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      模擬數(shù)字轉(zhuǎn)換器AD574總劑量和單粒子翻轉(zhuǎn)的協(xié)合效應(yīng)

      2021-08-31 00:38:54相傳峰李小龍劉默寒孫靜郭旗蔡嬌楊
      關(guān)鍵詞:劑量率雙極粒子

      相傳峰 姚 帥 于 新 李小龍 陸 嫵 王 信 劉默寒孫 靜郭 旗蔡 嬌楊 圣

      1(新疆大學(xué)物理科學(xué)與技術(shù)學(xué)院 烏魯木齊 830046)

      2(中國科學(xué)院新疆理化技術(shù)研究所特殊環(huán)境功能材料與器件重點實驗室 烏魯木齊 830011)

      3(中國科學(xué)院新疆理化技術(shù)研究所新疆電子信息材料與器件重點實驗室 烏魯木齊 830011)

      4(中國科學(xué)院大學(xué) 北京 100049)

      模擬數(shù)字轉(zhuǎn)換器(Analog-digital converter,ADC)電路可以將模擬信號轉(zhuǎn)換為數(shù)字信號,在衛(wèi)星載荷中起到不可替代的作用。典型空間環(huán)境劑量率為10?6~10?4Gy(Si)/s,電子元器件普遍存在電離總劑量(Total ionizing dose,TID)效應(yīng),含有雙極工藝的電子器件對低劑量率損傷增強(qiáng)(Enhance low dose rate sensitivity,ELDRS)效應(yīng)敏感,同時重離子、質(zhì)子等高能粒子還會導(dǎo)致單粒子效應(yīng)(Single event effect,SEE),如單粒子翻轉(zhuǎn)(Single event upset,SEU)、單 粒 子 瞬 態(tài)(Single event transients,SET)[1-2]。對于含有雙極工藝的電子器件同時面臨ELDRS和SEE的威脅[3-4],現(xiàn)行評估標(biāo)準(zhǔn)尚未考慮不同類型輻射效應(yīng)的影響,宇航候選元器件存在預(yù)期之外的風(fēng)險。

      國外有研究對ADC的TID效應(yīng)和SEE分別進(jìn)行了報道[5-8],TID使ADC參數(shù)退化,SEE使ADC電路功能失效。國外對ADC電路的TID-SEU協(xié)合效應(yīng)也進(jìn)行了相關(guān)報道[9],TID會改變ADC電路在不同線性傳能密度(Linear energy transfer,LET)下發(fā)生SEU的次數(shù),SEU的次數(shù)增多或減小取決于生產(chǎn)廠家的工藝技術(shù)。國內(nèi)對ADC電路TID的測試方法進(jìn)行了總結(jié),提出了一種基于計算機(jī)控制的動態(tài)測試系統(tǒng)[10-11]。中國科學(xué)院新疆理化技術(shù)研究所和中國電子科技集團(tuán)等單位對國產(chǎn)ADC電路開展了低劑量率輻照試驗,并確定了國產(chǎn)雙極工藝ADC電路存在ELDRS效應(yīng)[12-14]。國內(nèi)對ADC電路的SEE也有相關(guān)的研究[15-17],發(fā)現(xiàn)入射粒子的LET值越高,工作頻率越高,輸入電壓越高,ADC電路發(fā)生SEE的概率越大。文獻(xiàn)[18]通過電路設(shè)計對ADC電路進(jìn)行抗SEE加固,提高了電路抗單粒子閂鎖(Single-event latchup,SEL)的能力??傮w來看,國外針對ADC電路TID-SEU的協(xié)合效應(yīng)研究限于一種型號ADC電路,缺乏不同型號ADC電路TID對SEU的影響研究。國內(nèi)對雙極工藝ADC電路的TID-SEU協(xié)合效應(yīng)鮮有報道。因此,本工作以含有雙極工藝的AD574為研究對象,在10?4Gy(Si)/s的低劑量率條件下累積電離輻射,對TID-SEU協(xié)合效應(yīng)進(jìn)行深入研究,分析協(xié)合效應(yīng)影響機(jī)制,對評估方法的持續(xù)改進(jìn)具有重要意義。

      1 樣品及條件

      試驗樣品為ADI公司bipolar/I2L工藝的12位逐次逼近型模擬數(shù)字轉(zhuǎn)換器電路AD574,由電壓比較器、控制邏輯電路、逐次逼近寄存器(Successive approximation register,SAR)、高精度基準(zhǔn)電壓源和時鐘等單元組成,如圖1所示。

