劉誠(chéng) 文軍 謝言清 劉恒淼
摘 要 隨著高階互連技術(shù)的發(fā)展,任意層HDI逐漸受到人們的關(guān)注。本文將分析HDI板制作的工藝流程,分析HDI板制作的關(guān)鍵技術(shù),為提高HDI板制作的品質(zhì),解決HDI板制作和控制的難點(diǎn),保證同類產(chǎn)品的質(zhì)量提供參考。
【關(guān)鍵詞】任意層 HDI板 工藝 盲孔 電鍍
HDI板是智能手機(jī)、平板電腦等電子產(chǎn)品的重要組成,近年來(lái),隨著技術(shù)的不斷發(fā)展,HDI板也逐漸發(fā)展為多階和任意層,可以預(yù)見,任意層HDI是未來(lái)智能電子設(shè)備發(fā)展的必然趨勢(shì)。與傳統(tǒng)一階、二階HDI板相比,任意層HDI制作難度更大,不僅密度高,制作流程較長(zhǎng),同時(shí)孔層分布復(fù)雜,本文將針對(duì)任意層HDI板制作的關(guān)鍵技術(shù)進(jìn)行研究。
1 HDI板制作工藝流程
目前,HDI板層與層之間互聯(lián)主要以下幾種設(shè)計(jì),錯(cuò)孔互連、跨層互連、階梯互連以及疊孔互連,其中,疊孔互連占空間最小。研究認(rèn)為,適當(dāng)?shù)氖菧p少通孔數(shù),增加盲孔數(shù),能夠有效的提高布線密度。在疊孔互連中,主要采用電鍍填孔法和樹脂塞孔法,其中,電鍍填孔法具有更加明顯的優(yōu)勢(shì),可靠性高,導(dǎo)通性能好。因此,疊孔互連是目前盲孔設(shè)計(jì)應(yīng)用最廣泛的設(shè)計(jì)方法。層間堆疊工藝制作流程為首先 制作一階盲孔,再次層壓,制作二階盲孔,按照該方法制作多階盲孔,采用電鍍填孔法實(shí)現(xiàn)層之間的互聯(lián)。從整體上看,HDI板制作工序復(fù)雜,流程較多,需要經(jīng)過長(zhǎng)時(shí)間的多次制作才能夠完成,包括線路、壓合、電鍍、;鐳射等步驟,對(duì)各層制作的準(zhǔn)度和漲縮控制要求較高,同時(shí),在材料、設(shè)備、環(huán)境、技術(shù)人員等方面也有較高的標(biāo)準(zhǔn)。
2 HDI板制作難點(diǎn)
2.1 盲孔制作
盲孔制作是HDI板制作中的關(guān)鍵技術(shù),主要以激光成孔為主。激光成孔技術(shù)具體包括UV激光成孔、CO2激光成孔以及混合激光成孔幾種。其中,最為常用的為CO2激光成孔,具有成本低、效率高等優(yōu)勢(shì)。在孔徑控制方面,由于該成孔技術(shù)解析度較低,孔徑通常大于0.1mm,而電鍍填孔則要求孔徑不能太大,否則會(huì)影響填孔效果,因此,必須將孔徑控制在0.1mm。L5~L6芯板控制難度較大,在控制孔徑和孔型時(shí)還應(yīng)防止打穿底銅,芯板的制作是HDI板制作的關(guān)鍵,直接影響HDI板制作的成功與否。影響盲孔直徑的因素主要有波長(zhǎng)、鐳射型態(tài)和直徑、聚焦距離等,光束直徑是控制孔徑的關(guān)鍵。此外,在制作盲孔時(shí),還應(yīng)該注重質(zhì)量控制,包括過燒蝕、懸伸量、側(cè)蝕、真圓度、玻纖、孔底殘膠等。標(biāo)準(zhǔn)孔型應(yīng)呈倒梯形,且下孔徑為上孔徑的75%~85%,孔壁呈直線,孔徑90μm-125μm,單邊≤10μm,真圓度≥85%,側(cè)蝕≤15μm,RCC板材≤10μm。
2.2 電鍍填孔
