夏雨 張旭
摘 要:隨著經(jīng)濟的發(fā)展,環(huán)境污染問題日益加劇引來了諸多的關(guān)注,就目前的研究結(jié)果來看,在眾多半導(dǎo)體材料中,ZnO良好的性質(zhì)使其在光催化領(lǐng)域有著廣闊的應(yīng)用前景。通過水熱法合成ZnO多孔納米片,并以其為基底成功制得CdS/ZnO復(fù)合納米材料。通過一系列測試表明:在光照45 min后制得的CdS/ZnO復(fù)合納米材料,對Cr(VI)的還原率高達(dá)96.5%,是純相ZnO的2.6倍。
關(guān)鍵詞:水熱法;CdS/ZnO復(fù)合納米材料;光催化;Cr(VI)
半導(dǎo)體光催化在實現(xiàn)環(huán)境修復(fù)和光吸收時的能量轉(zhuǎn)換方面具有巨大潛力,已引起了大家的關(guān)注[1]。在眾多光催化劑中,ZnO因其有效的光催化能力、無毒、低成本和良好的穩(wěn)定性而被廣泛研究[2],但仍存在帶隙寬(3.37 eV)及在光催化反應(yīng)中光生電子-空穴對的快速重組速率的不足,導(dǎo)致ZnO光催化活性降低[3]。所以,需要有效的方法擴展ZnO在可見光區(qū)域中的光催化響應(yīng),通過與具有窄帶隙的其他半導(dǎo)體偶聯(lián)來增強其催化活性[4]。
本試驗利用半導(dǎo)體復(fù)合的方法提高ZnO的光催化性能。CdS因帶隙(2.4 eV)較窄,具有較高的活性。同時,CdS的晶格與ZnO相似,可以與ZnO形成II型異質(zhì)結(jié)構(gòu)[5],是改善光生電子和空穴分離、提高光催化性能的理想體系,能擴大ZnO在可見光照射下的光催化應(yīng)用。所以,將ZnO與CdS進(jìn)行復(fù)合形成II型異質(zhì)結(jié)構(gòu)光催化劑是最佳的選擇。
1 ? ?試驗部分
1.1 ?儀器與試劑
完成試驗所用的儀器:數(shù)顯磁力攪拌器、超聲儀、高速臺式離心機、紫外-可見光譜儀、真空干燥箱、氙燈光源、自制的光催化設(shè)備;試驗中用到的藥品:桂皮酸、醋酸鋅、尿素、重鉻酸鉀、甲醇,均為分析純。
1.2 ?合成試驗具體步驟
制備ZnO的方法:取一定量桂皮酸溶于蒸餾水中,攪拌30 min使其溶解;之后再稱量0.595 0 g醋酸鋅和0.600 0 g尿素,加入上述桂皮酸溶液中,繼續(xù)攪拌30 min;然后將混合溶液裝入反應(yīng)釜中,在120 ℃下反應(yīng)10 h;反應(yīng)結(jié)束后,將得到的白色沉淀物洗滌干燥,在400 ℃下煅燒4 h即可。
合成CdS/ZnO復(fù)合納米材料:取一定量醋酸鎘,超聲使其溶解;再加入0.053 2 g制備的ZnO粉末,繼續(xù)超聲;然后稱取0.076 0 g硫脲均勻分散在混合溶液中;超聲溶解后70 ℃水浴反應(yīng)2 h,反應(yīng)結(jié)束后,得到的黃色沉淀物洗滌干燥即獲得CdS/ZnO復(fù)合納米材料。
1.3 ?材料的測試及表征
本試驗對合成的復(fù)合材料使用SU-70型掃描電子顯微鏡進(jìn)行了形貌觀察,該設(shè)備由日本日立公司生產(chǎn),對合成的復(fù)合材料通過X-射線粉末衍射儀進(jìn)行了結(jié)構(gòu)表征,并對合成的復(fù)合材料用紫外-可見光譜儀進(jìn)行了測試。
1.4 ?光催化活性試驗
在100 mL水中加入20 mg的重鉻酸鉀,超聲并攪拌;再加入5 mL甲醇溶液,超聲均勻后,稱量0.05 g制備的催化劑加到上述溶液中;然后將該溶液在全暗處攪拌30 min,進(jìn)行吸附-脫附平衡操作;并采用300 W氙燈照射,每隔5 min取樣一次,每次取樣4 mL;最后將所取溶液進(jìn)行離心,并使用紫外-可見光譜儀在351 nm(重鉻酸鉀最大吸收波長)下測試其吸光度。
2 ? ?結(jié)果與討論
2.1 ?X-射線衍射分析
圖1為純相ZnO和CdS/ZnO復(fù)合納米材料的XRD圖,圖中的衍射峰尖銳且無雜峰出現(xiàn),說明制得的樣品結(jié)晶較好而且純度高。由圖1(a)可知,制得的ZnO以上各衍射峰與標(biāo)準(zhǔn)卡片(JCPDS No.36-1451)所對應(yīng)的六方纖鋅礦結(jié)構(gòu)ZnO的特征衍射峰相匹配,可確定產(chǎn)物是氧化鋅。圖1(b)是CdS/ZnO復(fù)合納米材料所對應(yīng)的XRD衍射峰。其中,帶#號的為CdS衍射峰,且峰位與其標(biāo)準(zhǔn)卡片(JCPDS No.41-1049)相對應(yīng),同時觀察到ZnO衍射峰沒有變化,表明已經(jīng)成功合成CdS/ZnO復(fù)合納米材料。
2.2 ?場發(fā)射掃描電鏡圖
