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      鈷鉻合金和聚醚醚酮用于可摘局部義齒支架的三維有限元分析

      2019-09-17 01:49:14陳昕毛渤淳魯雨晴董博朱卓立岳莉于海洋
      國際口腔醫(yī)學(xué)雜志 2019年5期
      關(guān)鍵詞:余留基牙頜骨

      陳昕 毛渤淳 魯雨晴 董博 朱卓立 岳莉 于海洋

      口腔疾病研究國家重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室 國家口腔疾病臨床醫(yī)學(xué)研究中心四川大學(xué)華西口腔醫(yī)院修復(fù)Ⅱ科 成都 610041

      在口腔修復(fù)的臨床工作中,可摘局部義齒用于修復(fù)牙列缺損,其適應(yīng)證最廣且設(shè)計(jì)靈活[1-2]。由于頜骨和黏膜在受力后的可讓性不同,故不同的設(shè)計(jì)方案及材料會(huì)對患者軟硬組織的受力及變形產(chǎn)生不同的影響。尤其是肯氏Ⅰ類雙側(cè)游離缺失的患者,其可摘局部義齒修復(fù)的患者滿意率常常不高[3]。聚醚醚酮(polyetheretherketone,PEEK)是一種半結(jié)晶的有機(jī)高分子材料,其化學(xué)性質(zhì)穩(wěn)定[4],具有一定的生物相容性[5],細(xì)菌黏附率較低[6],并易于機(jī)械加工成型[7],得到口腔材料學(xué)的廣泛關(guān)注。近年來,對PEEK的研究主要集中在制作種植橋架和可摘局部義齒的固位卡環(huán)上[8],應(yīng)用于數(shù)字化可摘局部義齒整體支架設(shè)計(jì)的研究在近幾年才慢慢開始有少數(shù)臨床病例的報(bào)道[9-10]。

      本文旨在通過三維有限元分析[11-12],應(yīng)用數(shù)學(xué)模擬來探究適合PEEK作為可摘局部義齒支架材料對患者口腔組織的受力影響及支架設(shè)計(jì)要點(diǎn)是否與傳統(tǒng)的、使用較為成熟的鈷鉻合金相似。

      1 材料和方法

      1.1 模型數(shù)據(jù)獲取

      選取1名肯氏Ⅰ類雙側(cè)游離缺失的53歲男性患者為研究對象??谇粰z查發(fā)現(xiàn)上頜牙列全缺失,上頜牙槽骨吸收,下頜46、47、43—31、34—37牙缺失,牙槽嵴低平,牙槽骨吸收。余留牙無明顯異常,未見松動(dòng)。

      有限元模型構(gòu)建過程詳見圖1。

      圖1 有限元模型構(gòu)建過程Fig 1 Finite element model construction process

      如圖1有限元模型構(gòu)建過程所示,首先利用印模材料制取下頜功能印模,灌注石膏制作模型。然后應(yīng)用3shape D2000模型掃描儀掃描石膏模型獲得患者口內(nèi)表面形貌STL(stereolithography)格式數(shù)據(jù)。

      最后將模型導(dǎo)入12.0 Geo-magic studio(Geomagic公司,美國)軟件中,以點(diǎn)云格式打開,對模型進(jìn)行去噪,之后將模型封裝為曲面。優(yōu)化曲面后,擬合曲面片為NURBS曲面,轉(zhuǎn)化為STP(standard for the exchange of product)格式口腔黏膜實(shí)體模型以備之后處理。

      1.2 頜骨及余留牙數(shù)據(jù)獲取

      利用Morita錐形束計(jì)算機(jī)斷層(cone beam computed tomography,CBCT)掃描系統(tǒng)(Kyoto公司,日本)對患者下頜骨下緣至顳下窩上緣連續(xù)掃描,獲得共401層的DICOM圖像,層厚為0.25 mm。將CT圖像導(dǎo)入17.0 Mimics軟件(Materialise公司,比利時(shí)),選擇“global threshold”閾值來分離軟組織與牙體及頜骨,然后對形態(tài)學(xué)進(jìn)行自動(dòng)分割操作,同時(shí)減少噪聲和偽影。運(yùn)用閾值逐層分離余留牙與頜骨,再分別生成STL模型。將頜骨模型與余留牙分別導(dǎo)入Geomatics studio軟件,按照上述石膏模型STL模型的處理方法相同處理,得到STP格式的余留牙與頜骨的實(shí)體模型。

