楊斌,高曉芳,劉向東,徐光以,徐華峰
(湖北新華光信息材料有限公司,湖北 襄陽 441057)
高純二氧化鈦是環(huán)境友好光學(xué)玻璃的重要原料。由于環(huán)境友好光學(xué)玻璃要求高透明度,對原料的著色雜質(zhì)控制非常嚴(yán)格:Fe、Cu、Cr、Co、Ni、Mn、V 等一般在ppm 級[1],因此對其著色雜質(zhì)含量的測定具有重要意義。有關(guān)文獻(xiàn)[2-5]報道較多,不過有的雜質(zhì)含量較高,有的需要用交換樹脂,有的因干擾回避鉻元素測試。本文采用氯化法,高純二氧化鈦樣品用氫氟酸溶解,加入高氯酸和硫酸驅(qū)趕氫氟酸,利用高分辨率儀器ICP-AES 測定微量著色鉻元素。
JY ULTIMA-2 型電感耦合等離子發(fā)射光譜(法國JY 公司)。高頻發(fā)生器頻率為40.68 MHz,焦距1 m,全息光柵4320/mm;射頻功率1.0 kW;冷卻氣12L/min;護套氣0.2 L/min;試液提升量1.0 mL/min;積分時間為4 s,測定3 次取平均值。
Cr 元素標(biāo)準(zhǔn)溶液(國家鋼鐵材料測試中心):1000 mg/L,使用時稀釋至所需濃度,備用。
所用氫氟酸、硫酸、高氯酸為優(yōu)級純;水為去離子水(電阻率為18.2MΩ·cm)。
1.2.1 樣品消解
精確稱取已于105~110℃烘干的試樣1g(精確至0.0001g)于鉑皿中,加入氫氟酸10 mL,在電熱板上加熱至樣品溶解,然后加入1mL 高氯酸和6mL 硫酸,加熱冒濃煙約5min,冷卻后用水稀釋,移入100mL 容量瓶,用水稀釋至刻度。同時進行空白實驗。
1.2.2 工作曲線
按樣品溶解方法,用光譜純氧化鈦制備出20mg/mL 氧化鈦基體溶液。平行分取25 mL 基體溶液5 份于50 mL 容量瓶中,將Cr 元素的標(biāo)準(zhǔn)工作溶液分別加入到4 瓶試液中,定容。配制出0.0,0.05,0.1,0.5,1.0μg/mL Cr 標(biāo)準(zhǔn)溶液系列。以標(biāo)準(zhǔn)的加入量對元素譜線的強度值做回歸曲線。
二氧化鈦可以用氫氟酸溶解,但耐氫氟酸霧化器靈敏度低,況且一般實驗室無配備。硫酸鹽和硫酸法溶解使進樣溶液總固體溶解量(TDS)過高,影響進樣[6]。選擇HF-HClO4-H2SO4溶解樣品,把含氟的溶液轉(zhuǎn)化為硫酸鈦溶液,試液中鹽份低,可以用普通的玻璃進樣系統(tǒng)進行測試。
在基體存在下,分析譜線選擇被測元素?zé)o光譜干擾及背景干擾,靈敏度高的分析線。
采用儀器 IMAGE 軟件初步選定,用PROFILE 程序繪出各雜質(zhì)譜線輪廓圖形(掃描溶液分別為①Ti+0.0μg/mL,氧化鈦基體溶液(10mg/mL),介質(zhì)為硫酸5%;②Ti+0.1μg/mL:含10mg/mL 氧化鈦基體的0.1μg/mLCr 標(biāo)準(zhǔn),介質(zhì)為硫酸5%),確定分析用譜線。
從表1 中可見,Cr 常用靈敏線205.552nm、267.716nm 都受到基體干擾,綜合考慮選取信背比較高且無干擾的Cr276.654nm 作為測試分析線。
表1 鉻元素分析線的選擇
二氧化鈦中微量元素的含量相當(dāng)?shù)停嗷ブg的干擾也很低,干擾產(chǎn)生主要來自于基體元素鈦[6]。本文采用基體匹配的方法,以消除樣品中鈦基體的影響。
對空白樣品進行連續(xù)10 次的測定,用10 次測試的標(biāo)準(zhǔn)偏差(SD)平均值乘3 而得到該方法的檢出限0.18μg/g。其線性回歸方程為I=10587+126840*c,相關(guān)系數(shù)r=0.9999701。
在試樣中加入不同濃度的Cr 標(biāo)準(zhǔn)溶液,在相同條件下測定,進行6 次測試,計算測定值的相對標(biāo)準(zhǔn)偏差(RSD,n=6)小于5%,具有良好的穩(wěn)定性,結(jié)果見表2。加標(biāo)回收率99%~105%。
表2 回收試驗和精密度試驗結(jié)果(n=6)
本工作采用電感耦合等離子體原子發(fā)射光譜法測定二氧化鈦中微量鉻,采用基體匹配法,普通的玻璃進樣系統(tǒng),鹽分低,分析快速,結(jié)果準(zhǔn)確,該方法適用于日常測試。