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      基于Halcon 的圓形陶瓷片表面缺陷檢測(cè)方法

      2021-04-06 08:49:56蘇彩紅詹寧宙林軍帆梁智宇
      關(guān)鍵詞:斑點(diǎn)圓形圖像處理

      賀 瀟,蘇彩紅 *,詹寧宙,林軍帆,梁智宇

      (1.佛山科學(xué)技術(shù)學(xué)院機(jī)電工程與自動(dòng)化學(xué)院,廣東佛山528000;2.佛山精視自動(dòng)化科技有限公司,廣東 佛山528000)

      圓形陶瓷片在生產(chǎn)過程中,由于生產(chǎn)工藝和生產(chǎn)環(huán)境的影響,會(huì)出現(xiàn)一定比例的缺陷產(chǎn)品。如果不能及時(shí)篩選出來,對(duì)于產(chǎn)品后續(xù)的使用會(huì)存在一定的安全隱患。目前針對(duì)圓形陶瓷片的缺陷篩選主要是人工目檢,而人工目檢存在檢測(cè)效率低、人工成本高等缺點(diǎn)。近年來,隨著圖像處理技術(shù)和機(jī)器視覺技術(shù)的不斷發(fā)展,出現(xiàn)了越來越多的機(jī)器視覺檢測(cè)來代替人工目檢的情況。Halcon 是由德國(guó)MVTec 公司研發(fā)的機(jī)器視覺圖像處理軟件,提供了全面的圖像處理函數(shù)庫。本文基于Halcon 算法平臺(tái),主要研究了圓形陶瓷片表面的氣泡、斑點(diǎn)、粉塵和炸裂等缺陷的圖像處理算法。

      1 缺陷分類及檢測(cè)流程

      圓形陶瓷片在生產(chǎn)線上通過面陣CCD 進(jìn)行圖像采集,在Halcon 軟件上進(jìn)行處理、分析和檢測(cè)[1]。圓形陶瓷片的表面缺陷主要包括氣泡、斑點(diǎn)、粉塵和炸裂4 種,缺陷特點(diǎn)及分類如表1 所示。

      表1 缺陷分類及特點(diǎn)

      圓形陶瓷片缺陷檢測(cè)流程如圖1 所示,檢測(cè)步驟主要包括:1)利用圖像灰度化和增強(qiáng)技術(shù),將原始圖片進(jìn)行預(yù)處理;2)利用閾值分割的方法提取圖片中各類缺陷對(duì)應(yīng)的感興趣區(qū)域ROI(Region of Interest);3)提取圖片中各類缺陷的特征,然后根據(jù)面積和長(zhǎng)度等特征來判斷其是否為缺陷產(chǎn)品,并標(biāo)記出缺陷區(qū)域。

      2 圖像預(yù)處理

      2.1 圖像灰度化

      圖像灰度化是圖像處理前的重要步驟。彩色圖像的RGB 只是在光學(xué)上的搭配,不反映圖片的特征?;叶然幚碛衅骄?、最大值法以及加權(quán)平均法等。這里按Halcon 中加權(quán)平均法函數(shù)rgb1_to_gray灰度化處理,即

      其中,gray 代表灰度化處理后的灰度值,red 代表紅色分量的灰度值,green 代表綠色分量的灰度值,blue代表藍(lán)色分量的灰度值。

      2.2 圖像增強(qiáng)

      圖像增強(qiáng)的作用是為了突出圖像中的一些重要的特征,同時(shí)弱化少量不必要的信息。處理后的圖像對(duì)比度明顯增強(qiáng),特征更加明顯[2]。圖像增強(qiáng)方法有頻域法和空間域法。本文選擇空間域法中的灰度值線性化,即

      其中,g 為線性化圖像增強(qiáng)后的灰度值,G 為當(dāng)前的灰度值,Gmax為需要加強(qiáng)區(qū)域內(nèi)的灰度最大值,Gmin為需要加強(qiáng)區(qū)域內(nèi)的灰度最小值。

      2.3 ROI 的提取

      在圓形陶瓷片上,氣泡主要分布在產(chǎn)品的外環(huán),斑點(diǎn)主要分布在大內(nèi)環(huán)上,粉塵則主要在大內(nèi)環(huán)的邊緣,炸裂主要出現(xiàn)在內(nèi)孔的邊緣。故不同的缺陷檢測(cè)需要提取不同的ROI,以盡量消除別的區(qū)域造成的誤檢,從而提高檢測(cè)的準(zhǔn)確性。圓形陶瓷片缺陷檢測(cè)流程如圖1 所示,產(chǎn)品區(qū)域劃分如圖2 所示。

      圖1 圓形陶瓷片缺陷檢測(cè)流程

      圖2 陶瓷片區(qū)域劃分

      3 各缺陷的檢測(cè)算法

      3.1 氣泡檢測(cè)

      圓形陶瓷片氣泡出現(xiàn)在外環(huán)區(qū)域上,而且環(huán)上有時(shí)會(huì)出現(xiàn)占據(jù)一段連續(xù)圓環(huán)的大氣泡,不利于特征的提取[3],可采用瓶口矩形法(極坐標(biāo)轉(zhuǎn)換的方法)將圓環(huán)展開成矩形。這樣環(huán)形上的氣泡就變成了展開矩形的垂直方向的差異。氣泡原始圖如圖3 所示。首先先對(duì)外環(huán)進(jìn)行ROI 提取,如圖4 所示。然后利用極坐標(biāo)變換函數(shù)將外環(huán)展開為矩形如圖5 所示,可以看到在笛卡爾坐標(biāo)中更明顯突出氣泡的特征。在笛卡爾坐標(biāo)中用運(yùn)用形態(tài)學(xué)處理提取缺陷部分[4],提取效果如圖6 所示。氣泡檢測(cè)流程如圖7 所示。檢測(cè)結(jié)果如圖8 所示,標(biāo)記為檢測(cè)出的氣泡。

