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      非均勻介質(zhì)駐波聲場(chǎng)紋影法成像及其聲速測(cè)量的改善

      2021-01-15 01:16:52陳水橋程詩卓陸子毅許熠輝
      實(shí)驗(yàn)室研究與探索 2020年12期
      關(guān)鍵詞:紋影刀口駐波

      陳水橋, 程詩卓, 郭 鹍, 陸子毅, 許熠輝

      (浙江大學(xué)a.物理學(xué)系;b.竺可楨學(xué)院,杭州310027)

      0 引 言

      聲場(chǎng)作為一種常見的物理場(chǎng),由于其不便觀測(cè)、穩(wěn)定性差而在生活中的應(yīng)用相對(duì)較少,且應(yīng)用點(diǎn)往往集中于駐波聲場(chǎng)。為了更加方便地研究駐波聲場(chǎng)的特性,將其可視化無疑是一種直觀且高效的方法[1-2]。紋影法基于聲波與光波的一般作用規(guī)律:聲場(chǎng)介質(zhì)密度隨聲場(chǎng)的發(fā)生而改變,繼而引起折射率的變化。當(dāng)一束光穿過聲場(chǎng)介質(zhì)時(shí),能夠形成穩(wěn)定的相位光柵,出現(xiàn)相應(yīng)的紋影圖像[3]。與其他方式相比,紋影法具有直接、快速、不破壞聲場(chǎng)的優(yōu)勢(shì),不僅為駐波聲場(chǎng)靜態(tài)特征的研究提供了一個(gè)更為直觀可感的途徑,其非侵入性更是適用于聲場(chǎng)的動(dòng)態(tài)與連續(xù)性研究。可視化作為一大優(yōu)勢(shì),將難于測(cè)量的壓力數(shù)據(jù)轉(zhuǎn)化為易于測(cè)量的光強(qiáng)數(shù)據(jù),為實(shí)驗(yàn)精度提供了保障,運(yùn)用后期處理技術(shù),還可使所得結(jié)果更為明顯、美觀,便于進(jìn)一步分析。本實(shí)驗(yàn)利用超聲波駐波聲場(chǎng)的聲輻射壓力在空間中呈周期分布的性質(zhì),再結(jié)合紋影法,對(duì)非均勻空氣介質(zhì)中的超聲波形成的駐波聲場(chǎng)進(jìn)行成像,并進(jìn)行相關(guān)處理,使得能夠直觀反映出超聲波駐波聲場(chǎng)的某些特性,進(jìn)而更加精準(zhǔn)測(cè)量其波長(zhǎng)以及其他關(guān)聯(lián)數(shù)據(jù)。為使圖像更加形象可視,在MATLAB中對(duì)圖片做灰度直方圖均衡化之后[4],使得圖像中原來灰度值分布集中的區(qū)域分布到其他區(qū)域,從而使得圖像灰度值整體范圍變大,某些局部灰度細(xì)節(jié)變化可見,從而達(dá)到增強(qiáng)圖像對(duì)比度和清晰度的效果。并在此后進(jìn)一步用圖像處理工具進(jìn)行了加工,再進(jìn)行灰度-顏色映射處理,得到較好偽彩色紋影圖。最后測(cè)量了聲波速度,驗(yàn)證了實(shí)驗(yàn)效果。最后,還用數(shù)理方法分析了儀器系統(tǒng)的靈敏度。

      1 基本原理

      1.1 駐波聲場(chǎng)形成原理

      氣體介質(zhì)中駐波聲場(chǎng)的形成綜合利用了超聲波的波動(dòng)特性與能量特性[5]。如圖1 所示,在聲源對(duì)面設(shè)有反射度良好的反射裝置,設(shè)聲波波長(zhǎng)為λ,L 為生源與反射端距離。由聲源發(fā)出的超聲波經(jīng)反射端反射,反射波與原波頻率相同、傳播方向相反,當(dāng)聲源處與反射端相距L 為λ/2 的整數(shù)倍時(shí),兩者相干形成穩(wěn)定駐波。

      圖1 駐波聲場(chǎng)形成原理圖

      另外,由于超聲波的能量特性,超聲波聲場(chǎng)改變了聲源與反射端間的氣體介質(zhì)的密度分布,進(jìn)而形成聲場(chǎng)作用下的輻射壓力。圖1 中輻射壓力為F,M 為一質(zhì)量較小物體,P 是波源發(fā)出的聲波的沿z 軸方向的振幅。