電鍍填孔中常用的硫酸鹽型電鍍液主要成分包括硫酸、硫酸銅、添加劑和氯離子等,對(duì)電鍍液成分進(jìn)行控制,能夠達(dá)到良好的填孔效果。盲孔的縱橫比一般為在3:4~1:1,為確保Cu2+能夠有效沉積,降低孔內(nèi)氣泡和空洞風(fēng)險(xiǎn),主要采用高銅低酸的體系。氯離子是一種常見的陽(yáng)極活化劑,能夠降低應(yīng)力作用,保持鍍層的光亮和平整,同時(shí),與抑制劑相互作用,能夠抑制PCB表面Cu2+沉積速度,實(shí)現(xiàn)與Cu2+配位,提高Cu2+還原速率,氯離子通??刂圃?0×10-6左右。添加劑主要是指運(yùn)載劑、整平劑、光亮劑等,能夠影響沉積過程,控制沉積層的形態(tài)和性質(zhì) ,保持表面光亮、均勻、平整。
2.3 準(zhǔn)度和漲縮控制
在任意層HDI板制作中,應(yīng)用LDI技術(shù),能夠提高對(duì)位準(zhǔn)度,減少對(duì)接偏差。 除采用LDI技術(shù),還可以設(shè)計(jì)對(duì)位靶標(biāo)以及選擇對(duì)位方式,對(duì)準(zhǔn)度進(jìn)行控制。其中靶標(biāo)設(shè)計(jì)是準(zhǔn)度控制的關(guān)鍵,在實(shí)際工作中,常常被忽略,L5~L6芯板選擇單一機(jī)械孔,應(yīng)注意疊板厚度、鉆孔參數(shù)、鉆咀質(zhì)量等;其他層應(yīng)選擇復(fù)合靶標(biāo)對(duì)位,且通常在外圍設(shè)計(jì)12~20個(gè)對(duì)位靶點(diǎn)。在漲縮控制方面,應(yīng)謹(jǐn)慎進(jìn)行材料選擇,以高穩(wěn)定性、高Tg材料為主;注重工程設(shè)計(jì)細(xì)節(jié),優(yōu)化圖形設(shè)計(jì),選擇小拼版設(shè)計(jì),根據(jù)試驗(yàn)數(shù)據(jù),設(shè)定預(yù)防系數(shù);優(yōu)化流程設(shè)計(jì),嚴(yán)格控制壓板參數(shù),使用化學(xué)法減銅;嚴(yán)格控制制作和存放環(huán)境的溫濕度。在實(shí)際工作中,會(huì)增加漲縮控制的難度,需要按照板子大小,進(jìn)行分類處理,減少控制難度。
3 結(jié)束語(yǔ)
HDI板制作工藝流程較多,工藝復(fù)雜,在制作時(shí),首先應(yīng)選擇工藝流程,明確制作的關(guān)鍵技術(shù),控制孔徑和孔型;合理配比電鍍液成分;注意填充率和凹陷度,確保填孔效果;加強(qiáng)準(zhǔn)度和漲縮控制,采用LDI技術(shù),設(shè)計(jì)對(duì)位靶標(biāo),選擇對(duì)位方式,謹(jǐn)慎選擇材料,優(yōu)化工程設(shè)計(jì)和流程設(shè)計(jì)等。
參考文獻(xiàn)
[1]陳世金,徐緩,楊詩(shī)偉,韓志偉,鄧宏喜.任意層高密度互連電路板制作關(guān)鍵技術(shù)研究[J].電子工藝技術(shù),2013,34(05):279-283.
[2]吳會(huì)蘭,曾祥剛,黃勇,金立奎.任意層高密度互連板對(duì)位系統(tǒng)優(yōu)化[J].印制電路信息,2014(12):7-9.
[3]林旭榮,張學(xué)東.任意層互聯(lián)技術(shù)研究開發(fā)介紹[J].印制電路信息,2012(04):157-160.
[4]Interactions of Cl- and Brightener-Components in Copper Plating from an Acid Sulphate Bath.Yokoi M,Konishi S. Metal Finishing.1983.
[5]Supercon-formal Electrodeposition of Copper in 500-90nm Features. Moffat T P,Bonevich J E,Huber W H,et al.Journal of the Electrochemical Society,2000.
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