精密低損耗光學(xué)元件制造與檢測(cè)技術(shù)

精密低損耗光學(xué)元件制造與檢測(cè)技術(shù)針對(duì)高精密光學(xué)系統(tǒng)中低損耗光學(xué)元件需求，實(shí)現(xiàn)高質(zhì)量、低損耗光學(xué)元件的制造。開展中大口徑非球面光學(xué)元件成套制造技術(shù)研究，兼顧加工效率和精度，實(shí)現(xiàn)高效精密可控制造，增強(qiáng)確定量拋光能力，可滿足武器裝備需求，打破國(guó)外壟斷。

該成果提出可控、高效、高精度的工藝新流程，實(shí)現(xiàn)了精密磨削、等離子體快速拋光、小工具數(shù)控拋光和磁流變超精密拋光技術(shù)高度集成，430 mm×430 mm方形非球面楔形透鏡加工周期由40 d縮短為25 d，面形精度PV值0.1個(gè)波長(zhǎng)、均方根值0.012個(gè)波長(zhǎng)，粗糙度0.96 nm。系列成果構(gòu)建了中大口徑非球面光學(xué)元件制造與檢測(cè)的新體系，2016年獲得國(guó)防科學(xué)技術(shù)進(jìn)步獎(jiǎng)一等獎(jiǎng)。采用激光掃描、散射和共焦顯微的原理，結(jié)合微弱信號(hào)探測(cè)技術(shù)，創(chuàng)新性地解決了亞表損傷層的非破壞性定量測(cè)量問題，國(guó)內(nèi)首次獲得了光學(xué)表面亞表層損傷縱向截面分布圖，為光學(xué)元件加工過程中損耗損傷測(cè)試提供了可靠的檢測(cè)技術(shù)。