李小龍 ,于 歡 ,朱永平 ,李 濟(jì)
(1.江西陶瓷工藝美術(shù)職業(yè)技術(shù)學(xué)院,江西 景德鎮(zhèn) 333001;2.景德鎮(zhèn)陶瓷大學(xué),江西 景德鎮(zhèn) 333001)
近年來圍繞無光釉的研究特別多,由于鎂質(zhì)無光釉成本較低,釉面細(xì)膩且白度高,對(duì)鎂質(zhì)無光釉的研究也多了起來。如韓廷恩所寫碩士學(xué)位論文《低溫快燒鋇鎂無光釉的研制》[1],吳大軍發(fā)表論文《鎂質(zhì)生料無光釉的研制》[2],許行強(qiáng)發(fā)表論文《一種高溫鎂質(zhì)無光釉的研制》[3],沈華榮發(fā)表論文《系列無光釉的研制》[4],劉陽發(fā)表論文《無光釉的結(jié)晶動(dòng)力學(xué)研究》[5],陳靜發(fā)表論文《鎂質(zhì)無光釉配料的改進(jìn)》[6],論文研究了配方中原料、硅鋁比影響以及應(yīng)用,但是對(duì)于釉料制備過程中工藝參數(shù)對(duì)釉面白度、光澤度的影響研究基本為零。本實(shí)驗(yàn)通過改變燒成溫度、保溫時(shí)間、球磨時(shí)間、冷卻速率以及燒成氣氛等工藝參數(shù)觀察釉面白度、光澤度以及性狀,并將研究成果應(yīng)用在日用陶瓷生產(chǎn)中。
實(shí)驗(yàn)采用鉀長(zhǎng)石、龍巖高嶺土、方解石、廣西燒滑石、石英制備日用陶瓷鎂質(zhì)無光白釉,表1是各種原料的化學(xué)組成,表2是實(shí)驗(yàn)配方組成。
實(shí)驗(yàn)以鉀長(zhǎng)石、龍巖高嶺土、方解石、廣西燒滑石、石英為主要原料,將配料按照料 : 球 : 水= 1 : 2 : 0.7 放入球磨罐球磨不同時(shí)間,出磨后經(jīng)過篩、除鐵,施釉方式采用浸釉并控制釉層厚度1-2 mm,經(jīng)電熱鼓風(fēng)干燥箱干燥后放入不同氣氛下以室溫-300 ℃,2 ℃/min;300 ℃-950 ℃,6 ℃/min;950 ℃-最高溫,7 ℃/min;保溫不同時(shí)間燒制樣品。
本次實(shí)驗(yàn)采用上海產(chǎn)WSD-III白度儀檢測(cè)釉面的白度,泉州產(chǎn)WGG-S光澤儀測(cè)量釉面的光澤度。
表1 原料的化學(xué)組成(wt.%)Tab.1 The chemical composition of raw materials (wt.%)
表2 實(shí)驗(yàn)配方(wt.%)Tab.2 Experimental formula (wt.%)
表3 主要儀器設(shè)備Tab.3 Main apparatus and equipment
圖1 燒成溫度對(duì)釉面的影響(a釉面白度光澤度曲線圖;b釉面效果圖)Fig.1 Effect of firing temperature on glaze
圖1(a)所示是不同燒成溫度對(duì)釉面白度和光澤度的影響曲線圖。從圖中可以看出,隨著燒成溫度從1260 ℃升高到1300 ℃,釉面白度從68.3%升高到71.0%,光澤度從15.0%下降到4.5%。這是因?yàn)殡S著燒成溫度的增加,釉中析出大量的微細(xì)晶體并逐漸增多,而且這些微細(xì)晶體有乳白效果,使得釉面白度增加,光澤度下降。從圖1(b)也可以看出,當(dāng)燒成溫度繼續(xù)升高到1320 ℃,圖1(a)中可以看出,釉面白度從71.0%升至77.8%,光澤度從4.5%升高至8.0%,釉面白度增加。但光澤度也增加,并且從圖1(b)可以看出,1320 ℃燒成的釉面不平整,有凹坑。這是因?yàn)殡S著燒成溫度的升高,釉面析出的大量晶體部分被熔解,形成一個(gè)一個(gè)的凹坑,使得釉面不平整,因此燒成溫度控制在1300℃為宜,白度達(dá)到71.0%,光澤度4.5%。
圖2(a)所示是不同保溫時(shí)間對(duì)釉面白度和光澤度的影響曲線圖。從圖中可以看出,隨著保溫時(shí)間從10 min增加到20 min,釉面白度從71.0%升高到73.9%,光澤度從4.5%升到7.0%。這是因?yàn)殡S著保溫時(shí)間的增加,釉中有大量的晶體不斷析出,并有乳白效果,使得釉面外觀白度增加,光澤度也有所提高。從圖2(b)可以看出,當(dāng)保溫時(shí)間從20 min增加到60 min,圖2(a)中可以看出釉面白度從73.9%降至70.4%,光澤度從7.0%降到6.5%,釉面白度、光澤度變化不是很明顯。但從圖1(b)可以看出,隨著保溫時(shí)間增加釉面慢慢變得不平整,而且縮釉也越來越明顯,這是因?yàn)殡S著保溫時(shí)間的增加,釉面內(nèi)析出的晶體達(dá)到飽和并且有熔解的趨勢(shì),當(dāng)繼續(xù)延長(zhǎng)保溫時(shí)間,圖1(a)顯示白度和光澤度都升高,但圖1(b)看出釉面凹凸不平,局部晶體消失,這是因?yàn)楸貢r(shí)間過長(zhǎng),釉面中析出的飽和晶體會(huì)慢慢熔解。因此保溫時(shí)間控制在20 min為宜,白度達(dá)到73.9%,光澤度7.0%。