      設(shè)兩列相干波的波函數(shù)表達(dá)式為

      將兩類波合成為

      可見,聲輻射壓力F沿波動(dòng)方向?yàn)橹芷诜植迹?]。由于聲輻射壓力具有回復(fù)力的特性,此時(shí)如果將物體M置于波節(jié)處,當(dāng)樣品偏離平衡位置,就有被拉回原位置的趨勢(shì),當(dāng)其位置相對(duì)于平衡位置有微小偏移時(shí),會(huì)在附近做小振幅振動(dòng),最終在波節(jié)附近實(shí)現(xiàn)物體的懸浮。

      1.2 紋影法成像原理

      紋影法是一種將光通過相物體引起的相位分布轉(zhuǎn)換為光強(qiáng)分布的方法[7]。如圖2 所示,對(duì)于Z 型透鏡光路,設(shè)通過相物體的入射光為

      圖2 紋影法成像原理示意圖

      通過相物體引起相位滯后(通常相位滯后很?。杀硎緸?/p>

      式中:第1 項(xiàng)代表直射光;后1 項(xiàng)含有φ,它包含了相物體分布的信息,這兩項(xiàng)的相干疊加構(gòu)成了屏幕上相物體的像。由于相物體與周圍介質(zhì)在邊緣具有折射率梯度,如果相物體折射率大,會(huì)使光線向相物體方向偏折,使得其區(qū)域與背景產(chǎn)生照度差異,從而使得相物體像的相位差異轉(zhuǎn)化為照度差異,相物體可見(為方便起見,之后的討論將主要簡(jiǎn)化為幾何光學(xué))。

      1.3 非均勻介質(zhì)中光的傳播原理和偏折角推導(dǎo)

      在均勻介質(zhì)中光沿直線傳播,而當(dāng)介質(zhì)中出現(xiàn)湍流、熱對(duì)流等干擾因素時(shí),會(huì)導(dǎo)致同一透明介質(zhì)的局部折射率n發(fā)生變化,使得光線傳播發(fā)生擾動(dòng)。擾動(dòng)區(qū)域的圖像會(huì)與周圍的圖像形成差異,即可見陰影。

      透明介質(zhì)的折射率為

      在標(biāo)準(zhǔn)大氣中,對(duì)于可見光,格拉斯通-戴爾常數(shù)k≈0.23 cm3/g[8]。式中:空氣密度ρ 的兩個(gè)量級(jí)變化能引起n的值變化30%,因此若想通過光學(xué)手段觀察密度變化小的氣體,需要非常靈敏的光學(xué)設(shè)備。

      忽略光的相干性,簡(jiǎn)化為幾何光學(xué)。取右手直角坐標(biāo)系x,y,z,令z 軸為未受擾動(dòng)時(shí)的光線傳播方向,x、y軸構(gòu)成的平面垂直于z軸,如圖3 所示。接下來證明,光的不均勻性所導(dǎo)致光的折射和彎曲程度與x、y平面內(nèi)各自折射率梯度成正比[9]。

      圖3 非均勻介質(zhì)中光傳播的幾何光學(xué)分析圖

      假設(shè)紋影光路為在x、y方向上各向同性的二維光路,即沿z 軸對(duì)稱。圖3 中,假設(shè)垂直折射率梯度dn/dy <0,且忽略在x、z軸上的折射率梯度變化,認(rèn)為初始時(shí)刻通過z1的是平面波,波陣面垂直于水平光軸z軸。當(dāng)波前通過被測(cè)對(duì)象,即從z1到z2時(shí),設(shè)不同的微分時(shí)間Δt 對(duì)應(yīng)微分距離Δz,折射的偏折角度為Δε。由于光線始終垂直于波前陣面,通過z1的水平光線同樣有Δε的偏折角。

      定義n =c0/c,其中本地光速為c,真空光速為c0。由圖3 可知,

      不同時(shí)刻Δt有Δt =Δz(n/c0),合并得:

      當(dāng)Δy→0 時(shí),方程中n/(n1n2)可以簡(jiǎn)化為1/n。令所有微元趨近于0,可得:

      由于ε是非常小的角度,因此可近似為dy/dz,即圖中的斜率。將其代入導(dǎo)數(shù)后,可以得到:

      該式揭示了折射梯度大小與折射光線曲率的關(guān)系。由此,在x、y軸方向上,光線的偏折角經(jīng)積分可得

      式中:n0為周圍介質(zhì)的折射率。

      可以看到,光線的折射取決于折射率梯度,光線總是朝著n值較高的方向彎曲。而對(duì)于氣體而言,光線總是朝著密度ρ較高的地方彎曲。這些非均勻透明介質(zhì)所產(chǎn)生的梯度擾動(dòng)即為紋影。所以,紋影圖像也揭示了偏轉(zhuǎn)角度的存在。

