顧大鵬,胡文成,竇義濤
(中國(guó)航發(fā)沈陽(yáng)發(fā)動(dòng)機(jī)研究所,沈陽(yáng)110015)
近年來(lái),隨著國(guó)家對(duì)環(huán)境保護(hù)工作的日益重視及對(duì)提高航空發(fā)動(dòng)機(jī)燃燒效率需求的提升,要求開(kāi)發(fā)低排放燃燒室。旋流器結(jié)構(gòu)具有良好的氣動(dòng)霧化性能,可以實(shí)現(xiàn)空氣與燃料的混合。旋流器安裝在火焰筒的前端,主要功能是在火焰筒內(nèi)形成穩(wěn)定的回流區(qū),實(shí)現(xiàn)促進(jìn)燃?xì)饣旌?、穩(wěn)定火焰的設(shè)計(jì)目的。旋流器是燃燒室的重要組成部分,其設(shè)計(jì)直接影響發(fā)動(dòng)機(jī)的工作狀態(tài)[1]和排放指標(biāo)。
粒子圖像測(cè)速儀(Particle Image Velocity,PIV)技術(shù)最早應(yīng)用于20世紀(jì)70年代,其自身精度高,為非接觸式測(cè)量,可以獲得瞬態(tài)流場(chǎng)及其精確的定量結(jié)果[2]。PIV測(cè)速技術(shù)在燃燒室內(nèi)流場(chǎng)研究中得到廣泛應(yīng)用。Elkady等[3]利用PIV測(cè)量了燃?xì)廨啓C(jī)燃燒室內(nèi)的流場(chǎng)結(jié)構(gòu),得到不同主燃孔位置對(duì)流場(chǎng)的影響;彭云暉等[4]對(duì)雙旋流空氣霧化噴嘴中2種不同的旋流杯出口套筒的主燃區(qū)流場(chǎng)進(jìn)行測(cè)量研究;Pandu等[5]利用PIV測(cè)量燃燒室回流區(qū)尺寸、速度場(chǎng),并對(duì)回流區(qū)的特征進(jìn)行研究;楊浩林等[6]利用PIV對(duì)擴(kuò)散燃燒流場(chǎng)的方法進(jìn)行研究;Wang H Y等[7-10]對(duì)不同結(jié)構(gòu)的旋流杯流場(chǎng)進(jìn)行系列研究,掌握了不同結(jié)構(gòu)對(duì)流場(chǎng)的影響規(guī)律;張欣等[11]利用PIV對(duì)單頭部雙級(jí)旋流器燃燒室紊流流場(chǎng)進(jìn)行測(cè)量,得出了不同旋流器幾何參數(shù)對(duì)流場(chǎng)內(nèi)速度分布和回流區(qū)結(jié)構(gòu)都有很大影響的結(jié)論;韓啟祥等[12]利用PIV技術(shù)對(duì)雙軸向反旋旋流器、單頭部、矩形模型燃燒室內(nèi)的冷態(tài)流場(chǎng)進(jìn)行試驗(yàn)研究;胡好生等[13]利用PIV研究了偏心對(duì)雙級(jí)旋流器出口流場(chǎng)影響;唐軍等[14]利用PIV測(cè)量了采用斜切徑向雙級(jí)旋流器的環(huán)形燃燒室單頭部矩形模型的冷態(tài)速度場(chǎng);王成軍等[15]利用PIV對(duì)3級(jí)旋流杯燃燒室流場(chǎng)進(jìn)行研究。
本文上述研究過(guò)程中只對(duì)旋流器出口位置上的單一截面流場(chǎng)進(jìn)行測(cè)量,雖然得到了回流區(qū)尺寸,但是對(duì)回流區(qū)在空間的分布特點(diǎn)缺少必要的研究,本文利用PIV對(duì)帶雙級(jí)旋流器的模型燃燒室內(nèi)冷態(tài)流場(chǎng)進(jìn)行測(cè)量,研究其內(nèi)部回流區(qū)形態(tài),探索雙級(jí)旋流器冷態(tài)流場(chǎng)的分布規(guī)律。