      1.3 模型位置匹配與黏膜數(shù)據(jù)獲取

      在Geomatics studio軟件中,將頜骨和余留牙模型與口內(nèi)模型進(jìn)行位置匹配,運(yùn)用布爾邏輯操作,將外露于口腔黏膜模型的多余頜骨模型部分減去,保留黏膜內(nèi)頜骨部分。將口腔黏膜模型上的余留牙部分用余留牙模型減去,獲得最終口腔黏膜模型。將余留牙處于牙槽窩部分向外均勻擴(kuò)大0.2 mm作為牙周膜[13]。

      1.4 可摘局部義齒支架設(shè)計(jì)

      如圖2所示,按照可摘局部義齒設(shè)計(jì)規(guī)范,由專業(yè)口腔修復(fù)醫(yī)學(xué)醫(yī)生及口腔修復(fù)工藝技師共同設(shè)計(jì),利用2018 EXO-CAD三維設(shè)計(jì)軟件(EXOCAD GmbH公司,德國)在模型表面進(jìn)行三維可摘局部義齒支架、基托及人工牙的設(shè)計(jì)。實(shí)驗(yàn)采用2種不同的支架設(shè)計(jì),除卡環(huán)類型外其余部件均一致。

      圖2 可摘局部義齒支架設(shè)計(jì)Fig 2 Design of removable partial denture framework

      1.5 三維有限元模型的建立

      將各實(shí)體模型導(dǎo)入2016 Abaqus/CAE有限元分析軟件中(SIMULIA公司,美國),對各模型進(jìn)行非結(jié)構(gòu)方法劃分網(wǎng)格(線條最小單位0.005 m,接觸面最小單位0.001 m),模型采用三節(jié)點(diǎn)四面體單元,網(wǎng)格化后各模型節(jié)點(diǎn)數(shù)與單元格數(shù)見表1。

      表1 網(wǎng)格化后各模型節(jié)點(diǎn)數(shù)與單元格數(shù)Tab 1 Number of nodes and cells after meshing

      實(shí)驗(yàn)中,除黏膜外其余材料均假設(shè)為連續(xù)、各向同性、均質(zhì)的線性材料,其彈性模量、泊松比見表2[14-16]。牙周膜采用非線性超彈性模型,按照Vollmer等[17]研究中的牙周膜雙線性應(yīng)力應(yīng)變曲線設(shè)定參數(shù)。當(dāng)牙周膜的應(yīng)變量ε<7.5%時(shí),此階段彈性模量為E1=0.05 MPa;當(dāng)應(yīng)變量ε>7.5%時(shí),彈性模量為E2=0.22 MPa。

      表2 各模型材料的力學(xué)參數(shù)Tab 2 Mechanical parameters

      文獻(xiàn)[11]表明牙體的力學(xué)性能相似,故將其簡化為均一的牙本質(zhì)材料,不考慮釉質(zhì)與牙骨質(zhì)的區(qū)別。牙周膜與牙根被認(rèn)為是位置約束的。各卡環(huán)、支托與牙齒的摩擦系數(shù)為0.1,基托與口腔黏膜間摩擦系數(shù)約為0.01[18]。人工牙與基托為完全粘連關(guān)系。位移約束施加在頜骨底面與兩側(cè)切面,在t=0時(shí)刻,牙周膜的位移為0。在每一副義齒的2顆第一磨牙中央窩位置分別施加垂直加載載荷120 N;記錄不同加載條件下基牙位移情況、黏膜位移情況和支架受力情況。

      2 結(jié)果

      基牙位移、黏膜位移以及支架受力的情況詳見圖3。

      圖3 基牙位移、黏膜位移及支架受力情況Fig 3 Abutment displacement, mucosal displacement and the stress of framework

      如圖3所示,同種設(shè)計(jì)PEEK支架的基牙最大位移量小于鈷鉻合金;黏膜最大位移量大于鈷鉻合金,且均分布于缺牙區(qū)遠(yuǎn)端;支架受力小于鈷鉻合金,且力的分布更加均勻。

