孫士林,陳玉林
(華東電子工程研究所,合肥 230031)
平面近場測試一次測量即可以確定天線遠場特性的完整信息,而且可以在室內(nèi)進行,這不僅使工作人員得到相對舒適的工作場所,而且提供了一個可以控制的測試環(huán)境和全天候工作條件。
但對任何一種測量技術,首要考慮的內(nèi)容之一就是對誤差真實的估計,特別是對于近場技術,包含了大量數(shù)學方法,其難度的最大因素也在于其數(shù)學上的復雜性。另外,暗室因為集成了大量儀表等因素,環(huán)境十分復雜,故需要對暗室誤差進行詳盡分析和評估,以了解各項誤差對天線遠場方向圖的影響。傳統(tǒng)的誤差評估方法是通過對比給定天線的近場測量和遠場測量結(jié)果,將這兩種方法的差別作為近場測試技術的誤差測量結(jié)果,但這種方法的局限性在于:(1)這種方法評估的誤差受遠場測量中的誤差影響;(2)不能確定每種誤差對最終結(jié)果的影響;(3)某些種類的天線只適用于近場測量,無法用遠場方法來測量[1]。
但是在目前國內(nèi)對測量準確度的評定中,存在方法不統(tǒng)一,且存在混淆分析中概念的問題,為了明確解決這些問題,筆者根據(jù)近幾年對近場測試誤差分析方面的研究,結(jié)合國內(nèi)外測試誤差分析的發(fā)展,明確了誤差分析中的相關概念,對誤差分析使用的方法進行了研究,并給出了分析的實例。
評定測量準確度有誤差和不確定度兩個概念。一般國內(nèi)容易將兩者混為一談,其實兩者是有明顯區(qū)別的。
所謂誤差就是測得值和被測量的真值之間的差,即誤差=測得值-真值。測量誤差可用絕對誤差表示,也可用相對誤差表示。絕對誤差=測得值-真值。相對誤差=絕對誤差/真值。誤差分為隨機誤差、系統(tǒng)誤差和粗大誤差。粗大誤差值較大,明顯歪曲測量結(jié)果,很容易發(fā)現(xiàn),在此不作討論。隨機誤差和系統(tǒng)誤差有著相反的特性,隨機誤差可以在盡可能相同的測量條件下通過重復測量來量化,而系統(tǒng)誤差則需要通過有意改變測量條件來量化[2-3]。
(1)
副瓣電平的相對誤差定義為:
(2)
通常副瓣電平的誤差用dB來表示,進一步推導,得到:
(3)
測量不確定度是對測量結(jié)果可能誤差的度量,也是定量說明測量結(jié)果質(zhì)量好壞的一個參數(shù)。因此,一個完整的測量結(jié)果,除了應給出被測量的最佳估計值外,還應同時給出測量結(jié)果的不確定度[5]。
對不確定度評估技術的理解基于四個方面的研究和假設:(1)所有重要的誤差源被識別和列出。(2)所有近場誤差源可以被測量和評估,并且在很多情況下可以確定誤差的函數(shù)公式。例如,需要使用激光設備去測量X,Y,Z位置誤差,然后利用函數(shù)公式計算其副瓣不確定值。(3)可以推導出誤差方程式或者開發(fā)測試方法去確定近場測量誤差和遠場結(jié)果之間的關系。(4)可以將各獨立的誤差源所產(chǎn)生的不確定度合并得到一個總的不確定度評估結(jié)果[6]。
對不確定的計算對于可采用全域分析方法。全域分析基于正態(tài)分布性質(zhì),對方向圖所有點的ESS(即誤差)來取均方根(RMS)。RMS對應于正態(tài)分布中的標準差,則不確定度可以根據(jù)下式計算出[7]:
不確定度(dB) =±20*LOG(1+10^(RMS-SLL)/20)
式中,SLL=所要分析的副瓣電平(dB)
因為主瓣區(qū)域能量的微小變化便能導致很大的誤差,而我們主要是分析副瓣區(qū)域的影響,所以要將主瓣區(qū)域的誤差去掉再對其余部分求RMS。
為說明近場測試中誤差分析的具體過程,下面給出了評估位置誤差項不確定度的實例。
如圖1所示,在坐標系xoy中,陣列天線由n個對稱陣子組成,陣子水平和垂直單元間距分別為dx和dy,采樣面到天線的距離為d。
對圖1的計算模型,引入一定類型的位置誤差,對引入誤差后的近場數(shù)據(jù)進行近遠場變換,得到帶誤差的遠場方向圖,然后將其與理論遠場方向圖進行比較,得到誤差曲線,對誤差曲線進行分析計算,即可得到探頭位置誤差對副瓣影響的量級。
圖1 計算模型示意圖
①不引入位置誤差:
圖2給出了理論遠場方向圖和由理論近場得到的遠場方向圖對比,從圖中可以看出二者吻合得很好,這說明計算中所選擇的掃描面的寬度已足夠大,由于有限掃描面截斷所引起的截斷誤差可忽略不計。根據(jù)上述對誤差曲線的計算方法,得到RMS值為-78.36,則其對-50 dB副瓣的不確定度為0.33 dB。
圖2 理論遠場方向圖與由理論近場得到的遠場方向圖的比較
②引入位置誤差:
假定x方向位置誤差服從均值為零、均方差為σx的正態(tài)分布;z方向位置誤差服從均值為零、均方差為σz的正態(tài)分布。圖3給出了理論遠場方向圖、當σx=0.003λ,σz=0.003λ時由引入位置誤差后的近場得到的遠場方向圖的對比。
圖3 遠場方向圖的比較(σx=0.003λ,σz=0.003λ)
通過對圖3中誤差曲線的計算,得到RMS值為-55.39,其對-50 dB副瓣的不確定度為3.74 dB。
針對目前國內(nèi)對近場測試中誤差的分析無統(tǒng)一方法的問題,文章首先區(qū)分了誤差和不確定度的概念,并且對其如何計算進行了說明,最后給出了平面近場測試中誤差分析的實例,這對平面近場測試中誤差的分析有一定的指導意義。
[1] 張福順,張進民.天線測量[M] .西安:西安電子科技大學出版社,1995.
[2] 楊莘元,孫繼禹等.超低旁瓣天線平面近場測量中隨機誤差對遠場方向圖的影響.哈爾濱工程大學學報,2004,25(2):200-203.
[3] 李勇.平面近場天線測量誤差分析.電子測量與儀器學報,2010,Vol.24,No.11:987-992.
[4] Greg Masters. 18-term range error assessment.NSI near filed system,INC,29 January 2013.
[5] 吳石林.誤差分析與數(shù)據(jù)處理[M].北京:清華大學出版社,2010.
[6] 林洪樺.測量誤差與不確定度評估[M] .北京:機械工業(yè)出版社,2009.
[7] A. D. Yaghjian, “Techniques for reducing the effect of measurement errors in near-field antenna measurements,”Nat.Bur.stand.Internal.Rep.83-1689, May, 2011.