      2 儀器系統(tǒng)

      本文采用離軸單反射鏡系統(tǒng),主要包括聲場(chǎng)系統(tǒng)和光學(xué)系統(tǒng)兩大部分。其系統(tǒng)原理示意圖如圖4所示。

      圖4 儀器系統(tǒng)示意圖

      圖中,聲場(chǎng)系統(tǒng)需要讓兩個(gè)超聲波換能器之間產(chǎn)生駐波聲場(chǎng)[10]。根據(jù)當(dāng)時(shí)的實(shí)驗(yàn)條件(溫度、濕度等),計(jì)算出在該條件下超聲波的理論波長(zhǎng)λ,并預(yù)先將兩個(gè)超聲波換能器的間距調(diào)整為3λ。打開電源后稍微調(diào)整換能器間距使泡沫塑料小球能夠在該聲場(chǎng)中懸浮,由此來檢驗(yàn)駐波聲場(chǎng)的形成。本文應(yīng)用的超聲波發(fā)生器選用科美達(dá)可調(diào)頻率功率超聲波發(fā)生器,能夠產(chǎn)生20 ~40 kHz的高頻信號(hào),最大功率300 W。超聲波換能器采用28 kHz,60 W的壓電陶瓷。

      光學(xué)系統(tǒng)主要由球面反射鏡、狹縫器、刀片和照相機(jī)組成。點(diǎn)光源用LED光源,可連續(xù)調(diào)節(jié)光強(qiáng)。球面反射鏡的鏡面直徑203 mm,焦距800 mm。成像設(shè)備采用佳能EOS 80D 單反相機(jī)。在確認(rèn)駐波聲場(chǎng)的形成后,就對(duì)光路進(jìn)行細(xì)致的調(diào)整以在相機(jī)中觀察到駐波聲場(chǎng)的紋影圖像。方法如下:將點(diǎn)光源與一個(gè)光屏靠在一起,在之前確定的水平面上同時(shí)前后移動(dòng),找到一個(gè)圖像最清晰、像點(diǎn)最小的位置,即球面鏡的焦點(diǎn)。將點(diǎn)光源固定在焦點(diǎn)附近,用刀片擋掉一定量的光。調(diào)整刀片擋光量(約80% ~90%)、相機(jī)的位置、快門時(shí)間以及ISO以得到盡量大且清晰的紋影圖像。其中球面反射鏡放置在光源的曲率半徑軸上(R =2f)。發(fā)散的光束將充滿反射鏡并且以相同的路徑返回,在光源處形成光源的像。通過在光源和圖像光束之間設(shè)置較小的離軸分離,并加入刀口即可構(gòu)建與前一個(gè)紋影系統(tǒng)有相似效果的紋影系統(tǒng)。在焦距很大時(shí),兩個(gè)紋影系統(tǒng)的測(cè)試區(qū)域可以近似。測(cè)試區(qū)位于接受光源發(fā)散光的反射鏡前,理想情況下,同一光束會(huì)兩次橫穿測(cè)試平面上的點(diǎn),每次橫穿時(shí)都會(huì)產(chǎn)生一個(gè)偏轉(zhuǎn)角ε。

      3 實(shí)驗(yàn)與分析

      3.1 圖像的獲取與處理

      調(diào)節(jié)相機(jī)參數(shù),快門時(shí)間1/200 ~1/800,ISO80-160,幀率50,拍攝視頻,截取其中效果較明顯的幀如圖5 所示。然后,在MATLAB中對(duì)圖5 進(jìn)行全局灰度增強(qiáng)和直方圖均衡處理,使得紋影細(xì)節(jié)放大,調(diào)節(jié)效果如圖6 所示。

      圖5 相機(jī)拍攝紋影圖

      圖6 直方圖均衡處理紋影圖

      在Lightroom中調(diào)節(jié)曲線,對(duì)圖6 進(jìn)行對(duì)比度、銳化、亮度調(diào)整,得到圖7 效果圖。再在MATLAB 中對(duì)圖8 作灰度-顏色映射,得到偽彩色圖。

      圖7 圖像工具處理紋影圖

      圖8 偽彩色紋影圖

      3.2 聲速測(cè)量

      游標(biāo)卡尺測(cè)量超聲波振子直徑數(shù)據(jù)如表1 所示。

      表1 超聲波振子直徑測(cè)量數(shù)據(jù)