試驗(yàn)件結(jié)構(gòu)如圖1所示。試驗(yàn)?zāi)M用燃燒室為矩形,從接口A、B分別進(jìn)氣,通過(guò)預(yù)混段后,各自通過(guò)其中1級(jí)旋流器,2級(jí)旋流器均為軸向旋流器,旋向相同,2級(jí)旋流器主要技術(shù)參數(shù)見(jiàn)表1。高壓空氣通過(guò)旋流器后進(jìn)入測(cè)試段并最終由接口C排入大氣。
圖1 試驗(yàn)件結(jié)構(gòu)
表1 進(jìn)口A、B同時(shí)進(jìn)氣流量試驗(yàn)測(cè)試結(jié)果
PIV測(cè)速系統(tǒng)試驗(yàn)臺(tái)如圖2所示。該試驗(yàn)臺(tái)主要包括:PIV測(cè)試系統(tǒng)、雙旋流、單頭部低排放燃燒室試驗(yàn)件、粒子發(fā)生器、進(jìn)排氣系統(tǒng)、電氣系統(tǒng)及測(cè)量系統(tǒng)等。其中PIV測(cè)試系統(tǒng)包括:雙YAG激光器、激光器電源、導(dǎo)光臂、片光透鏡組、同步觸發(fā)器、CCD跨幀相機(jī)和計(jì)算機(jī)等,測(cè)量精度為0.2%。
圖2 PIV測(cè)速系統(tǒng)
本次試驗(yàn)選用Part40液體粒子發(fā)生器,該粒子發(fā)生器的工作介質(zhì)采用橄欖油,通過(guò)調(diào)節(jié)粒子發(fā)生器的進(jìn)、出口壓力,生成的示蹤粒子直徑為0.5~5 μm,根據(jù)Mie散射理論結(jié)合本試驗(yàn)特點(diǎn),最終選擇直徑為4 μm液體粒子為本次試驗(yàn)的示蹤粒子。在試驗(yàn)件進(jìn)氣接口前進(jìn)行全局性均勻布撒示蹤粒子,直接由高壓空氣將示蹤粒子帶入試驗(yàn)測(cè)試區(qū)域內(nèi),以增加示蹤粒子與高壓空氣接觸的時(shí)間,使其與高壓空氣充分混合,保證示蹤粒子對(duì)流場(chǎng)的良好跟隨性。
本次試驗(yàn)環(huán)境溫度為20℃,試驗(yàn)件排氣通過(guò)管道排入大氣,空氣流量試驗(yàn)結(jié)果見(jiàn)表2。
表2 進(jìn)口A、B同時(shí)進(jìn)氣流量試驗(yàn)測(cè)試結(jié)果
從試驗(yàn)結(jié)果可見(jiàn),隨著供氣壓降的增大,試驗(yàn)件空氣流量增加,在同壓升條件下B口空氣流量增加值大于A口的,這與B口所對(duì)應(yīng)的旋流器的截面積大于A口的直接相關(guān)。
本次試驗(yàn)選取試驗(yàn)件中心橫剖面及距離中心橫剖面距離為4 cm處的3個(gè)截面,分別定義為截面1、2、3,其中截面2為中心截面;選取4個(gè)縱剖截面,分別定義為截面 4、5、6、7,其中截面 4 距旋流器出口為 10 cm,4截面間距為12 cm,共計(jì)7個(gè)截面進(jìn)行流場(chǎng)測(cè)量。PIV測(cè)試截面位置如圖3所示。定義沿測(cè)試區(qū)域軸向方向?yàn)閄,徑向方向?yàn)閅,與XY平面垂直的方面為Z。
圖3 PIV測(cè)速截面
試驗(yàn)所得流場(chǎng)速度矢量如圖4~10所示。在進(jìn)行截面1、2、3試驗(yàn)時(shí),測(cè)量旋流器中心出口XY平面200 mm×200 mm范圍內(nèi)的流場(chǎng),其中X軸坐標(biāo)0處距離旋流器出口10 cm;在進(jìn)行截面4、5、6、7試驗(yàn)時(shí),測(cè)量旋流器中心出口XY平面150 mm×150 mm范圍內(nèi)的流場(chǎng)。定義截面1、2、3為徑向截面,截面4、5、6、7 為軸向截面。
2.2.1 測(cè)試區(qū)域徑向截面測(cè)試結(jié)果
