)晒に?,綜合經(jīng)濟(jì)效益顯著。

      1 余同昌.衛(wèi)生陶瓷的低溫快速燒成.佛山陶瓷,2003(6):32~33

      2 李秀軍,翟新崗,袁鵬,等.超細(xì)硅酸鋯在衛(wèi)生陶瓷乳白釉中的應(yīng)用.佛山陶瓷.2015(3):15~17

      翟新崗(1978-),本科,工程師;主要從事色釉料方面研究生產(chǎn)工作。*

      TQ174.76+9

      A

      1002-2872(2016)10-0041-04

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