圖2為所制樣品的掃描電鏡圖,圖2(a)為純相ZnO的掃描電鏡圖,可觀察樣品的形貌為多孔的納米片,其厚度約為15 nm。圖2(b)為CdS/ZnO復(fù)合納米材料的掃描電鏡圖,可以清楚地觀察到CdS納米小顆粒均勻地分布在多孔片狀ZnO的表面,從圖中對比可知,ZnO在負(fù)載前后形貌并沒有改變,表明CdS的負(fù)載對底物ZnO的形貌沒有影響,且結(jié)合XRD的表征可推測在多孔片狀ZnO表面上是負(fù)載的硫化鎘納米顆粒。
2.3 ?紫外-可見漫反射光譜
圖3中(a)(b)分別為純相ZnO、CdS/ZnO復(fù)合納米材料的DRS光譜圖。由圖中可以看到,純相ZnO多孔納米片只在紫外區(qū)域有明顯的吸收,這是由于ZnO的帶隙較寬,在波長大于400 nm時沒有吸收。同時能發(fā)現(xiàn),制得的復(fù)合納米材料在可見光區(qū)域有明顯的吸收,主要是因為CdS是窄帶隙材料,和ZnO復(fù)合之后使復(fù)合材料的吸收區(qū)域拓寬到可見光區(qū),提高了復(fù)合材料在可見光下的光催化性質(zhì)。
2.4 ?光催化性能測試
圖4為ZnO和CdS/ZnO復(fù)合納米材料還原Cr(VI)的分析圖,從圖4(a)可知,在可見光下照射45 min,純相ZnO多孔納米片對Cr(VI)的還原率為37.6%,CdS/ZnO復(fù)合納米材料的還原率為96.5%。通過數(shù)據(jù)分析得到結(jié)論:在同樣的條件下完成還原Cr(VI)的試驗,復(fù)合材料對Cr(VI)的還原率較高。從圖4(b)可知,純相ZnO和CdS/ZnO復(fù)合納米材料的一級動力學(xué)常數(shù)分別為:0.012 5 min-1,0.075 9 min-1。其中,CdS/ZnO復(fù)合納米材料的一級動力學(xué)常數(shù)較大。
3 ? ?結(jié)語
以桂皮酸、醋酸鋅和尿素為原料,采用簡單的水熱法制備了ZnO多孔納米片??紤]到ZnO自身存在的不足后,利用半導(dǎo)體復(fù)合方法,將窄帶隙CdS與寬帶隙ZnO復(fù)合形成II型異質(zhì)結(jié)構(gòu),對合成的CdS/ZnO復(fù)合納米材料通過XRD、SEM、DRS等一系列的測試手段進(jìn)行了進(jìn)一步的表征,并測試了其在可見光照射下對Cr6+的還原能力,得到如下結(jié)果:制得的CdS/ZnO復(fù)合納米材料在光照45 min后對 ? ? ? Cr(VI)的還原率高達(dá)96.5%,是純相ZnO的2.6倍。該結(jié)果充分證明了半導(dǎo)體復(fù)合方式可以提高光生電子、空穴的分離效率和光催化活性。
[參考文獻(xiàn)]
[1]BUMAJDAD A,MADKOUR M,ABDEL-MONEAM Y,et al.Nanostructured mesoporous Au/TiO2 for photocatalytic degradation of a textile dye:the effect of size similarity of the deposited Au with that of TiO2 pores[J].Journal of Materials Science,2014(49):1743-1754.
[2]GOMEZ J L,TIGLI O.Zinc oxide nanostructures:from growth to application[J].Journal of Materials Science,2013(48):612-624.
[3]CHEN D,WANG K,REN T,et al.Synthesis and characteri-zation of the ZnO/mpg-C3N4 heterojunction photocatalyst with enhanced visible light photoactivity[J].Dalton Transactions,2014(43):13105-13114.
[4]LI N,HUANG H,BIBI R,et al.Noble-metal-free MOF derived hollow CdS/TiO2 decorated with NiS cocatalyst for efficient photocatalytic hydrogen evolution[J]. Applied Surface Science,2019(476):378-386.
[5]CHEN G F,SONG X L,ZHANG H,et al.Well-ordered verti-cally aligned ZnO/CdS core/shell nanowires with en-hanced photocatalytic performance[J].Surface & Coatings Technology,2017(320):467-471.