圖2 保溫時(shí)間對(duì)釉面的影響(a釉面白度光澤度曲線圖;b釉面效果圖)Fig.2 Effect of holding time on glaze
圖3 不同球磨時(shí)間對(duì)釉面的影響(a曲線圖;b效果圖)Fig.3 Effect of ball grinding time on glaze
圖3 (a)所示是不同球磨時(shí)間對(duì)釉面白度和光澤度的影響曲線圖。從圖中可以看出,隨著球磨時(shí)間從3 min增加到15 min,釉面白度從73.1%降低到61.0%,光澤度有上升趨勢(shì)但是不明顯。這是因?yàn)殡S著球磨時(shí)間的增加,釉料顆粒細(xì)度減小,配方反應(yīng)會(huì)越來越激烈,液相量增加,使得釉面外觀白度降低,光澤度有上升趨勢(shì)。因此球磨時(shí)間控制在3 min為宜,釉面白度達(dá)到73.1%,光澤度6.0%。
圖4(a)所示是不同冷卻速率對(duì)釉面白度和光澤度的影響曲線圖。從圖中可以看出,快速冷卻與正常冷卻對(duì)比,釉面白度從62.9%升至71.0%,光澤度從24%降至4.5%。這是因?yàn)榭焖倮鋮s釉面析出晶體少,釉面白度低,光澤度高。從圖4(b)中可以明顯看出,正常冷卻釉面白度高與光澤度低;從圖4(a)中可以看出,正常冷卻與慢速冷卻對(duì)比,釉面白度從71.0%降至60.2%,光澤度從4.5%降至3.5%。這是因?yàn)槁倮鋮s釉面晶體析出太多,釉面光澤度降低,但白度也降低。因此采用正常冷卻燒成制度,釉面白度71.0%,光澤度4.5%。
圖5(a)所示是不同冷卻速率對(duì)釉面白度和光澤度的影響曲線圖。從圖中可以看出,氧化氣氛與還原氣氛對(duì)比,釉面白度下降,光澤度升高。這是因?yàn)榕浞街杏蠧a2+的存在,還原氣氛下Ca2+對(duì)Fe2+淡化能力差。因此采用氧化氣氛燒成制度,釉面白度71.0%,光澤度4.5%。
圖6所示是當(dāng)配方組成為35.7wt.%鉀長(zhǎng)石、30.4wt.%燒滑石、8.0wt.%t高嶺土、15.2wt.%石英、10.7wt.%方解石,并以球磨3min、氧化氣氛燒成1300 ℃、保溫20 min、正常冷卻速率工藝參數(shù)制備出白度78.5%、光澤度6.0%釉面細(xì)膩的日用陶瓷鎂質(zhì)無光白釉。
圖4 冷卻速率對(duì)釉面的影響Fig.4 Effect of cooling rate on glaze
圖5 燒成氣氛對(duì)釉面的影響Fig.5 Effect of firing atmosphere on glaze
圖6 最佳工藝釉面效果Fig.6 Best glaze effect
(1)隨著燒成溫度從1260 ℃升高到1300 ℃,釉面白度升高,光澤度下降;隨著溫度繼續(xù)升高至1320 ℃,釉面白度增加,但光澤度也增加,并且釉面不平整,有凹坑,因此燒成溫度控制在1300 ℃為宜。
(2)隨著保溫時(shí)間從10 min增加到20 min,釉面白度升高,光澤度升高。當(dāng)保溫時(shí)間從20 min增加到60 min,釉面白度、光澤度變化不是很明顯;但釉面慢慢變得不平整,而且縮釉也越來越明顯。當(dāng)繼續(xù)延長(zhǎng)保溫時(shí)間到120 min,白度和光澤度都升高,但釉面凹凸不平,因此保溫時(shí)間控制在20 min為宜。
(3)隨著球磨時(shí)間從3 min增加到15 min,釉面白度降低,光澤度有上升趨勢(shì)但是不明顯。因此球磨時(shí)間控制在3 min為宜。
(4)燒成制度快速冷卻與正常冷卻對(duì)比,釉面白度升高,光澤度降低,正常冷卻與慢速冷卻對(duì)比,釉面白度降低,光澤度降低,因此采用正常冷卻燒成制度為宜。
(5)當(dāng)配方組成為35.7wt.%鉀長(zhǎng)石、30.4wt.%燒滑石、8.0wt.%高嶺土、15.2wt.%石英、10.7wt.%方解石,并以球磨3min、氧化氣氛燒成1300℃、保溫20 min、正常冷卻速率工藝參數(shù)制備出白度78.5%、光澤度6.0%、釉面細(xì)膩的日用陶瓷鎂質(zhì)無光白釉。