      圖1 模擬數(shù)字轉(zhuǎn)換器AD574內(nèi)部電路結(jié)構(gòu)Fig.1 Internal circuit structure of ADCAD574

      試驗由兩部分組成:(1)60Coγ輻照試驗在中國科學(xué)院新疆理化技術(shù)研究所的60Coγ放射源上進(jìn)行,考慮到選取的樣品為雙極工藝產(chǎn)品,輻照時選用美軍標(biāo)規(guī)定的空間實際劑量率10?4Gy(Si)/s,室溫輻照且試驗樣品所有管腳接地,累積總劑量為400 Gy(Si);(2)激光單粒子試驗在中國科學(xué)院國家空間中心進(jìn)行,激光波長為1 064 nm,光斑直徑為1.5μm,能量為1.2 nJ,頻率為1 kHz,激光掃描步長為3μm。根據(jù)文獻(xiàn)[19],該條件下激光的表面LET約為80 MeV?cm2/mg,與中國科學(xué)院近代物理研究所加速器給出的Ta離子表面LET相當(dāng)。TID與SEU試驗裝置及過程示意圖如圖2所示。60Coγ輻照試驗時由直流電源提供可靠接地,SEU試驗時由直流電源供電ADC電路,信號源提供ADC電路0 V、1 V及2.5 V模擬輸入信號,數(shù)字輸出信號由數(shù)據(jù)采集模塊采集,并通過計算機(jī)控制及保存數(shù)據(jù)。在激光輻照開始之前設(shè)置好電源電壓和模擬輸入信號,開始進(jìn)行激光輻照的同時采集數(shù)字輸出信號,直至整個芯片掃描結(jié)束。

      圖2 總劑量與單粒子翻轉(zhuǎn)試驗裝置及過程示意圖Fig.2 Diagram of TID and SEU test device and process

      2 結(jié)果

      60Coγ輻照前后AD574的SEU結(jié)果如圖3~5所示。結(jié)果表明AD574的TID-SEU協(xié)合效應(yīng)顯著。圖3為累積400 Gy(Si)劑量前后,0 V模擬輸入信號對應(yīng)的輸出碼值翻轉(zhuǎn)情況,每條豎線代表100個碼值內(nèi)的翻轉(zhuǎn)次數(shù)。AD574輸入信號為?5~5 V,對應(yīng)輸出碼值在0~4 095,其中0 V對應(yīng)的中心碼值為2 048。為比較輸出碼值的翻轉(zhuǎn)情況,圖3中未顯示中心碼值2 048的翻轉(zhuǎn)次數(shù)。60Coγ輻照之前輸出碼值翻轉(zhuǎn)以2 048碼值為中心,較為均勻地分布在其兩邊;60Coγ輻照之后輸出碼值翻轉(zhuǎn)更多分布在中心碼值右側(cè),在輸出碼值2 000~3 000內(nèi),輸出碼值翻轉(zhuǎn)次數(shù)從484次增加到751次,TID效應(yīng)改變了AD574的輸出碼值翻轉(zhuǎn)的分布。

      圖3 輸入信號0 V時累積總劑量對AD574單粒子輸出碼值翻轉(zhuǎn)的影響Fig.3 Influence of TID on SEU output code value at input signal of 0 V for ADCAD574

      當(dāng)輸入信號為1 V時,60Coγ輻照前后輸出碼值翻轉(zhuǎn)情況如圖4所示,對應(yīng)的輸出碼值是2 458。未進(jìn)行60Coγ輻照時輸出碼值翻轉(zhuǎn)更多地偏向中心碼值右側(cè),翻轉(zhuǎn)的輸出碼值最高位達(dá)到4 000~4 095,而且小于500的碼值沒有發(fā)生翻轉(zhuǎn);進(jìn)行60Coγ輻照后輸出碼值的翻轉(zhuǎn)向中心碼值右側(cè)偏移更加顯著。在輸出碼值為4 000~4 095位置翻轉(zhuǎn)次數(shù)由175次增加到610次。

      圖4 輸入信號1 V時累積總劑量對AD574單粒子輸出碼值翻轉(zhuǎn)的影響Fig.4 Influence of TID on SEU output code values at input signal 1 V for ADC AD574