      所以u(píng)(D)=0.04 mm,得到振子直徑為D =(5.820 ±0.004)cm。

      設(shè)超聲波振子直徑對(duì)應(yīng)像素值為Δm,紋影波相鄰兩條彩色條紋間距對(duì)應(yīng)像素值為Δn,其比值為

      對(duì)圖10 中多個(gè)條紋坐標(biāo)進(jìn)行測(cè)量,所得數(shù)據(jù)如表2 所示。為配合測(cè)量比值δ 需要,其中Δn 未連續(xù)測(cè)量,而是任意選擇最清楚的條紋測(cè)量。

      表2 條紋坐標(biāo)測(cè)量值

      又因?yàn)関 =λ/T,λ =D/δ,T =1/f[11-12],所以推導(dǎo)得聲速測(cè)量公式為

      已知超聲波發(fā)生器所用頻率f =28.013 kHz,Δ儀=1 Hz。所以將上述測(cè)量值代入式(9),得到實(shí)驗(yàn)聲速值:

      實(shí)驗(yàn)時(shí)室溫為18.4 ℃,根據(jù)文獻(xiàn)計(jì)算得該溫度下聲速理論值為342.431 7 m/s,所以本方法測(cè)量的聲速誤差較小。

      3.3 儀器系統(tǒng)靈敏度分析

      紋影光學(xué)系統(tǒng)最大的優(yōu)勢(shì)就是其靈敏度。它的輸出圖像為x、y軸的二維圖像,圖像特征由成像的縮放以及灰度對(duì)比決定,靈敏度僅需考慮這兩點(diǎn)[15]。為了更方便討論靈敏度,依然對(duì)Z 型反射鏡系統(tǒng)進(jìn)行分析[13,14]。設(shè)光源照度為B(cd/m2),假定采用的是一個(gè)水平光源狹縫和水平刀口,那么在沒有刀口的情況下,紋影圖像照度

      式中:b為光源狹縫的寬度;h為光源狹縫的高度;f1為第1 反射鏡的焦距;放大因子k 為紋影圖像相當(dāng)于測(cè)試區(qū)域的大小比例。[16]

      讓刀口阻擋除聚焦的光源像以外的所有光束(刀口成圓孔形),該部分具有高度a。用a 和f1/f2替換光源像的無遮擋實(shí)際高度h,f2為第2 反射鏡的焦距,則式(10)可改寫成

      設(shè)ΔE 為照明變化值,是紋影圖像照度E 與其背景照度E0的增益。假定紋影對(duì)象在實(shí)驗(yàn)區(qū)域有ε 的偏折角,y 軸分量εy將有部分光源圖像在垂直刀口平面產(chǎn)生向上偏移距離Δa =εyf2,代替式(11)中的a,

      則有

      得到了測(cè)試區(qū)εy偏折形成的對(duì)應(yīng)圖像點(diǎn)的照度增益。

      設(shè)對(duì)比度為C,指圖像點(diǎn)對(duì)于一般紋影照度增益ΔE與紋影照度E的比值,即

      設(shè)紋影靈敏度為s,也稱對(duì)比靈敏度,定義為圖像對(duì)比度比折射角度的變化率,即

      對(duì)于單反射鏡紋影光路,旁軸近似下,該結(jié)論也類似,第2 反射鏡的焦距等于第1 反射鏡的焦距,即單鏡的焦距。

      由此說明,在觀察范圍一定時(shí),反射鏡的焦距影響成像的靈敏度,因此需要一個(gè)大焦距的凹面鏡。同時(shí),刀口截止的程度也影響著紋影的對(duì)比度,因此也可以通過提高刀口截止來提高靈敏度。但刀口截止提高時(shí),測(cè)試區(qū)域邊緣會(huì)產(chǎn)生衍射光線,在刀口平面產(chǎn)生二次衍射,產(chǎn)生模糊效應(yīng),影響圖像分辨,因此刀口截止不能無限提高。

      4 結(jié) 語

      通過自組紋影法測(cè)量裝置能夠直觀便捷得到超聲波駐波聲場(chǎng)的一些性質(zhì),并且通過圖像處理技術(shù)方便了對(duì)數(shù)據(jù)的準(zhǔn)確獲取。本文用光線折射幾何理論證明了光的不均勻性所導(dǎo)致的光的折射和彎曲程度與x、y平面內(nèi)各自折射率梯度成正比。得到的有關(guān)聲場(chǎng)的數(shù)據(jù)和圖形比較清晰,并準(zhǔn)確測(cè)量了聲速值,且與理論值誤差較小。最后分析了影響成像的靈敏度以及對(duì)實(shí)驗(yàn)的各種影響因素。

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