截面1、3為以試驗(yàn)件中心截面為中心相互對(duì)稱,如圖4、5所示。從圖中可見(jiàn),在2種狀態(tài)下,2個(gè)截面的流場(chǎng)流動(dòng)方向相反,隨著供氣壓力的升高,流場(chǎng)內(nèi)的最高速度增加,高速區(qū)的面積減小。并且由于靠近中心截面,2幅流場(chǎng)圖中靠近試驗(yàn)件測(cè)試段的下表面位置上有回流區(qū)邊緣存在。隨著距試驗(yàn)件出口距離的增加,流場(chǎng)受到回流區(qū)的影響減小,氣流基本呈豎直方向運(yùn)動(dòng)。
圖4 截面1流場(chǎng)速度矢量
圖5 截面3流場(chǎng)速度矢量
試驗(yàn)件中心截面2流場(chǎng)如圖6所示。從圖中可見(jiàn),在2種狀態(tài)下,流場(chǎng)中均存在明顯回流區(qū),流場(chǎng)形態(tài)基本一致。表明隨著試驗(yàn)件進(jìn)氣口壓降的增大,回流區(qū)變長(zhǎng),進(jìn)氣壓降為4.78%時(shí),回流區(qū)長(zhǎng)約150 mm,進(jìn)氣壓降為7.28%時(shí),回流區(qū)長(zhǎng)約200 mm,回流區(qū)的面積增加,回流區(qū)內(nèi)的氣體流動(dòng)速度減小,回流更強(qiáng)烈。
圖6 截面2流場(chǎng)速度矢量
2.2.2 測(cè)試區(qū)域軸向截面測(cè)試結(jié)果
靠近旋流器出口截面的速度場(chǎng)如圖7所示。從圖中可見(jiàn),在速度場(chǎng)圖的下半部分存在大面積低速區(qū),說(shuō)明在該位置截面上的流場(chǎng)速度值很小,與截面2圖中的回流區(qū)位置相對(duì)應(yīng)。
圖7 截面4流場(chǎng)速度矢量
軸向截面與試驗(yàn)件出口距離由近及遠(yuǎn)的速度場(chǎng)如圖8~10所示。從圖中可見(jiàn),在相同截面上,隨著供氣壓力的增加,最大速度值也隨之增大;在相同試驗(yàn)狀態(tài)下,隨著距試驗(yàn)件出口距離的增加,截面上的最大速度值減小,中心低速區(qū)面積增加,圓形流場(chǎng)形態(tài)趨于方形流場(chǎng)。從圖中不難看出,軸向截面流場(chǎng)中的最大速度均在測(cè)試段的壁面附近分布。
2.2.3 截面2軸向速度分析
圖8 截面5流場(chǎng)速度矢量
圖9 截面6流場(chǎng)速度矢量
圖10 截面7流場(chǎng)速度矢量
進(jìn)氣壓降為4.78%時(shí)距測(cè)試區(qū)域邊緣距離為10、50、100、150、200 mm 的截面 2 上的軸向速度 U的徑向分布如圖11所示。從圖中可見(jiàn),在X=10 mm處,旋流器中心Y=20~110 mm及Y=170~200 mm范圍內(nèi)出現(xiàn)負(fù)速度區(qū)域,表明此處存在回流區(qū),在整個(gè)截面上存在2處回流區(qū),這與截面2該位置上的速度相對(duì)應(yīng);在Y=0~20 mm和Y=110~170 mm范圍內(nèi)U為正值,可理解為該處為2級(jí)旋流器出口氣流的位置。隨著距旋流器出口距離的增加,回流區(qū)的軸向速度負(fù)值隨之減小。在X=200 mm處軸向速度負(fù)值已趨于零,表明在該位置已處在回流區(qū)邊緣。同時(shí),從靠近Y=0位置開(kāi)始,速度正值的范圍增大,另一速度正值范圍在減小,回流區(qū)呈增大趨勢(shì),2處回流區(qū)逐漸合二為一。
圖11 進(jìn)氣壓降為4.78%時(shí)截面2流場(chǎng)軸向速度U分布