      2.1 基牙位移

      支架1采用鈷鉻合金和PEEK制作,下頜左側(cè)尖牙最大位移分別為179.7和163.0 μm;支架2則分別為128.0和106.1 μm。支架1的尖牙最大位移均大于支架2。同種設(shè)計(jì),使用PEEK支架的尖牙最大位移小于鈷鉻合金。

      2.2 黏膜位移

      鈷鉻合金制作的支架1和支架2,黏膜最大位移處均位于下頜左側(cè)游離端,分別為0.400 6和0.427 2 mm。PEEK的分布范圍與鈷鉻合金一致,但位移量更大,分別為0.631 6和0.643 0 mm。

      2.3 支架受力

      鈷鉻合金制作的支架1和PEEK制作的支架1,其受力最大處均分布在下頜左側(cè)尖牙的遠(yuǎn)中,分別為446.2和92.4 MPa。鈷鉻合金制作的支架2和PEEK制作的支架2的受力最大處均分布在下頜左側(cè)尖牙T桿由近遠(yuǎn)中走向轉(zhuǎn)為齦走向的轉(zhuǎn)折處,分別為388.8和72.8 MPa。PEEK制作的支架受力明顯小于鈷鉻合金,且力的分散更均勻。詳見表3。

      表3 各模型加載后位移及受力結(jié)果Tab 3 Displacement and stress after loading

      3 討論

      本實(shí)驗(yàn)中,下頜支架均為舌板設(shè)計(jì),與牙體有接觸,可以起到間接固位體的作用,在義齒受到咀嚼力的時(shí)候,將力量傳導(dǎo)到牙體,進(jìn)而傳導(dǎo)到牙周膜與牙槽窩,以防止支架下沉。故頜骨的最大位移處出現(xiàn)在牙槽窩。由于PEEK的彈性模量大于鈷鉻合金,其因咀嚼作用下軟硬組織可讓性差異造成的應(yīng)力,更多地通過自身形變轉(zhuǎn)變?yōu)閮?nèi)應(yīng)力,從而減少對基牙的扭力,這一點(diǎn)與Zoidis等[9]的看法一致。加之在舌側(cè)間接固位體的旋轉(zhuǎn)扭矩作用下,鈷鉻合金支架的基牙最大位移處為下頜基牙的頰側(cè)[19]。而PEEK由于其優(yōu)良的力學(xué)性能[20],將咀嚼力分散在黏膜及支架內(nèi)部,起到較好的保護(hù)基牙和牙周膜的作用。但其對缺牙區(qū)黏膜和牙槽骨的壓力更大,不適合黏膜和骨質(zhì)較差的患者[21-22]。

      由于下頜左側(cè)的游離缺失牙體數(shù)比右側(cè)多,根據(jù)杠桿原理,下頜左側(cè)的脫位力力臂更長。但直接固位體只有一個(gè),位于下頜左側(cè)尖牙上。下頜右側(cè)的直接固位體則位于兩顆前磨牙上,即下頜左側(cè)的固位力較小。在相同力矩的條件下,下頜左側(cè)受到的脫位力更大。故無論何種材料、何種設(shè)計(jì),支架的應(yīng)力集中點(diǎn)均位于下頜左側(cè)。并且通過對比支架2(T型卡環(huán))與支架1左側(cè)的卡環(huán)(A型卡環(huán))受力可以發(fā)現(xiàn),支架的應(yīng)力集中點(diǎn)常位于小連接體或卡環(huán)的直角轉(zhuǎn)折處,這一點(diǎn)與以往的研究一致[23-24]。PEEK支架的受力整體相對于鈷鉻合金小,且應(yīng)力分散更加均勻。

      綜上所述,對于牙列遠(yuǎn)中游離缺失的患者,PEEK制作的支架具有一定的保護(hù)基牙和牙周膜的作用,并且支架內(nèi)部的應(yīng)力更小、更均勻。但其對缺牙區(qū)黏膜和牙槽骨的壓力更大,不適合黏膜和骨質(zhì)較差的患者。

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