      圖5為2.5 V模擬信號輸入時的輸出碼值翻轉(zhuǎn)變化,此時器件的輸出碼值為3 072。與1 V模擬信號輸入的情況類似,輸出碼值翻轉(zhuǎn)更多地偏向中心碼值右側(cè)。60Coγ輻照前輸出碼值翻轉(zhuǎn)集中在3 500~4 000,出現(xiàn)翻轉(zhuǎn)的最低位碼值在1 000~1 100,與1 V輸入條件相比更大。60Coγ輻照后輸出碼值翻轉(zhuǎn)主要集中在4 000~4 095,從469次增加982次。

      圖5 輸入信號2.5 V時累積總劑量對AD574輸出碼值翻轉(zhuǎn)的影響Fig.5 Influence of TID on SEU output code values at input signal 2.5 V for ADCAD574

      3 討論

      當(dāng)激光輻照改變AD574內(nèi)部逐次逼近寄存器(SAR)結(jié)構(gòu)邏輯狀態(tài)時,就會導(dǎo)致SEU的發(fā)生,這種改變可以分為直接改變和間接改變。直接改變是激光掃描到SAR電路時,直接改變邏輯存儲狀態(tài),使存儲出現(xiàn)0到1或1到0的變化,引起SEU。間接改變是激光輻照與SAR相連的比較器,可能導(dǎo)致電壓比較器出現(xiàn)SET并進(jìn)一步傳導(dǎo)到SAR電路,從而改變輸出碼值并引起SEU。ADC電路輸出信號為數(shù)字信號,所以單粒子形態(tài)為SEU。在分析SEU起因時,有必要對內(nèi)部模擬單元的單粒子效應(yīng)進(jìn)行分析,例如電壓比較器[19]。電壓比較器的輸出信號為模擬信號,對應(yīng)的單粒子形態(tài)為SET。前期針對電壓比較器TID與SET協(xié)合效應(yīng)的研究結(jié)果顯示,低電平輸出時,TID會增加電壓比較器SET的幅值和脈沖持續(xù)時間[20-23],如圖6~7所示。圖6中是激光掃描同一位置產(chǎn)生的三種SET波形,累積電離輻射后,電壓比較器的幅值由5 V增加到9 V,脈沖寬度由0.5μs展寬到3μs。累積電離輻射后,電壓比較器SET更易傳播到存儲電路,使低電平上升到高電平,引起ADC電路的SEU次數(shù)增多。

      圖6 低電平輸出偏置時電壓比較器的典型單粒子瞬態(tài)波形:(a)未累積總劑量;(b)低劑量率10?4 Gy(Si)/s輻照Fig.6 Typical waveform of the SET in voltage comparator with low-level output:(a)unirradiated;(b)irradiated with LDR of 10?4 Gy(Si)/s

      圖7 低電平輸出時電壓比較器單粒子瞬態(tài)脈寬-幅值統(tǒng)計分布Fig.7 Amplitude width statistical distribution of the SET in voltage comparator with low level

      4 結(jié)論

      累積400 Gy(Si)電離劑量后,AD574的TID-SEU試驗結(jié)果表明,累積電離劑量會對雙極工藝ADC的輸出碼值翻轉(zhuǎn)產(chǎn)生影響,主要表現(xiàn)為輸出碼值翻轉(zhuǎn)分布及次數(shù)的改變,在輸入模擬信號為0 V、1 V、2.5 V的條件下,輸出碼值的翻轉(zhuǎn)均向中心碼值的右側(cè)漂移,導(dǎo)致大于中心碼值位置的翻轉(zhuǎn)次數(shù)增大。當(dāng)激光掃描到SAR、與之相連的比較器時,會導(dǎo)致ADC輸出碼值的翻轉(zhuǎn),由于比較器在累積電離劑量后單粒子瞬態(tài)幅值和寬度顯著增大,會引起與之相連的SAR狀態(tài)改變,從而導(dǎo)致輸出碼值的翻轉(zhuǎn)。累積電離總劑量后比較器單粒子瞬態(tài)敏感性的增加,有可能導(dǎo)致ADC輸出碼值翻轉(zhuǎn)的分布及次數(shù)發(fā)生變化。由于ADC電路結(jié)構(gòu)復(fù)雜,需要進(jìn)一步借助仿真手段深入分析ADC的TID-SEU協(xié)合效應(yīng)影響機(jī)制。

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