      圖3 氣泡原始圖片

      圖4 提取外環(huán)后效果

      圖5 外環(huán)展開后效果

      圖6 矩形中提取缺陷特征

      圖7 氣泡圖像處理流程

      圖8 氣泡檢測(cè)后結(jié)果

      3.2 斑點(diǎn)檢測(cè)

      斑點(diǎn)檢測(cè)采用全局閾值的方法。需要根據(jù)斑點(diǎn)的特征灰度值與ROI 中的背景灰度值比較,選取合適的閾值區(qū)間,看ROI 中的每個(gè)像素點(diǎn)灰度是否在該閾值區(qū)間內(nèi)[5]。Halcon 中提供threshold 函數(shù)進(jìn)行全局閾值。檢測(cè)斑點(diǎn)的效果如圖9 所示,標(biāo)記為檢測(cè)出的斑點(diǎn)。

      3.3 粉塵檢測(cè)

      粉塵的成像比較淺,與背景相差不大,全局閾值不能適用,這里使用的是動(dòng)態(tài)閾值的方法。動(dòng)態(tài)閾值是根據(jù)圖像中每個(gè)像素點(diǎn)周圍的特性,對(duì)該像素點(diǎn)選取不同的閾值,形成閾值曲面,將圖像進(jìn)行分割。首先運(yùn)用Halcon 中的mean_image 函數(shù)來平滑處理,設(shè)置為參考背景,然后運(yùn)用動(dòng)態(tài)閾值函數(shù)dyn_threshold 設(shè)置選取“暗于”參考背景的區(qū)域。檢測(cè)效果圖如圖10 所示,標(biāo)記為粉塵。

      圖9 斑點(diǎn)檢測(cè)效果

      圖10 粉塵檢測(cè)效果

      3.4 炸裂檢測(cè)

      圓形陶瓷產(chǎn)品質(zhì)地比較堅(jiān)硬,在產(chǎn)品成型過程中內(nèi)孔邊緣非常容易出現(xiàn)炸裂。炸裂的檢測(cè)選擇考慮提取裂紋的亞像素輪廓(XLD),并將XLD 輪廓連接后形成“區(qū)域”,經(jīng)過面積和長(zhǎng)度的篩選就可提取到缺陷的特征[6],這里用Canny 算法進(jìn)行亞像素邊緣的提取。Halcon 中有edges_sub_pi 函數(shù)進(jìn)行亞像素邊緣的提取。炸裂處理流程如圖11 所示。

      4 實(shí)驗(yàn)結(jié)果分析

      為了驗(yàn)證缺陷檢測(cè)的穩(wěn)定性和準(zhǔn)確性,對(duì)相同條件下采集的300 張圖片在Halcon 平臺(tái)上對(duì)缺陷檢測(cè)算法進(jìn)行測(cè)試。樣本總數(shù)為300 張,樣本檢測(cè)統(tǒng)計(jì)結(jié)果如表2 所示。由表2 可知,合格品無漏檢,但存在3 個(gè)誤檢;斑點(diǎn)的檢測(cè)效果最好,無誤檢與漏檢情況;氣泡有1 個(gè)漏檢;粉塵和炸裂各有1 個(gè)誤檢。實(shí)驗(yàn)樣本總體檢測(cè)準(zhǔn)確率為98%。

      圖11 炸裂圖像處理流程

      表2 測(cè)試結(jié)果統(tǒng)計(jì)表

      測(cè)試中部分參數(shù)具體設(shè)置如下:1)氣泡的檢測(cè)中,動(dòng)態(tài)閾值函數(shù)參數(shù)設(shè)置為dyn_threshold(Image,ImageM,Regions1,20,'light')。在極坐標(biāo)中提取的缺陷特征時(shí)面積和高度下限分別為500 和15。2)斑點(diǎn)檢測(cè)中,大內(nèi)環(huán)的灰度在90~110 之間,所以全局閾值區(qū)間設(shè)置在0~75 之間,缺陷特征面積提取下限為100。3)粉塵檢測(cè)中,動(dòng)態(tài)閾值函數(shù)參數(shù)設(shè)置為dyn_threshold(Image,ImageM,Region,5,'dark')。缺陷特征提取時(shí)面積和粉塵的個(gè)數(shù)下限分別為10 和5。4) 炸裂檢測(cè)中,亞像素邊緣提取參數(shù)設(shè)置為edges_sub_pix(Image,Edges,'canny',0.5,4,10)。缺陷提取時(shí)裂紋的長(zhǎng)度下限為5。

      5 小結(jié)

      本文提出了基于Halcon 的圓形陶瓷片的表面缺陷檢測(cè)算法,并通過樣本測(cè)試驗(yàn)證了可行性和準(zhǔn)確性。實(shí)驗(yàn)結(jié)果表明,該缺陷檢測(cè)算法能較好滿足實(shí)際生產(chǎn)過程中的檢測(cè)需求。本文針對(duì)產(chǎn)品所提出的根據(jù)實(shí)際缺陷進(jìn)行分區(qū)檢測(cè),雖然對(duì)檢測(cè)速度有一定的影響,但能較好地提高檢測(cè)的準(zhǔn)確性。如何提高檢測(cè)速度問題有待后續(xù)進(jìn)一步研究。

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