孫 賢，謝易微，許紹俊，楊成韜

電子科技大學(xué) 電子薄膜與集成器件國家重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室，四川 成都 611731)

0 引言

本文通過磁控濺射方法沉積了不同氮?dú)辶髁勘?8∶17～14∶17)下ErAlN薄膜并制備了SAW濾波器。探究了ErAlN薄膜的結(jié)晶質(zhì)量和基于ErAlN薄膜的SAW濾波器的聲波特性。

1 實(shí)驗(yàn)

本文采用射頻磁控濺射方法，以藍(lán)寶石(0001)作為襯底，沉積了具有c軸取向的ErAlN薄膜。靶材純度為99.99%的Al-Er合金(Er含量為8%)，在薄膜沉積前，將藍(lán)寶石襯底依次用丙酮、無水乙醇和去離子水進(jìn)行超聲清洗。靶基距為6.7 cm，濺射腔室的真空度約為4×10-4Pa，襯底溫度為230 ℃，濺射氣壓為0.85 Pa，濺射功率為230 W，通入氮?dú)辶髁勘确謩e為8∶17,9∶17,10∶17,11∶17,12∶17,14∶17，開始濺射。

基于ErAlN薄膜制備了SAW濾波器。濾波器由80對(duì)IDT叉指電極(Al)組成，其波長λ為20 μm。兩個(gè)IDT換能器的間距為10λ，孔徑為20λ。IDT與相鄰的短反射光柵之間的距離設(shè)計(jì)為1λ，以確保在中心頻率處形成駐波。圖1為SAW器件的示意圖。

圖1 SAW濾波器示意圖

使用XRD晶體衍射儀分析薄膜的結(jié)晶取向和質(zhì)量。使用原子力顯微鏡(AFM，SPA-300HV)測(cè)試表面粗糙度。使用Agilent E5071C網(wǎng)絡(luò)分析儀測(cè)量了SAW濾波器的聲波傳輸特性。

2 分析和討論

2.1 晶體結(jié)構(gòu)

圖2為不同氮?dú)辶髁勘认翬rAlN薄膜的XRD圖。由圖可見，所有ErAlN薄膜的XRD衍射角位于36°附近，均表現(xiàn)出AlN(002)纖鋅礦型的擇優(yōu)取向，在42°處的衍射角代表藍(lán)寶石襯底的峰值。

圖2 不同流量比下ErAlN薄膜的XRD圖譜

由圖2還可見，隨著氮?dú)辶髁勘鹊脑黾樱?002)峰強(qiáng)先增加后減小，(100)晶面逐漸消失，這是因?yàn)殡S著反應(yīng)氣體N2的增加，靶材濺射出的Al粒子與N2結(jié)合效率增加，薄膜結(jié)晶質(zhì)量得到改善，Ar含量相對(duì)減少，等離子體能量減小。因此，薄膜沉積速率下降，(100)晶面逐漸消失，利于(002)晶面的擇優(yōu)生長。隨著N2含量的進(jìn)一步升高，一方面產(chǎn)生靶中毒現(xiàn)象，濺射效率下降，另一方面Ar含量相對(duì)不足，故濺射所需能量不足，靶材濺射出的Al粒子減少，(002)晶面的峰強(qiáng)下降。當(dāng)V(N2)∶V(Ar)=12∶17時(shí)，ErAlN薄膜具有最純凈的(002)取向和最好的結(jié)晶質(zhì)量。

圖3為不同氮?dú)辶髁勘认翬rAlN薄膜的AFM圖。由圖可見，隨著氮?dú)辶髁勘鹊脑黾?，薄膜表面粗糙?Ra)先減小后增加，濺射的靶材粒子具有較高的能量，能保證具有ErAlN薄膜成分的原子在襯底表面遷移，達(dá)到最小能量勢(shì)壘處，形成較為有序的結(jié)構(gòu)，表面逐漸變得光滑。當(dāng)?shù)獨(dú)辶髁勘仍僭黾訒r(shí)，靶材會(huì)產(chǎn)生中毒現(xiàn)象，濺射均勻性變差，且Ar含量相對(duì)不足，濺射的離子能量減小，不利于粒子的遷移、重排，因此，其表面粗糙度增大。在V(N2)∶V(Ar)=12∶17時(shí)，表面粗糙度最小(為4.8 nm)。當(dāng)ErAlN薄膜的表面粗糙度為4.8～9.85 nm時(shí)，符合SAW器件的制作要求。

圖3 不同流量比下ErAlN薄膜的AFM圖譜

2.2 SAW器件的聲波性能

圖4為基于ErAlN薄膜制備的SAW濾波器，其波長λ為20 μm。由圖可見，ErAlN薄膜在273～288 MHz均有諧振峰，這說明ErAlN薄膜均具有壓電效應(yīng)，根據(jù)λ=v/f，可得ErAlN薄膜聲速為5 460～5620 m/s。當(dāng)V(N2)∶V(Ar)=12∶17時(shí)，諧振峰的傳輸系數(shù)S21最高，在傳輸過程中損耗少，器件的插入損耗越小。這可能是因?yàn)閂(N2)∶V(Ar)=12∶17時(shí)，ErAlN薄膜結(jié)晶質(zhì)量最好，表面粗糙度最小。圖5為V(N2)∶V(Ar)=12∶17時(shí)，基于ErAlN薄膜SAW濾波器的S參數(shù)曲線圖。

圖4 不同流量比下SAW濾波器的S21曲線

圖5 V(N2)∶V(Ar)=12∶17時(shí)SAW器件的S參數(shù)

3 結(jié)束語

本文利用射頻磁控濺射方法制備ErAlN薄膜，并基于ErAlN薄膜制備了SAW濾波器。研究了不同氮?dú)辶髁勘葘?duì)ErAlN薄膜結(jié)晶質(zhì)量、表面粗糙度及聲波性能的影響。結(jié)果表明，隨著氮?dú)辶髁勘鹊脑黾?，薄膜的c軸取向增強(qiáng)，(002)峰強(qiáng)先增強(qiáng)后減弱，結(jié)晶質(zhì)量先變好再變差。這是因?yàn)殡S著N2含量的增加，靶材原子與N2反應(yīng)更充分，結(jié)晶質(zhì)量增加；N2含量再增加會(huì)引發(fā)靶中毒，導(dǎo)致結(jié)晶質(zhì)量變差，當(dāng)V(N2)∶V(Ar)=12∶17時(shí)，ErAlN薄膜具有最好的結(jié)晶質(zhì)量?；贓rAlN薄膜的SAW濾波器在273～288 MHz均具有諧振效應(yīng)，當(dāng)V(N2)∶V(Ar)=12∶17時(shí)，其具有最大的傳輸系數(shù)和最小的插入損耗。