進(jìn)氣壓降為7.28%時(shí)距測(cè)試區(qū)域邊緣距離為10、50、100、150、200 mm的截面2上的軸向速度U的徑向分布如圖12所示。從圖中可見(jiàn),在X=10 mm處,旋流器中心Y=20~100 mm及Y=160~200 mm范圍內(nèi)出現(xiàn)負(fù)速度區(qū)域,表明此處存在回流區(qū),回流區(qū)內(nèi)的速度比進(jìn)氣壓降為4.78%時(shí)的更大,這與隨著進(jìn)氣壓降的增大,空氣流量增加有直接關(guān)系。隨著距旋流器出口距離增加,回流區(qū)的變化趨勢(shì)與供氣壓降為4.78%時(shí)的變化趨勢(shì)基本一致。
圖12 進(jìn)氣壓降為7.28%時(shí)截面2流場(chǎng)軸向速度U分布
2.2.4 測(cè)試區(qū)域徑向速度分析
進(jìn)氣壓降為4.78%時(shí)距測(cè)試區(qū)域邊緣距離為10、50、100、150、200 mm 的截面 2 上的徑向速度 V的徑向分布如圖13所示。從圖中可見(jiàn),在X=10、200 mm處,徑向速度V幾乎為零,表明在該位置上流場(chǎng)速度在Y軸方向上的速度分量為零,結(jié)合圖11可知流場(chǎng)內(nèi)氣流以沿X軸方向運(yùn)動(dòng)為主,結(jié)合截面4流場(chǎng)結(jié)構(gòu)圖可知,在上述位置上各點(diǎn)存在沿Z軸方向的分速度。在 X=50、100、150 mm 處,Y=0~80 mm 位置,徑向速度V為正值,表明在該范圍內(nèi)存在回流區(qū)。在Y=80~200 mm位置,徑向速度V幾乎為零,表明在位置流場(chǎng)流動(dòng)方向以水平流動(dòng)為主。
圖13 進(jìn)氣壓降為4.78%時(shí)截面2流場(chǎng)徑向速度V分布
進(jìn)氣壓降為7.28%時(shí)距測(cè)試區(qū)域邊緣距離為10、50、100、150、200 mm 的截面 2 上的徑向速度 V的徑向分布如圖14所示。從圖中可見(jiàn),在X=10、50、100 mm處,徑向速度V在Y=80 mm位置上發(fā)生由正轉(zhuǎn)負(fù)變化,說(shuō)明在Y=0~80 mm范圍內(nèi),流場(chǎng)存在沿Y軸正方向的速度分量,表明在該范圍內(nèi)存在回流區(qū);在Y=80~200 mm范圍內(nèi),徑向速度V為負(fù)值,氣流運(yùn)動(dòng)速度有Y軸負(fù)方向上的分量,該位置也存在回流區(qū)。結(jié)合在該位置上軸向速度U分析可知,在該截面上存在2個(gè)不同的回流區(qū)。在X=150、200 mm處,在Y=0~70 mm內(nèi)徑向速度V大于零,此處仍存在回流區(qū);在其他位置上徑向速度幾乎為零,與截面4流場(chǎng)速度矢量圖對(duì)比可見(jiàn),在徑向速度幾乎為零的位置上,流場(chǎng)速度存在沿Z軸方向上的速度分量。
圖14 進(jìn)氣壓降為7.28%時(shí)截面2流場(chǎng)徑向速度V分布
采用PIV對(duì)雙旋流燃燒室冷態(tài)流場(chǎng)特性進(jìn)行了研究,得出主要結(jié)論如下:
(1)隨著進(jìn)氣壓降的增大,流場(chǎng)內(nèi)的最大流速隨之增大,流場(chǎng)回流區(qū)面積增加,回流區(qū)變長(zhǎng),軸向截面內(nèi)流場(chǎng)的最大速度隨之增大,表明旋轉(zhuǎn)速度更快;
(2)通過(guò)軸向截面測(cè)試可知,在相同進(jìn)氣壓降條件下,隨著測(cè)量截面距旋流器出口距離增加,旋轉(zhuǎn)速度變小;
(3)在流場(chǎng)軸向速度U分布圖中,U為負(fù)值區(qū)域存在回流區(qū),在流場(chǎng)徑向速度V分布圖中,V不為零區(qū)域存在回流區(qū)。